特許 5968327 反射物品及びこれを作製する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5968327

(24)【登録日】2016年7月15日

(45)【発行日】2016年8月10日

(54)【発明の名称】反射物品及びこれを作製する方法

(51)【国際特許分類】

   B32B 15/08 20060101AFI20160728BHJP

   G02B 5/08 20060101ALI20160728BHJP

【ＦＩ】

   B32B15/08 101Z

   G02B5/08 A

【請求項の数】2

【全頁数】34

(21)【出願番号】特願2013-537723(P2013-537723)

(86)(22)【出願日】2011年10月28日

(65)【公表番号】特表2014-501639(P2014-501639A)

(43)【公表日】2014年1月23日

(86)【国際出願番号】US2011058209

(87)【国際公開番号】WO2012061211

(87)【国際公開日】20120510

【審査請求日】2014年9月2日

(31)【優先権主張番号】61/409,210

(32)【優先日】2010年11月2日

(33)【優先権主張国】US

(73)【特許権者】

【識別番号】505005049

【氏名又は名称】スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100128381

【弁理士】

【氏名又は名称】清水 義憲

(74)【代理人】

【識別番号】100162640

【弁理士】

【氏名又は名称】柳 康樹

(72)【発明者】

【氏名】バーティ， ヴィヴェーク

(72)【発明者】

【氏名】カタレ， ラジェッシュ ケー．

(72)【発明者】

【氏名】クリア， スザンナ シー．

(72)【発明者】

【氏名】アイヤル， スレシュ

【審査官】 馳平 裕美

(56)【参考文献】

【文献】 特開昭６１−１５４９４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第０５０３５９４０（ＵＳ，Ａ）

【文献】 特表２００８−５０８３９４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｃ０９Ｊ １／００−２０１／１０

Ｇ０２Ｂ ５／００−５／０８、５／１０−５／１３６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

反射物品であって、
第１及び第２の表面を有する基層であって、前記基層が、周囲温度で非粘着性であり、ブロックコポリマーを含み、前記ブロックコポリマーは、メタクリレート、アクリレート、スチレン、又はそれらの組み合わせを含む第１のモノエチレン性不飽和モノマーからそれぞれ誘導された少なくとも２つのエンドブロックポリマー単位を含み、前記エンドブロックはそれぞれ少なくとも摂氏５０度のガラス転移温度を有し、前記ブロックコポリマーは、メタクリレート、アクリレート、ビニルエステル、又はそれらの組み合わせを含む第２のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導された少なくとも１つのミッドブロックポリマー単位を含み、前記ミッドブロックのそれぞれは摂氏２０度以下のガラス転移温度を有する、基層と、
前記第２の表面の少なくとも一部にわたって延在する金属層と、を備え、
前記基層と前記金属層との間に結合層を含み、前記結合層が金属酸化物を含む、反射物品。

【請求項2】

反射物品であって、
第１及び第２の表面を有する基層であって、前記基層は、少なくとも第１のポリマー単位と第２のポリマー単位とを有するランダムコポリマーを含み、前記第１のポリマー単位は、メタクリレート、アクリレート、スチレン、又はそれらの組み合わせを含む第１のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導され、少なくとも摂氏５０度のガラス転移温度を有し、前記第２のポリマー単位は、メタクリレート、アクリレート、ビニルエステル、又はそれらの組み合わせを含む第２のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導され、摂氏２０度以下のガラス転移温度を有する、基層と、
前記第１の表面の少なくとも一部にわたって延在し、ポリ（メチルメタクリレート）の層である上層と、
前記第２の表面の少なくとも一部にわたって延在する金属層と、を備える、反射物品。

【発明の詳細な説明】

【発明の詳細な説明】

【0001】

［１．技術分野］
反射物品及び関連する製造方法が提供される。より具体的には、提供される反射物品及びその製造方法は、化粧品、パッケージング、及び太陽光反射体用途に使用され得る。

【0002】

［２．関連技術の説明］
再生可能エネルギーは、太陽光、風、雨、潮汐、地熱など、補充が可能な天然資源から誘導されるエネルギーである。再生可能エネルギーの需要は、テクノロジーの進歩と世界人口の増大につれて大幅に増大している。今日のエネルギー消費の大半は化石燃料が供給しているが、化石燃料は再生可能ではない。これら化石燃料に対する世界的な依存については、枯渇に関する懸念だけでなく、これら燃料を燃焼させた結果生じる排出物質に伴う環境面の懸念も提起されている。これらの懸念の結果、世界中の国々が大規模及び小規模両方の再生可能エネルギー源の開発に取り組んでいる。現在、見込みのあるエネルギー源の１つが太陽光である。世界的に、現在、何百万軒もの家庭が、太陽光起電システムから電力を得ている。

【0003】

集中型太陽光発電プラントは、太陽放射線を集めることによって直接的又は間接的にエンジンの高温側を供給し、これが発電に使用される。このシステムでは、システム設計によって指示されている複数の形状の鏡面を利用する。この形状には、平面鏡、パラボラディッシュ、及びパラボラトラフ、その他が挙げられる。これらの反射表面が、太陽光を受容器に集中させる。これが作業流体（例えば、合成オイル又は融解塩）を加熱する。いくつかの場合において、この作業流体は発電を行うエンジンを駆動するものであり、また他の場合において、この作業流体は熱交換器を通過して蒸気を生成し、これを用いて蒸気タービンを動かし、発電を行う。

【0004】

太陽熱システムは、太陽放射線を集めて水を加熱し、又は産業用プロセスにおいてプロセスストリームを加熱する。いくつかの太陽熱設計では反射鏡を利用して、水又は供給ストリームを含む受容器に太陽光を集中させる。この作動原理は集中型太陽光発電プラントに非常に似ているが、この太陽光の集中、そしてすなわち作動温度は、太陽光発電プラントほど高温ではない。

【0005】

太陽熱システムの需要増大に伴い、この用途の要件を満たすことができる反射デバイスと材料の需要が増大している。これらの太陽光反射体テクノロジーには、ガラス鏡、アルミ表面鏡、及び金属化ポリマーフィルムが挙げられる。これらのうち、金属化ポリマーフィルムは、軽量であり、設計の柔軟性を提供し、従来のガラス鏡よりも安価な設置システム設計が潜在的に可能になるため、特に魅力的である。

【0006】

これらの反射デバイス及び材料のための他の重要な商業的用途には、光起電集光装置、建物の自然照明、デジタル看板、自動車用途（ヘッドライトリフレクターなど）、及び住宅用光リフレクターが挙げられる。金属化フィルムは、化粧品用途、又は、食品製品を気体及び光線による劣化から防ぐ食品パッケージにも更に使用することができる。反射フィルムシートは、博物館及び文書保管機関でも、コレクションを光線による損傷から防ぐために更に使用することができる。

【0007】

［発明の概要］
金属化ポリマー反射フィルムを設計及び製造する際の技術的な課題は、厳しい環境条件に曝されたときの長期的な耐久性を達成することである。機械的特性、光学的透明度、腐食、紫外線安定性、及び屋外気候条件に対する耐性は全て、長期間の稼働にわたって材料が徐々に劣化していくことに寄与し得る要素である。特に困難な点の１つは、特定の透明な、環境的に耐久性の高いポリマー外面と、金属反射性表面との間に、良好な接着を確保することに関係する。

【0008】

比較的ガラス転移温度の低いポリマー単位と、比較的ガラス転移温度の高いポリマー単位とを組み合わせたコポリマーを含んだ層を使用することによって、この課題を克服したソリューションが提供される。これらのコポリマーは、自己支持性基層として、又は分離したポリマー上層と金属層との間に配置された有機結合層として、使用されてもよい。これらのコポリマーは、有利なように、例えば、ポリ（メチルメタクリレート）などの高耐候性を備えたポリマー上での反射性コーティングの接着を顕著に強化することが見出された。加えて、これらの材料はまた、十分な度合の耐候性、光学的透明性、及び紫外線安定性を呈し得る。これらのコポリマーは、界面位置又は界面近くでの接着力喪失をもたらす界面近くに存在する機械的応力を、拡散することが見出された。

【0009】

一態様において、反射物品が提供される。この反射物品は、第１及び第２の表面を有する基層を含み、この基層は、周囲温度で非粘着性であり、ブロックコポリマーを含み、更にこのブロックコポリマーは、メタクリレート、アクリレート、スチレン、又はそれらの組み合わせを含む第１のモノエチレン性不飽和モノマーからそれぞれ誘導された少なくとも２つのエンドブロックポリマー単位を有し、エンドブロックはそれぞれ少なくとも摂氏５０度のガラス転移温度を有し、このブロックコポリマーは、メタクリレート、アクリレート、ビニルエステル、又はそれらの組み合わせを含む第２のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導された少なくとも１つのミッドブロックポリマー単位を含み、このミッドブロックは摂氏２０度以下のガラス転移温度を有し、並びに、この反射物品は、第２の表面の少なくとも一部にわたって延在する金属層と、を備える。

【0010】

別の一態様において、反射物品が提供され、この反射物品は、第１及び第２の表面を有する基層を含み、この基層は、少なくとも第１のポリマー単位と第２のポリマー単位とを備えたランダムコポリマーを含み、この第１のポリマー単位は、メタクリレート、アクリレート、スチレン、又はそれらの組み合わせを含む第１のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導され、少なくとも摂氏５０度のガラス転移温度を有し、この第２のポリマー単位は、メタクリレート、アクリレート、ビニルエステル、又はそれらの組み合わせを含む第２のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導され、摂氏２０度以下のガラス転移温度を有し、並びにこの反射物品は、第１の表面の少なくとも部分的にわたって延在しポリ（メチルメタクリレート）を含む上層と、第２の表面の少なくとも一部にわたって延在する金属層と、を備える。

