特許 5967329出願番号 特願 2016-504819
硬質皮膜、硬質皮膜被覆部材、それらの製造方法、及び硬質皮膜の製造に用いるターゲット及びその製造方法
出願人 日立ツール株式会社（識別番号 233066）
2026年 特許公開件数ランキング 1510位 10件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 1048位 14件（※）
公報発行日 2016年8月10
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5967329 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
従って、本発明の第一の目的は、従来の(AlTi)NO皮膜より優れた耐酸化性及び耐摩耗性を有し、長寿命である(AlTiW)NO皮膜を提供することである。 本発明の第二の目的は、従来の(AlTi)NO皮膜より優れた耐酸化性及び耐摩耗性を有し、長寿命である(AlTiW)NO皮膜を形成した硬質皮膜被覆部材（切削工具、金型等）を提供することである。 本発明の第三の目的は、かかる(AlTiW)NO皮膜及び前記硬質皮膜被覆部材を製造する方法を提供することである。 本発明の第四の目的は、かかる(AlTiW)NO皮膜を製造するのに用いるターゲット及びその製造方法を提供することである。課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】本発明の硬質皮膜の形成に使用し得るアークイオンプレーティング装置の一例を示す正面図である。
【図2】本発明の硬質皮膜形成時にアーク放電式蒸発源に印加するパルスアーク電流波形の一例を示すグラフである。
【図3】実施例1の硬質皮膜被覆工具の断面を示す走査型電子顕微鏡写真（倍率：25,000倍）である。
【図4】実施例1の(AlTiW)NO皮膜の断面3ヶ所のTiの結合状態を示すX線光電子分光スペクトルを示すグラフである。
【図5】実施例1の(AlTiW)NO皮膜の断面3ヶ所のWの結合状態を示すX線光電子分光スペクトルを示すグラフである。
【図6】実施例1の(AlTiW)NO皮膜の断面3ヶ所のAlの結合状態を示すX線光電子分光スペクトルを示すグラフである。
【図7】実施例1の(AlTiW)NO皮膜のX線回折パターンを示すグラフである。
【図8】WC基超硬合金基体と硬質皮膜との間に改質層を有する実施例1の硬質皮膜被覆部材（インサート）における改質層近傍の断面を示す透過型電子顕微鏡写真（倍率：3,600,000倍）である。
【図9(a)】図8の透過型電子顕微鏡写真の概略図である。
【図9(b)】改質層の平均厚さを求める方法を示す概略図である。
【図10】実施例1の改質層のナノビーム回折像から結晶構造を解析した結果を示す図である。
【図11】実施例1の(AlTiW)NO皮膜のナノビーム回折像から結晶構造を解析した結果を示す一例である。
【図12】実施例1の改質層の断面のエネルギー分散型X線分析により得られたスペクトルを示すグラフである。
【図13】実施例1の(AlTiW)NO皮膜の制限視野回折像を示す写真である。
【図14】本発明の硬質皮膜被覆部材を構成するインサート基体の一例を示す斜視図である。
【図15】インサートを装着した刃先交換式回転工具の一例を示す概略図である。
【図16】実施例1の(AlTiW)NO皮膜の表面を示す走査型電子顕微鏡写真（倍率：3,000倍）である。
【図17】比較例19の(AlTiW)NO皮膜の表面を示す走査型電子顕微鏡写真（倍率：3,000倍）である。
選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図
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