【0011】

更に別の態様において、反射物品の製造方法が提供され、この方法は、第１及び第２の表面を有する基層を提供することを含み、この基層は、周囲温度で非粘着性であり、ブロックコポリマーを含み、このブロックコポリマーは、メタクリレート、アクリレート、スチレン、又はそれらの組み合わせを含む第１のモノエチレン性不飽和モノマーからそれぞれ誘導され、それぞれ少なくとも摂氏５０度のガラス転移温度を有する少なくとも２つのエンドブロックポリマー単位と、メタクリレート、アクリレート、ビニルエステル、又はそれらの組み合わせを含む第２のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導され、それぞれ摂氏２０度以下のガラス転移温度を有する少なくとも１つのミッドブロックポリマー単位と、を含むことと、並びに、この方法は、第２の表面に沿って金属層を適用して反射面を提供することと、を含む。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】一実施形態による反射物品の層を示す断面図。

【図2】別の一実施形態による反射物品の層を示す断面図。

【図3】更に別の一実施形態による反射物品の層を示す断面図。

【0013】

［好ましい形態の詳細な説明］
本明細書に提供されるのは、反射物品及び関係するその製造方法である。これらの反射物品には、１つ以上の金属層に接触した、ブロックコポリマー又はランダムコポリマーを含む少なくとも１つの層が含まれる。これらの物品は概ね反射用途に使用することを目的としているが、これは本発明を不当に制限するものとして見なされるべきではない。例えば、これら物品は食品保存又は蒸気バリア用途などの非反射用途も想到される。

【0014】

「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」なる用語は、述べられる要素の１以上を意味するうえで「少なくとも１つの」と互換可能に用いられる。

【0015】

記述される範囲は、端点と、端点の間の全ての数が含まれる。例えば、１〜１０の範囲は、１、１０、及び１〜１０の全ての数字を含む。

【0016】

用語「周囲温度」は、摂氏２０度〜摂氏２５の範囲の温度を指す。

【0017】

ブロックコポリマー
いくつかの実施形態において、提供される反射物品は、非粘着性基層を有し、これには１つ以上のブロックコポリマーが含まれる。

【0018】

本明細書で使用する場合、用語「ブロックコポリマー」は、複数の別種のポリマーセグメント（すなわち「ブロック」）が互いに共有結合しているポリマー材料を指す。ブロックコポリマーは、（少なくとも）２つの異なるポリマーブロックを含み、これらは一般にＡブロック及びＢブロックと呼ばれる。ＡブロックとＢブロックは概して、異なるガラス転移温度を備えた化学的に異なる組成を有する。

【0019】

更に、ＡブロックとＢブロックはそれぞれ、複数の固有のポリマー単位を含む。Ａブロックポリマー単位並びにＢブロックポリマー単位は、一般にモノエチレン性不飽和モノマーから誘導される。それぞれのポリマーブロック及び得られたブロックコポリマーは、後続の水素化を必要としない飽和ポリマー骨格を有する。

【0020】

「ＡＢＡ」三元ブロックコポリマーは、１つのＢミッドブロックに共有結合した一対のＡエンドブロックを含む。本明細書で使用する場合、用語「エンドブロック」とは、ブロックコポリマーの末端部を意味し、用語「ミッドブロック」とは、ブロックコポリマーの中央部を意味する。用語「Ａブロック」及び「Ａエンドブロック」は、本明細書では同じ意味で用いられる。同様に、用語「Ｂブロック」及び「Ｂエンドブロック」は、本明細書では同じ意味で用いられる。

【0021】

少なくとも２つのＡブロック及び少なくとも１つのＢブロックを備えたブロックコポリマーは、更に、式（Ａ−Ｂ）−部分を少なくとも３つ有する星形ブロックコポリマーでもあり得る。星形ブロックコポリマーはしばしば、様々な枝を伸ばしている中央部を有する。これらの場合において、Ｂブロックは通常、星形ブロックコポリマーの中央部にあり、Ａブロックは星形ブロックコポリマーの末端部にある。

【0022】

好ましい実施形態において、ＡブロックはＢブロックよりも剛性が高い。すなわち、ＡブロックはＢブロックよりも高いガラス転移温度及び剛性を有する。本発明で使用する場合、用語「ガラス転移温度」又は「Ｔ_ｇ」とは、ポリマー材料がガラス状態からゴム状態へと遷移する温度を意味する。ガラス状態は通常、材料、即ち、例えば、脆く、硬く、剛性の、又はこれらの組み合わせであるものを伴う。対照的に、ゴム状態は通常、可撓性及び／又はエラストマー系の材料を伴う。Ｂブロックは一般に軟性ブロックを意味し、Ａブロックは硬性ブロックを意味する。

【0023】

ガラス転移温度は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）又は動的機械分析（ＤＭＡ）などの方法を使用して決定することができる。好ましくは、Ａブロックはガラス転移温度が少なくとも摂氏５０度であり、Ｂブロックはガラス遷移温度が摂氏２０度以下である。代表的なブロックコポリマーにおいて、ＡブロックＴ_ｇが少なくとも摂氏６０度、少なくとも摂氏８０度、少なくとも摂氏１００度、又は少なくとも摂氏１２０度であり、一方、Ｂブロックはガラス転移温度が摂氏１０度以下、摂氏０度以下、摂氏−５度以下、又は摂氏−１０度以下である。

【0024】

いくつかの実施形態において、Ａブロック構成要素は熱可塑性材料であり、Ｂブロック構成要素はエラストマー材料である。本発明で使用する場合、用語「熱可塑性」とは、加熱した際に流動し、冷却して室温に戻した際にその最初の状態に戻るポリマー材料を意味する。本発明で使用する場合、用語「エラストマー」とは、その最初の長さの少なくとも２倍まで延伸することができ、解放した際にほぼその最初の長さまで縮むポリマー物質を意味する。

【0025】

好ましくは、Ａブロックの溶解度パラメータは、Ｂブロックの溶解度パラメータとは実質的に異なる。換言すれば、Ａブロックは典型的にＢブロックと融和性又は相溶性ではなく、これにより一般に、ＡブロックとＢブロックの局部的相分離（又は「ミクロ相分離」）を生じる。ミクロ相分離は、ブロックコポリマー材料のエラストマー特性及び寸法安定性に有利に作用する可能性がある。

【0026】

いくつかの実施形態において、ブロックコポリマーは、少なくとも摂氏約２０度〜摂氏約１５０度の範囲の温度において、多相モルホロジーを有する。ブロックコポリマーは、より軟らかくエラストマー系のＢブロックのマトリックス内でのＡブロックドメイン（例えば、ナノドメイン）を強化する、異なる領域を有することができる。例えば、ブロックコポリマーは、実質的に連続的なＢブロック相内に、別個の、不連続なＡブロック相を有することができる。このようないくつかの実施例では、Ａブロックポリマー単位の濃度は、ブロックコポリマーの約３５重量％以下である。Ａブロックは通常、ブロックコポリマーに構造強度及び結合力を提供する。

【0027】

Ａブロックポリマー単位に好適なモノエチレン性不飽和モノマーは、好ましくは、反応させてホモポリマーを形成させた際に、少なくとも摂氏５０度のＴ_ｇを有する。多くの実施例において、Ａブロックポリマー単位に好適なモノマーは、反応させてホモポリマーを形成させた際に、少なくとも摂氏６０度、少なくとも摂氏８０度、少なくとも摂氏１００度、又は少なくとも摂氏１２０度のＴ_ｇを有する。これらのホモポリマーのＴ_ｇは、最高摂氏２００度、又は最高摂氏１５０度であり得る。これらのホモポリマーのＴ_ｇは例えば、摂氏５０度〜摂氏２００度、摂氏５０度〜摂氏１５０度、摂氏６０度〜摂氏１５０度、摂氏８０度〜摂氏１５０度、又は摂氏１００度〜摂氏１５０度の範囲であり得る。反応させてホモポリマーを形成させた際に少なくとも摂氏５０度のＴ_ｇを有するこれらモノマーに加えて、ＡブロックのＴ_ｇを少なくとも摂氏５０度に維持しながら、他のモノマーも所望によりＡブロックに含めることができる。

【0028】

Ａブロックポリマー単位は、メタクリレートモノマー、スチレン系モノマー、又はこれらの混合物から誘導され得る。即ち、Ａブロックポリマー単位は、メタクリレートモノマー、スチレン系モノマー、又はこれらの混合物から選択されるモノエチレン性不飽和モノマーの反応生成物であり得る。

【0029】

Ａブロックポリマー単位を形成するために使用されるモノマーの説明をするために本発明で使用する場合、用語「これらの混合物」とは、２種以上のタイプのモノマー（例えば、メタクリレート及びスチレン）又は２種以上の同一タイプのモノマー（例えば、２種の異なったメタクリレート）を混合することができることを意味する。ブロックコポリマーのＡブロックの少なくとも２つは、同一であるか又は異なっていてもよい。多くのブロックコポリマーにおいて、Ａブロックポリマー単位の全てが、同一のモノマー又はモノマー混合物から誘導される。

【0030】

いくつかの実施形態において、メタクリレートモノマーが反応して、Ａブロックが形成される。即ち、Ａブロックはメタクリレートモノマーから誘導される。メタクリレートモノマーの様々な組み合わせを使用して、少なくとも摂氏５０度のＴ_ｇを有するＡブロックを提供することができる。メタクリレートモノマーは、例えば、式（Ｉ）の、アルキルメタクリレート、アリールメタクリレート、又はアラルキルメタクリレートであり得る。

【0031】

【化1】

【0032】

式（Ｉ）において、Ｒ（１）はアルキル、アリール、又はアラルキル（すなわち、アリール基で置換されたアルキル）である。

【0033】

好適なアルキル基は、多くの場合、１〜６個の炭素原子、１〜４個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を有する。アルキル基が２個より多い炭素原子を有する場合、アルキル基は分枝状又は環状であることができる。好適なアリール基は、多くの場合、６〜１２個の炭素原子を有する。好適なアラルキル基は、多くの場合、７〜１８個の炭素原子を有する。

【0034】

式（Ｉ）の代表的なアルキルメタクリレートとしては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−メタクリル酸ブチル、及びシクロヘキシルメタクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。式（Ｉ）のモノマーに加えて、イソボルニルメタクリレートを使用することができる。式（Ｉ）の代表的なアリール（メタ）アクリレートとしては、フェニルメタクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。式（Ｉ）の代表的なアラルキルメタクリレートとしては、ベンジルメタクリレート及び２−フェノキシエチルメタクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。

【0035】

その他の実施形態において、Ａブロックポリマー単位は、スチレン系モノマーから誘導される。反応してＡブロックを形成することができる代表的なスチレン系モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、並びに２−メチルスチレン、４−メチルスチレン、エチルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、イソプロピルスチレン、及びジメチルスチレンなどの各種アルキル置換スチレンが挙げられるが、これらに限定されない。

【0036】

Ａブロックについて前述したモノマーに加えて、これらのポリマー単位は、５重量％以下の、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド、又はヒドロキシアルキルメタクリレートなどの極性モノマーを使用して調製することができる。例えば、Ａブロックの結合力及びガラス転移温度を調整するために、これらの極性モノマーを使用することができる。好ましくは、各ＡブロックのＴ_ｇは、極性モノマーを追加しても少なくとも摂氏５０度に留まる。Ａブロック内の極性モノマーから生じる極性基は、所望であれば、化学的又はイオン性架橋のための反応部位として機能できる。

【0037】

Ａブロックポリマー単位は、４重量％以下、３重量％以下、又は２重量％以下の極性モノマーを使用して調製することができる。しかし、多くの実施例では、Ａブロックポリマー単位は極性モノマーを本質的に含まないか又は全く含まない。

【0038】

本発明で使用する場合、用語「本質的に含まない」とは、極性モノマーに関する場合、存在する任意の極性モノマーが、Ａブロックポリマー単位を形成するために使用される選択されたモノマーの１種の中の不純物であることを意味する。

【0039】

極性モノマーの量は、Ａブロックポリマー単位を形成するために使用される反応混合物中モノマーの１重量％未満、０．５重量％未満、０．２重量％未満、又は０．１重量％未満である。

【0040】

Ａブロックポリマー単位は多くの場合、ホモポリマーである。代表的なＡブロックでは、ポリマー単位は、１〜６、１〜４、１〜３、１〜２、又は１個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキルメタクリレートモノマーから誘導される。いくつかのより具体的な実施例では、Ａブロックポリマー単位はメチルメタクリレートから誘導される（即ち、Ａブロックはポリ（メチルメタクリレート）である）。

【0041】

Ｂブロックポリマー単位での使用に好適なモノエチレン性不飽和モノマーは通常、反応させてホモポリマーを形成させた際に、摂氏２０度以下のＴ_ｇを有する。多くの実施例において、好適なＢブロックポリマー単位のモノマーは、反応させてホモポリマーを形成させた際に、摂氏１０度以下、摂氏０度以下、摂氏−５度以下、又は摂氏−１０度以下のＴ_ｇを有する。

【0042】

これらのホモポリマーのＴ_ｇはしばしば、少なくとも摂氏−８０度、少なくとも摂氏−７０度、少なくとも摂氏−６０度、又は少なくとも摂氏−５０度である。これらのホモポリマーのＴ_ｇは、例えば、摂氏−８０度〜摂氏２０度、摂氏−７０度〜摂氏１０度、摂氏−６０度〜摂氏０度、又は摂氏−６０度〜摂氏−１０度の範囲であり得る。反応させてホモポリマーを形成させた際に、摂氏２０度以下のＴ_ｇを有するこれらのモノマーに加え、他のモノマーも、ＢブロックのＴ_ｇを摂氏２０度以下に維持しつつ、Ｂブロックに含めることができる。

【0043】

Ｂミッドブロックポリマー単位は通常、（メタ）アクリレートモノマー、ビニルエステルモノマー、又はこれらの組み合わせから誘導される。即ち、Ｂミッドブロックポリマー単位は、（メタ）アクリレートモノマー、ビニルエステルモノマー、又はこれらの混合物から選択される第２のモノマーの反応生成物である。本発明で使用する場合、用語「（メタ）アクリレート」は、メタクリレートとアクリレートの両方を意味する。Ｂミッドブロックポリマー単位を形成するために、２種以上のタイプのモノマー（例えば、（メタ）アクリレート及びビニルエステル）又は２種以上の同一タイプのモノマー（例えば、２種の異なった（メタ）アクリレート）を組み合わせることができる。

【0044】

多くの実施形態では、アクリレートモノマーが反応して、Ｂブロックが形成される。

【0045】

アクリレートモノマーは、例えば、アルキルアクリレート又はヘテロアルキルアクリレートであることができる。

【0046】

Ｂブロックは多くの場合、式（ＩＩ）のアクリレートモノマーから誘導される。

【0047】

【化2】

【0048】

式（ＩＩ）において、Ｒ^２は、１〜２２個の炭素を有するアルキル又は２〜２０個の炭素を有するヘテロアルキル及び酸素又はイオウから選択される１〜６個のヘテロ原子である。

【0049】

アルキル基又はヘテロアルキル基は、線状、分枝状、環状、又はこれらの組み合わせであり得る。Ｂブロックポリマー単位を形成するために使用することができる式（ＩＩ）の代表的なアルキルアクリレートとしては、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、２−メチルブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、４−メチル−２−ペンチルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソノニルアクリレート、デシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソトリデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、及びドデシルアクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。Ｂブロックポリマー単位を形成するために使用することができる、式（ＩＩ）の代表的なヘテロアルキルアクリレートとしては、２−メトキシエチルアクリレート及び２−エトキシエチルアクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。

【0050】

６超〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキルメタクリレートなどのＢブロックを調製するために、いくつかのアルキルメタクリレートを使用することができる。代表的なアルキルメタクリレートとしては、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、及びラウリルメタクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。同様に、２−エトキシエチルメタクリレートなどのいくつかのヘテロアルキルメタクリレートもまた使用することができる。

【0051】

Ｂブロックに好適なポリマー単位は、式（ＩＩ）のモノマーから調製することができる。商業的に入手不可能な又は直接的に重合不可能な（メタ）アクリレートモノマーは、エステル化又はトランスエステル化反応によって得ることができる。例えば、市販の（メタ）アクリレートを加水分解し、次にアルコールでエステル化して、関心のある（メタ）アクリレートを得ることができる。あるいは、高級アルキル（メタ）アクリレートは、低級アルキル（メタ）アクリレートから、低級アルキル（メタ）アクリレートを高級アルキルアルコールと直接トランスエステル化することによって誘導することができる。

【0052】

更にその他の実施形態では、Ｂブロックポリマー単位は、ビニルエステルモノマーから誘導される。代表的なビニルエステルとしては、ビニルアセテート、ビニル２−エチル−ヘキサノエート、及びネオデカン酸ビニルが挙げられるが、これらに限定されない。

【0053】

Ｂブロックについて前述したモノマーに加えて、このポリマー単位は、５重量％以下の、アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（例えば、Ｎ−メチル−アクリルアミド）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド）、又はヒドロキシアルキルアクリレートなどの極性モノマーを使用して調製することができる。これらの極性モノマーを使用して、例えば、ＢブロックのＴ_ｇを摂氏２０度以下に維持しつつ、ガラス転移温度を調節することができる。更に、これらの極性モノマーは、所望する場合、化学的又はイオン性架橋のための反応部位として機能することができるに極性基をポリマー単位内にもたらすことができる。

【0054】

ポリマー単位は、４重量％以下、３重量％以下、又は２重量％以下の極性モノマーを使用して調製することができる。他の実施形態において、Ｂブロックポリマー単位は、極性モノマーを含まないか、又は実質的に含まない。本発明で使用する場合、用語「実質的に含まない」とは、極性モノマーに関する場合、存在する任意の極性モノマーが、Ｂブロックポリマー単位を形成するために使用される選択されたモノマーの１種の中の不純物であることを意味する。

【0055】

好ましくは、極性モノマーの量は、Ｂブロックポリマー単位を形成するために使用されるモノマーの１重量％未満、０．５重量％未満、０．２重量％未満、又は０．１重量％未満である。

【0056】

Ｂブロックポリマー単位はホモポリマーであり得る。Ｂブロックのいくつかの実施例では、ポリマー単位は、１〜２２、２〜２０、３〜２０、４〜２０、４〜１８、４〜１０、又は４〜６個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキルアクリレートから誘導することができる。アルキルアクリレートモノマーなどのアクリレートモノマーが形成するホモポリマーは、アルキルメタクリレートの対応物から得られるものよりも概ね剛性が低い。

【0057】

好ましくは、Ａブロック及びＢブロックの組成物及び対応するＴ_ｇが、非粘着性基層を提供する。非粘着性の基層は、取扱いと操作が容易であるため有利である。これにより、この基層を製造時にスタンドアローン層として使用することが容易になる。加えて、非粘着性基層ならば、その基層が反射フィルムの外側層であるときはいつでも、エンドユーザーがその反射フィルムを取り扱うことが容易になる。

【0058】

いくつかの基層組成物において、ブロックコポリマーは、メタクリレートモノマーから誘導されるＡブロックポリマー単位と、アクリレートモノマーから誘導されるＢブロックポリマー単位とを有する、ＡＢＡ三元ブロック（メタ）アクリレートブロックコポリマーである。例えば、Ａブロックポリマー単位は、アルキルメタクリレートモノマーから誘導することができ、Ｂブロックポリマー単位は、アルキルアクリレートモノマーから誘導することができる。

【0059】

いくつかのより具体的な実施例では、Ａブロックは、１〜６、１〜４、１〜３、又は１〜２個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキルメタクリレートから誘導され、Ｂブロックは、３〜２０、４〜２０、４〜１８、４〜１０、４〜６、又は４個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキルアクリレートから誘導される。例えば、Ａブロックは、メチルメタクリレートから誘導することができ、Ｂブロックは、４〜１０、４〜６、又は４個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキルアクリレートから誘導することができる。

【0060】

より具体的な実施例において、Ａブロックは、メチルメタクリレートから誘導することができ、Ｂブロックは、ｎ−ブチルアクリレートから誘導することができる。即ち、Ａブロックはポリ（メチルメタクリレート）であり、Ｂブロックはポリ（ｎ−ブチルアクリレート）である。

【0061】

所望により、Ｂブロックの重量％は、ブロックコポリマー中のＡブロックの重量パーセントに等しいか又はそれより大きい。Ａブロックが硬性ブロック、Ｂブロックが軟性ブロックと仮定すると、Ａブロックの量が多くなるほど、ブロックコポリマーの弾性率が増大する傾向になる。しかしながら、Ａブロックの量が多すぎる場合、ブロックコポリマーのモルホロジーは望ましい配置から反転することがあり、ここで、Ｂブロックは、連続相を形成し、ブロックコポリマーはエラストマー材料である。即ち、Ａブロックの量が多すぎる場合、コポリマーは、エラストマー材料よりも熱可塑性材料により類似した性質を有する傾向がある。

【0062】

好ましくは、ブロックコポリマーは、１０〜５０重量％のＡブロックポリマー単位及び５０〜９０重量％のＢブロックポリマー単位を含有する。例えば、ブロックコポリマーは、１０〜４０重量％のＡブロックポリマー単位及び６０〜９０重量％のＢブロックポリマー単位、１０〜３５重量％のＡブロックポリマー単位及び６５〜９０重量％のＢブロックポリマー単位、１５〜５０重量％のＡブロックポリマー単位及び５０〜８５重量％のＢブロックポリマー単位、１５〜３５重量％のＡブロックポリマー単位及び６５〜８５重量％のＢブロックポリマー単位、１０〜３０重量％のＡブロックポリマー単位及び７０〜９０重量％のＢブロックポリマー単位、１５〜３０重量％のＡブロックポリマー単位及び７０〜８５重量％のＢブロックポリマー単位、１５〜２５重量％のＡブロックポリマー単位及び７５〜８５重量％のＢブロックポリマー単位、又は１０〜２０重量％のＡブロックポリマー単位及び８０〜９０重量％のＢブロックポリマー単位を含有することができる。

【0063】

ブロックコポリマーは、任意の好適な分子量を有することができる。いくつかの実施形態において、ブロックコポリマーの分子量は、少なくとも２，０００ｇ／モル、少なくとも３，０００ｇ／モル、少なくとも５，０００ｇ／モル、少なくとも１０，０００ｇ／モル、少なくとも１５，０００ｇ／モル、少なくとも２０，０００ｇ／モル、少なくとも２５，０００ｇ／モル、少なくとも３０，０００ｇ／モル、少なくとも４０，０００ｇ／モル、又は少なくとも５０，０００ｇ／モルである。いくつかの実施形態において、ブロックコポリマーの分子量は、５００，０００ｇ／モル以下、４００，０００ｇ／モル以下、２００，０００ｇ／モル以下、１００，０００ｇ／モル以下、５０，０００ｇ／モル以下、又は３０，０００ｇ／モル以下である。

【0064】

例えば、ブロックコポリマーの分子量は、１，０００〜５００，０００ｇ／モルの範囲、３，０００〜５００，０００ｇ／モルの範囲、５，０００〜１００，０００ｇ／モルの範囲、５，０００〜５０，０００ｇ／モルの範囲、又は５，０００〜３０，０００ｇ／モルの範囲であり得る。

【0065】

分子量は通常、重量平均分子量として表される。任意の周知の技術を使用して、ブロックコポリマーを調製できる。ブロックコポリマー調製のいくつかの方法においては、欧州特許第ＥＰ ３４９ ２３２（Ａｎｄｒｕｓら）に記載の通り、イニファーターが使用される。しかし、用途によっては、イニファーターの使用を含まないブロックコポリマー調製法が好ましい場合があるが、これは、イニファーターが、光重合反応にて特に問題となる残留物を残す傾向があるためである。

【0066】

例えば、チオカルバメート（一般に使用されるイニファーター）が存在すると、得られたブロックコポリマーが屋外曝露分解をより起こしやすい場合がある。屋外曝露分解は、チオカルバメート残留物中の相対的に弱い炭素−イオウ結合に起因し得る。例えば、元素分析又は質量分析を使用すると、多くの場合、チオカルバメートの存在を検出することができる。このため、用途によっては、この弱い炭素−イオウ結合を形成しない他の方法を使用して、ブロックコポリマーを調製することが望ましい。

【0067】

ブロックコポリマーのいくつかの好適な製造方法は、リビング重合法である。本発明で使用する場合、用語「リビング重合」とは、伝搬する種が停止又は移動のいずれも生じない、重合技術、重合工程、又は重合反応を意味する。１００％転化後、追加のモノマーを加えると、更なる重合が生じ得る。

【0068】

リビングポリマーの分子量は、伝搬する種の数が変化しないため、転化率に応じて直線的に増大する。リビング重合法としては、例えば、リビングフリーラジカル重合法及びリビングアニオン重合法が挙げられる。リビングフリーラジカル重合反応の具体例としては、原子移動重合反応及び可逆的付加開裂連鎖移動重合反応が挙げられる。

【0069】

リビング重合法を使用して調製されたブロックコポリマーは、良好にコントロールされたブロックを有する傾向がある。本発明で使用する場合、用語「良好にコントロールされた」とは、ブロック及びブロックコポリマーの製造方法に関する場合、ブロックポリマー単位が以下の特性：コントロールされた分子量、低多分散性、十分に画定されたブロック、又は高純度を有するブロックのうちの少なくとも１つを有することを意味する。いくつかのブロック及びブロックコポリマーは、理論分子量に近い良好にコントロールされた分子量を有する。

【0070】

理論分子量とは、それぞれのブロックを形成するために使用されるモノマー及び反応開始剤のモル充填量を基準にして計算上の分子量を意味する。良好にコントロールされたブロック及びブロックコポリマーは多くの場合、理論分子量の約０．８〜１．２倍、又は理論分子量の約０．９〜１．１倍である重量平均分子量（Ｍ_ｗ）を有する。そのようなものとして、ブロックの分子量及び総ブロックの分子量を選択しかつ調製することができる。

【0071】

いくつかのブロック及びブロックコポリマーは、低多分散性を有する。本発明で使用する場合、用語「多分散性」は、分子量分布の尺度であり、ポリマーの数平均分子量（Ｍ_ｎ）で除した重量平均分子量（Ｍ_ｗ）を意味する。同一分子量を持つ材料は１．０の多分散度を有するのに対して、複数の分子量を持つ材料は１．０より大きい多分散度を有する。多分散度は、例えば、ゲル透過クロマトグラフィーを使用して決定することができる。

【0072】

良好にコントロールされたブロック及びブロックコポリマーは多くの場合、２．０以下、１．５以下、又は１．２以下の多分散度を有する。

【0073】

いくつかのブロックコポリマーは、十分に画定されたブロックを有する。即ち、Ａブロック及びＢブロックを含有する連続相の境界は十分に画定されている。

【0074】

これらの十分に画定されたブロックは、テーパーの付いた構造を本質的に含まない境界を有する。

【0075】

本発明で使用する場合、用語「テーパーの付いた構造」とは、Ａブロック及びＢブロックの両方に使用されるモノマーから誘導される構造を意味する。

【0076】

テーパーの付いた構造は、Ａブロック相及びＢブロック相の混合を増大させ、ブロックコポリマー、又はブロックコポリマーを含有する基層の、全体的な結合力を低下させ得る。リビングアニオン重合などの方法を使用して調製したブロックコポリマーは、テーパーの付いた構造を含まないか、又は実質的に含まない境界をもたらす傾向がある。

【0077】

ＡブロックとＢブロックとの間の明確な境界は多くの場合、化学的架橋を必要としないで全体的な結合力を増大させることができる物理的架橋の形成をもたらす。これら十分に画定されたブロックとは対照的に、イニファーターを使用して調製されたいくつかのブロックコポリマーは、テーパーの付いた構造を有する、より明確性の乏しいブロックを有する。

【0078】

所望により、ＡブロックとＢブロックは高純度を有する。例えば、Ａブロックは、Ｂブロックの調製に使用されるモノマーから誘導されたセグメントを実質的に含まないか、又は全く含まないことができる。同様に、Ｂブロックは、Ａブロックの調製に使用されるモノマーから誘導されたセグメントを実質的に含まないか、又は全く含まないことができる。

【0079】

リビング重合法は通常、非リビング又は疑似リビング重合法（例えば、イニファーターを使用する重合反応）を使用して調製されたブロックよりも、より立体規則性のブロック構造をもたらす。高度にシンジオタクチックな構造又はアイソタクチックな構造で示される立体規則性により、良好にコントロールされたブロック構造がもたらされる傾向があり、かつブロックのガラス転移温度に影響を与える傾向がある。

【0080】

例えば、リビング重合法を使用して合成したシンジオタクチックポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）は、従来の（即ち、非リビングの）重合法を使用して合成した同様のＰＭＭＡよりも摂氏約２０度〜摂氏約２５度高いガラス転移温度を有することができる。立体規則性は、例えば、核磁気共鳴分光法を使用して検出することができる。約７５％超の立体規則性を有する構造は多くの場合、リビング重合法を使用して得ることができる。

【0081】

リビング重合法がブロックを形成するために使用される場合、モノマーは概ね、不活性希釈剤（又は溶媒）の存在下で反応開始剤と接触させられる。不活性希釈剤は、熱伝達及び反応開始剤とモノマーとの混合を促進できる。任意の好適な不活性希釈剤を使用することができるが、飽和炭化水素、芳香族炭化水素、エーテル、エステル、ケトン、又はこれらの組み合わせが多くの場合、選択される。

【0082】

代表的な希釈剤としては、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の飽和脂肪族炭化水素及び脂環式炭化水素；トルエンなどの芳香族炭化水素；及びジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の脂肪族エーテル及び環状エーテル；エチルアセテート及びブチルアセテートなどのエステル；並びにアセトン、メチルエチルケトン等のケトンが挙げられるが、これらに限定されない。

【0083】

リビングアニオン重合法を使用してブロックコポリマーを調製する場合、簡略化した構造Ａ−ＭにてリビングＡブロックを表すが、ここで、Ｍは、リチウム、ナトリウム、又はカリウムなどの第Ｉ族金属から選択される反応開始剤フラグメントである。

【0084】

例えば、Ａブロックは、式（Ｉ）のメタクリレートモノマーを含む第１のモノマー組成物の重合反応生成物であり得る。Ｂブロックを形成するのに使用されるモノマーを含む第２のモノマー組成物をＡ−Ｍに追加して、リビング二元ブロック構造Ａ−Ｂ−Ｍを形成することができる。例えば、第２のモノマー組成物には、式（ＩＩ）によるモノマーを含めることができる。式（Ｉ）によるモノマーを含み得る第１のモノマー組成物の別の供給の追加と、それに続くリビングアニオン部位の脱離により、三元ブロック構造Ａ−Ｂ−Ａの形成をもたらすことができる。別の方法としては、リビング二元ブロック構造Ａ−Ｂ−Ｍを、二官能性又は多官能性カップリング剤を用いて結合させ、三元ブロック構造Ａ−Ｂ−Ａコポリマー又は（Ａ−Ｂ）［ｎ］−星形ブロックコポリマーを形成することができる。

【0085】

当技術分野において既知の任意の反応開始剤をリビングアニオン重合反応のために使用することができる。

【0086】

典型的な反応開始剤としては、有機リチウム化合物（例えば、エチルリチウム、ｎ−プロピルリチウム、イソ−プロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−オクチルリチウム、ｎ−デシルリチウム、フェニルリチウム、２−ナフチルリチウム、Ａ−ブチルフェニルリチウム、４−フェニルブチルリチウム、シクロヘキシルリチウム等）などのアルカリ金属炭化水素が挙げられる。このような反応開始剤は、リビングＡブロック又はリビングＢブロックの製造において有用であり得る。

【0087】

（メタ）アクリレートのリビングアニオン重合において、クラウンエーテル、又はリチウムエトキシレートなどの材料から選択される錯化配位子を添加することにより、アニオンの反応性を抑えることができる。リビングアニオン重合反応に好適な二官能性反応開始剤としては、１，１，４，４−テトラフェニル−１，４−ジリチオブタン；１，１，４，４−テトラフェニル−１，４−ジリチオイソブタン；並びにナフタレンリチウム、ナフタレンナトリウム、ナフタレンカリウム、及びこれらの同族体が挙げられるが、これらに限定されない。

【0088】

その他の好適な二官能性反応開始剤としては、アルキルリチウムのジビニル化合物との付加反応により調製されるようなジリチウム化合物が挙げられる。例えば、アルキルリチウムは、１，３−ビス（１−フェニルエテニル）ベンゼン又はｍ−ジイソプロペニルベンゼンと反応することができる。

【0089】

リビングアニオン重合反応のためには、通常、反応開始剤のアニオンによる特徴的な色が観察されるうちは、少量の（例えば、一度に一滴）反応開始剤をモノマーに添加することが望ましい。次に、計算量の反応開始剤を加えて、所望の分子量のポリマーを製造することができる。多くの場合、あらかじめ少量を添加することにより、反応開始剤と反応する汚染物質が破壊され、重合反応をより良好にコントロールできる。

【0090】

使用する重合温度は、重合させられるモノマー及び使用する重合法のタイプに依存する。一般に、この反応は摂氏約−１００度〜摂氏約１５０度で実施することができる。リビングアニオン重合反応については、この温度はしばしば摂氏約−８０度〜摂氏約２０度である。リビングフリーラジカル重合反応については、この温度はしばしば摂氏約２０度〜摂氏約１５０度である。リビングフリーラジカル重合反応は、リビングアニオン重合反応よりも温度変化に対してより感受性が低い傾向がある。

【0091】

リビングアニオン重合法を使用したブロックコポリマー調製法は、例えば、米国特許第６，７３４，２５６号（Ｅｖｅｒａｅｒｔｓら）、同第７，０８４，２０９号（Ｅｖｅｒａｅｒｔｓら）、同第６，８０６，３２０号（Ｅｖｅｒａｅｒｔｓら）、及び同第７，２５５，９２０号（Ｅｖｅｒａｅｒｔｓら）に詳しく記載されており、これら全体が、本明細書に参考として組み込まれる。この重合法は、例えば、米国特許第６，６３０，５５４号（Ｈａｍａｄａら）及び同第６，９８４，１１４号（Ｋａｔｏら）、並びに、日本特許出願公開公報平１１−第３０２６１７号（Ｕｃｈｉｕｍｉら）及び同平１１−第３２３０７２号（Ｕｃｈｉｕｍｉら）に詳しく記載されている。

【0092】

一般的に、反応開始剤又はリビングアニオンを破壊し得る物質を排除するために、重合反応は、コントロールされた条件下で実施される。通常は、重合反応は、窒素、アルゴン、ヘリウム、又はこれらの組み合わせなどの不活性雰囲気中で実施される。反応がリビングアニオン重合の場合、無水条件が必要となり得る。

【0093】

好適なブロックコポリマーは、Ｋｕｒａｒａｙ Ｃｏ．，ＬＴＤ．（日本、東京）からＬＡポリマー（LA POLYMER）の商標名で購入することができる。これらのブロックコポリマーのいくつかは、ポリ（メチルメタクリレート）エンドブロックとポリ（ｎ−ブチルアクリレート）ミッドブロックとを備えた三元ブロックコポリマーである。いくつかの実施形態において、２種以上のブロックコポリマーが、基層組成物中に含まれる。例えば、異なる重量平均分子量を有する複数のブロックコポリマー、又は異なるブロック組成を有する複数のブロックコポリマーを使用することができる。

【0094】

異なる重量平均分子量を有する複数のブロックコポリマー、又は異なる量のＡブロックポリマー単位を有する複数のブロックコポリマーを使用することで、例えば、基層組成物の剪断強度を向上させることができる。

【0095】

異なる重量平均分子量を有する複数のブロックコポリマーが基層組成物に含まれている場合、重量平均分子量は任意の好適な量で変化し得る。場合によっては、第１ブロックコポリマーの分子量は、より大きな重量平均分子量を有する第２ブロックコポリマーから、少なくとも２５％、少なくとも５０％、少なくとも７５％、少なくとも１００％、少なくとも１５０％、又は少なくとも２００％だけ変えることができる。

【0096】

ブロックコポリマー混合物は、１０〜９０重量％の第１ブロックコポリマー及び１０〜９０重量％のより大きな重量平均分子量を有する第２ブロックコポリマー、２０〜８０重量％の第１ブロックコポリマー及び２０〜８０重量％のより大きな重量平均分子量を有する第２ブロックコポリマー、又は２５〜７５重量％の第１ブロックコポリマー及び２５〜７５重量％のより大きな重量平均分子量を有する第２ブロックコポリマーを含有できる。

【0097】

異なる濃度のＡブロックポリマー単位を有する複数のブロックコポリマーが基層組成物に含まれる場合、濃度は、任意の好適な量で異なり得る。場合によっては、濃度は、少なくとも２０％、少なくとも４０％、少なくとも６０％、少なくとも８０％、又は少なくとも１００％で変化し得る。

【0098】

ブロックコポリマー混合物は、１０〜９０重量％の第１ブロックコポリマー及び１０〜９０重量％のより多量のＡブロックを有する第２ブロックコポリマー又は２０〜８０重量％の第１ブロックコポリマー及び２０〜８０重量％のより多量のＡブロックを有する第２ブロックコポリマー又は２５〜７５重量％の第１ブロックコポリマー及び２５〜７５重量％のより多量のＡブロックを有する第２ブロックコポリマーを含有できる。

【0099】

ランダムコポリマー
いくつかの実施形態において、提示される反射物品は、少なくとも１つのランダムコポリマーを含む基層を有する。

【0100】

本明細書で使用する場合、用語「ランダムコポリマー」は、少なくとも２つの異なるポリマー単位（又は繰返し単位）を含み、それらがポリマー主鎖に沿って互いにランダムな順で共有結合している、ポリマー材料を意味する。ブロックコポリマーと同様に、ランダムコポリマーには、化学的に異なる２つ以上のポリマー単位が含まれる。更に、ランダムコポリマーのポリマー単位は、２つ以上のそれぞれ異なるモノエチレン性不飽和モノマーから誘導され、それぞれ異なるガラス転移温度を伴う。しかしながら、ブロックコポリマーとは異なり、ランダムコポリマーは別個のブロックに区分されてはおらず、ナノレベルにおいて互いに均一に散在しているポリマー単位を有する。

【0101】

ランダムコポリマーはまた、巨視的な特性においてブロックコポリマーとは異なっている。ブロックコポリマーはＡ及びＢブロックの不溶性に基づきミクロ相で分離可能であるが、ランダムコポリマーは均一なミクロ構造を有する。その結果、ランダムコポリマーは単一のガラス転移温度のみを呈し、一方ミクロ相分離したブロックコポリマーは２つ以上のガラス転移温度を呈する。

【0102】

ランダムコポリマーのガラス転移温度は概ね、それぞれのポリマー単位に伴うガラス転移温度の間にある。例えば、メチルメタクリレートとｎ−ブチルアクリレートのランダムコポリマーは、ポリ（メチルメタクリレート）ホモポリマーとポリ（ｎ−ブチルアクリレート）ホモポリマーそれぞれに対応するガラス転移温度の間にあるガラス転移温度を有する。望ましい場合は、ポリマー単位に伴うガラス転移温度とそれぞれの構成要素の重量比又は体積分率に基づいて、様々な理論式及び経験式を用いて近似することができる。

【0103】

本明細書に記述されるランダムコポリマーには、少なくとも、第１のポリマー単位Ａ及び第２ポリマー単位Ｂが含まれる。Ａポリマー単位は「硬性」の、剛性の高い構成要素であり、Ｂポリマー単位は「軟性」の、より剛性の低い構成要素である。Ａポリマー単位は、反応させてホモポリマーを形成させた際に、少なくとも５０℃のガラス転移温度を有する。Ｂポリマー単位は、反応させてホモポリマーを形成させた際に、２０℃以下のガラス転移温度を有する。換言すれば、Ａポリマー単位は少なくとも５０℃のガラス転移温度を伴い、Ｂポリマー単位は２０℃以下のガラス転移温度を伴う。

【0104】

代表的なランダムコポリマーにおいて、Ａポリマー単位は少なくとも６０℃、少なくとも８０℃、少なくとも１００℃、又は少なくとも１２０℃のガラス転移温度を伴い、一方、Ｂポリマー単位は、１０℃以下、０℃以下、−５℃以下、又は−１０℃以下のガラス転移温度を伴う。

【0105】

Ａポリマー単位は概ね、熱可塑性材料のホモポリマーを伴い、一方、Ｂポリマー単位は概ね、エラストマー材料のホモポリマーを伴う。更に、Ａ及びＢポリマー単位に伴う溶解度パラメータは、それぞれのＡ及びＢホモポリマーが互いに相溶性とならないよう、十分に異なっている。しかしながら、このランダムポリマー構造の結果、このランダムコポリマーはすべての組成物において均質なミクロ構造を呈する。

【0106】

Ａ及びＢポリマー単位の代表的な化学構造及び特性は、Ａブロック及びＢブロックポリマー単位について前述したものと同様であり、よってここでは繰り返さない。

【0107】

ランダムコポリマーにおいて、Ａポリマー単位の重量パーセントは概ね、Ｂポリマー単位の重量パーセントを上回る。Ａポリマー単位の量が多くなると、ランダムコポリマーの全体の弾性率が高くなる傾向になる。同時に、Ａポリマーブロックの量が多くなると、周囲温度でのランダムコポリマーの粘着度が低減する傾向になる。ランダムコポリマーを含んだ基層は、粘着性又は非粘着性であり得る。しかしながら、ブロックコポリマーを含む基層に関して前述したのと同じ理由で、基層は非粘着性であることが好ましい。

【0108】

ランダムコポリマーは通常、６０〜９５重量％のＡポリマー単位及び５〜４０重量％のＢポリマー単位を含有する。例えば、ブロックコポリマーは、６０〜９０重量％のＡポリマー単位及び１０〜４０重量％のＢポリマー単位、６０〜８５重量％のＡポリマー単位及び１５〜４０重量％のＢポリマー単位、６５〜９５重量％のＡポリマー単位及び５〜３５重量％のＢポリマー単位、６５〜９０重量％のＡポリマー単位及び１０〜３５重量％のＢポリマー単位、６５〜８５重量％のＡポリマー単位及び１５〜３５重量％のＢポリマー単位、７０〜９５重量％のＡポリマー単位及び５〜３０重量％のＢポリマー単位、７０〜９０重量％のＡポリマー単位及び１０〜２０重量％のＢポリマー単位、又は７０〜８５重量％のＡポリマー単位及び１５〜３０重量％のＢポリマー単位を含有することができる。

【0109】

前述のブロックコポリマー同様、ランダムコポリマーは任意の好適な分子量を有し得る。代表的な分子量は、ブロックコポリマーについてすでに詳細に列挙されており、ランダムコポリマーにも同様に適用される。加えて、低い多分散性を有するランダムコポリマーも想到される。好ましい実施形態において、ランダムコポリマーは２．０以下、１．５以下、又は１．２以下の多分散性を有する。

【0110】

リビング重合法（リビングアニオン重合技法及びリビングフリーラジカル重合技法を含む）を含むランダムコポリマーの好適な製造方法は、前述されている。ブロックコポリマーの合成は一般に、ＡモノマーとＢモノマーの順次追加を含むが、ただし、ランダムコポリマーの合成は一般に、Ａ及びＢモノマー両方を含む撹拌溶液に反応開始剤を加えること、又は、反応開始剤の撹拌溶液にＡ及びＢモノマー両方を同時に導入することを含む。有利なことにこれらの方法は、制御された分子量、低い多分散性、及び／又は高純度を備えたランダムコポリマーを製造する傾向にある。従来の非リビングのフリーラジカル重合技法も、ランダムコポリマー調製に使用することができる。

【0111】

好適なランダムコポリマーはまた、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｍｉｄｌａｎｄ、Ｍｉｃｈｉｇａｎ）、ＢＡＳＦ ＳＥ（Ｌｕｄｗｉｇｓｈａｆｅｎ、Ｇｅｒｍａｎｙ）、及びＴｈｅ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｏｕｒｃｅ，Ｉｎｃ．（Ｍｏｎｔｒｅａｌ、Ｃａｎａｄａ）からも市販されている。

【0112】

いくつかの実施形態において、２つ以上のランダムコポリマーを、本明細書に記述される基層組成物に含めることができる。例えば、異なる重量平均分子量又は異なる組成を有するＡ及びＢポリマー単位を有するランダムコポリマーを使用することができる。所望により、２つ以上のランダムコポリマーが、基層内の別個の層にされる。別の方法として、２つ以上のランダムコポリマーを混合して、均一なミクロ構造が提供される。この混合物が想到される場合、組成物中の差は、コポリマー層が互いに分離するほど大きくはないことが好ましい。有利なように、２つ以上のランダムコポリマーの組み合わせを使用して、基層組成物の剪断強度を調整することができる。

【0113】

いくつかの実施形態において、２つ以上のランダムコポリマーの分子量の差及び／又は組成の差は、ブロックコポリマーに関して前述に列記したものと同様である。よって、この記述はここでは繰り返さない。

【0114】

金属構成要素
提示される反射物品は１つ以上の金属層を含む。そのような物品は、高度の反射性を提供することに加え、製造の柔軟性も提供し得る。所望により、金属層は比較的薄い有機結合層又は無機結合層に適用することができ、この結合層がポリマー基層上に配置される。

【0115】

提示される反射物品について想到される金属層は、滑らかな表面を有し、これは鏡面でもあり得る。本明細書で使用する場合、用語「鏡面」は、入射光の方向と出射光の方向とが表面垂線に対して同じ角度を形成する、鏡のような光の反射を誘導する表面を意味する。この目的のために任意の反射性金属を使用することができるが、好ましい金属には銀、金、アルミニウム、銅、ニッケル、及びチタンが挙げられる。これらのうち、銀、アルミニウム及び金が特に好ましい。

【0116】

所望により、この反射物品の腐食の影響を軽減するため、１つ以上の層を追加することもできる。例えば、隣接する金属層の腐食を低減する犠牲陽極として使用するために、銀層の裏側に銅層を蒸着させることができる。

【0117】

金属層は、様々な方法を用いて基層に蒸着させることができる。好適な蒸着技法の例としては、スパッタコーティングによる物理的気相蒸着、電子ビーム又は加熱法による蒸発、イオン支援電子ビーム蒸発、及びこれらの組み合わせが挙げられる。望ましい場合は、金属製又はセラミック製のマスク又はシャッター機能を使用して、特定の領域の蒸着を制限することができる。

【0118】

金属層を形成するための特に好適な蒸着法は、スパッタリングによる物理的気相蒸着法（ＰＶＤ）である。この技法では、ターゲットの原子は、薄いフィルムを形成するよう基材上に衝突することができるように高エネルギー粒子ボンバードメントによって発射される。スパッタ蒸着に使用される高エネルギー粒子は、グロー放電によって、又は、例えば、電磁場をアルゴンガスに印加することによって生成される自己保持性プラズマによって、生成される。

【0119】

１つの代表的な方法において、蒸着プロセスは基層上に好適な層厚さの金属層を堆積するのに十分な持続時間、継続され、これにより金属層を形成する。別のオプションとして、銀以外の他の金属を使用してもよい。例えば、異なる金属からなる金属層を、その金属を含む好適な標的を用いることによって、同様に蒸着させることができる。

【0120】

反射物品及び組立て
反射物品は、金属組成物と共に、上述の少なくとも１つのブロックコポリマー組成物又はランダムコポリマー組成物を含んで提供される。本明細書で参照される全ての図は説明目的のために限定され、必ずしも縮尺通りに描かれていない。

【0121】

一実施形態による反射物品を図１に示し、これは数字１００によって広範に示す。図示のように、物品１００には、第１の表面１０４及び第２の表面１０６を含む基層１０２が含まれる。

【0122】

基層１０２には、周囲温度で非粘着性（非接着性）の三元ブロックコポリマーが含まれる。このブロックコポリマーは少なくとも２つのエンドブロックポリマー単位を有し、このそれぞれが、メタクリレート、アクリレート、スチレン、又はこれらの組み合わせを含む第１のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導される。このブロックコポリマーは１つのミッドブロックポリマー単位を有し、これはメタクリレート、アクリレート、ビニルエステル、又はこれらの組み合わせを含む第２のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導される。各エンドブロックはガラス転移温度が少なくとも摂氏５０度であり、ミッドブロックはガラス遷移温度が摂氏２０度以下である。

【0123】

別の方法として、基層１０２は、ブロックコポリマー／ホモポリマー混合物を含み得る。例えば、基層１０２には、Ａ又はＢブロックのいずれかに可溶性のホモポリマーと混合したＡ−Ｂ−Ａ三元ブロックコポリマーが含まれ得る。所望により、ホモポリマーはＡ又はＢブロックのいずれかに同一のポリマー単位を有する。１つ以上のホモポリマーのブロックコポリマー組成物への追加は、１つ又は両方のブロックを有利に可塑化又は硬化するのに利用することができる。好ましい実施形態において、このブロックコポリマーは、ポリ（メチルメタクリレート）Ａブロック及びポリ（ブチルアクリレート）Ｂブロックを含み、ポリ（メチルメタクリレート）ホモポリマーと混合される。

【0124】

ポリ（メチルメタクリレート）ホモポリマーをポリ（メチルメタクリレート）−ポリ（ブチルアクリレート）ブロックコポリマーと有利なように混合することにより、基層１０２の高度を、望ましい用途に合わせて調節することが可能になる。更なる有利な点として、ポリ（メチルメタクリレート）との混合により、全体の組成物の透明度又は加工性を実質的に損うことなく、硬度に対する調節が得られる。好ましくは、ホモポリマー／ブロックコポリマーの混合物は、混合物の全体の重量に対して、総ポリ（メチルメタクリレート）組成物を、少なくとも３０パーセント、少なくとも４０パーセント、又は少なくとも５０パーセント有する。好ましくは、ホモポリマー／ブロックコポリマーの混合物は、混合物の全体の重量に対して、総ポリ（メチルメタクリレート）組成物を、９５パーセント以下、９０パーセント以下、又は８０パーセント以下で有する。

【0125】

特に好適な非粘着性ブロックコポリマーには、ポリ（メチルメタクリレート）−ポリ（ｎ−ブチルアクリレート）−ポリ（メチルメタクリレート）（２５：５０：２５）三元ブロックコポリマーが挙げられる。これらの材料は以前、Ｋｕｒａｒａｙ Ｃｏ．，ＬＴＤから商品名ＬＡ ＰＯＬＹＭＥＲとして入手可能であった。本出願の提出日現在、２０１０年８月時点で、同社からブランド名ＫＵＲＡＲＩＴＹとして入手可能である。

【0126】

所望により、このブロックコポリマーは好適な紫外線吸収剤と組み合わせて、基層１０２の安定性を高めることができる。いくつかの実施形態において、このブロックコポリマーは紫外線吸収剤を含む。いくつかの実施形態において、このブロックコポリマーは、ブロックコポリマーと紫外線吸収剤の総重量に対して、０．５重量パーセント〜３．０重量パーセントの範囲の量の紫外線吸収剤を含む。ただし、ブロックコポリマーには、紫外線吸収剤を含める必要はないことに注意されたい。紫外線吸収剤は基層１０２の表面から分離され、隣接層に対する接着を阻害することがあるため、紫外線吸収剤を含まない組成物を使用することは有利であり得る。

【0127】

更なるオプションとして、ブロックコポリマーは、１つ以上のナノフィラーと組み合わせて、基層１０２の弾性率を調節することができる。例えば、二酸化ケイ素又は二酸化ジルコニウムなどのナノフィラーをブロックコポリマーに均一に分散させて、物品１００の全体的な剛性又は硬度を高めることができる。好ましい実施形態において、ナノフィラーはポリマーマトリックスと親和性になるよう表面修飾される。これにより、材料を張った際に光を散乱する多孔性の形成を回避するのに役立つ。

【0128】

ベース層１０２は更に、比較的高いＴ_ｇを備える第１のポリマー単位と、比較的低いＴ_ｇを備える第２ポリマー単位とを有する、ランダムコポリマーをも含み得る。この実施形態において、第１のポリマー単位は、メタクリレート、アクリレート、スチレン、又はそれらの組合せを含む第１のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導され、少なくとも摂氏５０度のガラス転移温度を伴い、更に第２のポリマー単位は、メタクリレート、アクリレート、ビニルエステル、又はそれらの組み合わせを含む第２のモノエチレン性不飽和モノマーから誘導され、摂氏２０度以下のガラス転移温度を伴う。

【0129】

特に好ましいランダムコポリマーにおいて、第１のポリマー単位はメチルメタクリレートであり、第２のポリマー単位はブチルアクリレートである。好ましくは、このランダムコポリマーは、ランダムコポリマーの重量に対して、メチルメタクリレート組成物を、少なくとも５０パーセント、少なくとも６０パーセント、少なくとも７０パーセント、又は少なくとも８０パーセント有する。好ましくは、このランダムコポリマーは、ランダムコポリマーの重量に対して、メチルメタクリレート組成物を、最高８０パーセント、最高８５パーセント、最高９０パーセント、又は最高９５パーセントで有する。

【0130】

いくつかの実施形態では、ベース層１０２は、少なくとも０．２５マイクロメートル、少なくとも０．４マイクロメートル、少なくとも０．６マイクロメートル、少なくとも０．８マイクロメートル、少なくとも１マイクロメートル、少なくとも５マイクロメートル、少なくとも１０マイクロメートル、少なくとも５０マイクロメートル、又は少なくとも６０マイクロメートルの厚さを有する。加えて、いくつかの実施形態において、基層１０２は、２００マイクロメートル以下、１５０マイクロメートル以下、１００マイクロメートル以下、５０マイクロメートル以下、２５マイクロメートル以下、１０マイクロメートル以下、５マイクロメートル以下、又は１マイクロメートル以下の厚さを有する。

【0131】

基層１０２の第２の表面１０６にわたって延在するのが、金属層１０８である。代表的な実施形態において、金属層１０８は元素状態の銀を含む。ただし、前述のように、アルミニウムなどの他の金属も使用することができる。好ましくは、金属層１０８と基層１０２との間の界面は、金属層１０８が鏡面（鏡のような面）を提供するのに十分な滑らかさを有する。

【0132】

金属層１０８は、基層１０２の第２の表面１０６全体にわたって延在している必要はない。望ましい場合は、蒸着プロセス中に基層１０２にマスクを使用して、基層１０２の所定の部分のみに金属層１０８が適用されるようにすることができる。基層１０２への金属層１０８のパターン化蒸着も可能である。

【0133】

所望により、図に示すように、第２の金属層１１０は第１の金属層１０８に接触し、これにわたって延在している。代表的な実施形態において、第２の金属層１１０は元素状態の銅を含む。犠牲陽極として作用する銅層を使用することで、耐腐食性及び屋外耐候性を強化した反射物品を提供することができる。別のアプローチとして、インコネル（鉄−ニッケル合金の一種）などの比較的不活性な合金を使用して、耐腐食性を強化することもできる。

【0134】

反射金属層は好ましくは、望ましい太陽光スペクトル量を反射するのに十分な厚さである。好ましい厚さは、金属層１０８、１１０の組成物によって異なり得る。例えば、金属層１０８、１１０は好ましくは、銀、アルミニウム、及び金などの金属については少なくとも約７５ナノメートル〜約１００ナノメートルの厚さであり、銅、ニッケル、及びチタンなどの金属については少なくとも約２０ナノメートル、又は少なくとも約３０ナノメートルの厚さである。

【0135】

いくつかの実施形態において、金属層１０８、１１０の一方又は両方が、少なくとも２５ナノメートル、少なくとも５０ナノメートル、少なくとも７５ナノメートル、少なくとも９０ナノメートル、又は少なくとも１００ナノメートルの厚さを有する。更に、いくつかの実施形態において、金属層１０８、１１０の一方又は両方が、１００ナノメートル以下、１１０ナノメートル以下、１２５ナノメートル以下、１５０ナノメートル以下、２００ナノメートル以下、３００ナノメートル以下、４００ナノメートル以下、又は５００ナノメートル以下の厚さを有する。

【0136】

前述のように、金属層１０８、１１０の一方又は両方が、化学気相蒸着、物理気相蒸着、及び蒸発を含む、当該技術分野において既知の任意の数の方法を用いて蒸着することができる。図には示されていないが、３層以上の金属層を使用してもよい。

【0137】

所望により、図には示されていないが、反射物品１００は支持基材（又はバックプレート）に接着して、好適な形状が反射物品１００に付与される。物品１００は、例えば、好適な接着剤を使用して、基材に接着することができる。いくつかの実施形態において、この接着剤は感圧接着剤（ＰＳＡ）である。本発明で使用する場合、用語「感圧性接着剤」とは、強力かつ持続性の粘着性、指圧以下での基材への接着性、及び基材から除去可能な十分な結合力を示す接着剤を意味する。代表的な感圧性接着剤には、ＰＣＴ国際公開特許ＷＯ ２００９／１４６２２７号（Ｊｏｓｅｐｈら）に記述されているものが挙げられる。

【0138】

好適な基材は概ね、特定の特性を共有している。第１に、基材は、基材の質感が接着剤／金属／ポリマー積層を通って伝わることのないよう、十分に滑らかであるべきである。これは次の理由から有利となる：（１）光学的に正確な鏡を可能にする、（２）金属を腐食させ、又は接着剤を劣化させる可能性のある、反応性化学種の侵入経路を排除することによって、金属の物理的一体性を維持する、（３）反射フィルム−基材積層内の応力密度を制御及び規定する。第２に、基材は好ましくは、腐食を防ぐため、反射鏡積層に対して非反応性である。第３に、基材は好ましくは、接着剤が高い耐久性で接着できる表面を有する。

【0139】

反射フィルムのための代表的な基材と、それに関連するオプション及び利点は、ＰＣＴ国際公開特許ＷＯ０４１１４４１９号（Ｓｃｈｒｉｐｓｅｍａ）、同ＷＯ０３０２２５７８号（Ｊｏｈｎｓｔｏｎら）、米国特許公開第２０１０／０１８６３３６号（Ｖａｌｅｎｔｅら）及び同第２００９／０１０１１９５号（Ｒｅｙｎｏｌｄｓら）、並びに米国特許第７，３４３，９１３号（Ｎｅｉｄｅｒｍｅｙｅｒ）に記述されている。

【0140】

更なるオプションとして、基材には、反射物品１００及び感圧性接着剤が容易に除去でき、別の基材に移転できるような、剥離面が含まれ得る。例えば、図１の金属層１１０の露出面は、感圧性接着剤でコーティングすることができ、この感圧性接着剤は、シリコーンコーティングされた剥離ライナーに一時的に固定され得る。そのような構成は、輸送、保管及び消費者使用のために便利にパッケージ化することができる。

【0141】

図２は、別の実施形態による反射物品２００を示す。物品１００と同様、物品２００は、基層２０２と、基層２０２の第２の表面２０６にわたって延在する金属層２０８、２１０とを有する。ただし、物品１００とは異なり、物品２００には、基層２０２の第２の表面２０６と金属層２０８の上の第１の表面との間に、結合層２２０が含まれる。いくつかの実施形態において、この結合層２２０は、酸化アルミニウム、酸化銅、二酸化チタン、二酸化ケイ素、及びこれらの組み合わせなどの金属酸化物を含む。結合層２２０として、二酸化チタンは、乾燥剥離及び湿潤剥離試験において、驚くほど高い層間剥離抵抗をもたらすことが示された。金属酸化物の結合層の更なるオプション及び利点は、米国特許第５，３６１，１７２号（Ｓｃｈｉｓｓｅｌら）に記述されている。

【0142】

結合層２２０は、少なくとも０．１ナノメートル、少なくとも０．２５ナノメートル、少なくとも０．５ナノメートル、又は少なくとも１ナノメートルの合計厚さを有することが好ましい。更に、結合層２２０は、２ナノメートル以下、５ナノメートル以下、７ナノメートル以下、又は１０ナノメートル以下の合計厚さを有することが好ましい。

【0143】

図３は、更に別の実施形態による反射物品３００を示す。物品３００は物品２００と同様であり、基層３０２、基層３０２の第２の表面３０６に接触してこれにわたって延在している結合層３２０、及び結合層３２０の相対する表面にわたって順に延在している３０８、３１０が含まれる。ただし物品１００、２００と異なり、物品３００は、基層３０２の第１の表面３０４に接触してこれにわたって延在している上層３３０を有する。好ましくはこの上層３３０は、例えば、ポリ（メチルメタクリレート）の層などの、高い表面硬度、優れた光透過性と耐候性を備えたポリマー層である。所望により、この上層３３０は、下にある基層３０２の上にラミネート又は溶液流延され、又はその逆に作製される。

【0144】

上層３３０は、特定の用途にすぐに使用できるよう、好適な任意の厚さを有し得る。太陽光反射フィルムについては、耐候性と適切な機械的柔軟性の両方を提供するため、５０〜１５０マイクロメートルの範囲の厚さが好ましい。また、基層１０２と同様、上層３３０は１つ以上のナノフィラーと混合して、上層３３０の特性を調節することができる。

【0145】

上層３３０の存在により、物品３００全体の強度を強化することができる。上層３３０が構造的支持を提供することにより、基層３０２は非常に薄くすることができ、上層３３０とその下の層３２０、３０８、３１０との間の「有機結合層」として作用する。図３に示される構成において、この基層３０２は好ましくは、少なくとも０．２５マイクロメートル、少なくとも０．５マイクロメートル、少なくとも０．８マイクロメートル、少なくとも１マイクロメートル、少なくとも１．５マイクロメートル、又は少なくとも２マイクロメートルの厚さを有する。好ましくは、この基層３０２は４マイクロメートル以下、５マイクロメートル以下、又は７マイクロメートル以下の厚さを有する。

【0146】

薄い基層３０２は、驚くほど強靱な反射フィルムを提供することが見出された。基層３０２は、環境曝露中の応力を拡散することにより、ポリ（メチルメタクリレート）と金属との間の接着を維持すると見られる。開示されているブロック及びランダムコポリマーの応力拡散特性は、試験されたサンプルにおいて層間剥離を防ぐのに驚くほど効果的であることが見出された。蒸着中の界面での温度は基層３０２のＢブロックのＴ_ｇを実質的に上回り、これにより界面でのポリマーの再配置が可能になる可能性があり、（１）積層にわたる温度勾配、（２）蒸着フィルムの未解放応力、及び（３）蒸着中の基層３０２における劣化反応、によって生じる応力が緩和される可能性がある。

【0147】

物理気相蒸着などの高真空プロセスにおいて、真空紫外線放射（１６５ナノメートル未満の波長を有する）によって、ポリ（メチルメタクリレート）上層の表面で、鎖切断が引き起こされ得る。この鎖切断は、そのようなプロセスを用いて蒸着された隣接金属層にポリ（メチルメタクリレート）が接着する能力に悪影響を与え得る。基層３０２は、一般的に金属蒸着の前に非真空プロセスで調製され、ポリ（メチルメタクリレート）表面を有利に保護することができる。基層３０２は鎖切断の影響を被りにくいため、ポリ（メチルメタクリレート）表面を、真空紫外線放射の損傷性影響から防護することができる。

【0148】

全体に、反射物品３００は、高い硬度と耐候性、優れたコーティング性（又は粘着係数）、及び真空紫外線放射に対する安定性を提供することができる。いくつかの実施形態において、紫外線安定剤及び抗酸化剤などの添加剤は上層３３０に含まれ、このとき基層３０２は実質的にこれらの添加剤を含まない。これにより、コーティングされる表面に対する紫外線安定剤、抗酸化剤及びその他の添加剤の分離によって生じ得る接着の問題が回避される。いくつかの実施形態において、上層３３０はポリ（メチルメタクリレート）を含み、ポリ（メチルメタクリレート）と紫外線吸収剤の総重量に対して、０．５重量パーセント〜３．０重量パーセントの範囲の量の紫外線吸収剤を含む。

【0149】

基層３０２は、温度及び湿度の変動に対する環境曝露中に粘着を増進する更なる利点を提供する。ゴム様のＢブロックは、温度及び湿度の変化に伴う積層の膨張の差による応力を拡散することを可能にする。更に、開示されているブロック及びランダムコポリマーは、ポリ（メチルメタクリレート）よりも実質的に透水性が低い。水吸着により、金属と隣接するポリマー層との間の接着接触において化学的又は物理的低下が生じ得る。

【0150】

物品２００及び３００における他の態様は、物品１００について前に述べたものと同様であり、ここでは繰り返さない。

【0151】

所望により、物品１００、２００、３００は、その物品１００、２００、３００がその下にある好適な支持構造で強固に保持されるアセンブリの一部である。例えば、物品１００、２００、３００は、同時係属中かつ共同出願の米国特許仮出願第６１／２３９，２６５号（Ｃｏｓｇｒｏｖｅら）（２００９年９月２日出願）に記述されている数多くの鏡パネルアセンブリの１つに含まれ得る。

【実施例】

【0152】

これらの実施例は単にあくまで例示を目的としたものであり、添付した特許請求の範囲に限定することを意味するものではない。別段の記載のない限り、実施例及びこれ以降の明細書に記載される部、百分率、比率等は全て、重量によるものである。用いた溶媒及びその他の試薬は、別段の記載のない限り、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ）から入手した。

【0153】

検体の調製
本発明の上層に対応する層に使用される材料は、看板材料などに一般的に使用されるタイプの、従来型３．５ｍｉｌ（８９マイクロメートル）のポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）フィルムで、押出成型の後、２軸伸張によって社内で製造された。このフィルムは、商品名ＣＰ−８０（Ｐｌａｓｋｏｌｉｔｅ，Ｉｎｃ．、Ｃｏｌｕｍｂｕｓ、ＯＨ）の樹脂から製造された。この樹脂は、不純物が最小限であり、非常に透明なフィルムをもたらす。このフィルムはまた、約２．５重量％のＵＶ安定剤ＴＩＮＵＶＩＮブランド１５７７（Ｃｉｂａ、ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎの子会社、Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ、ＮＪ）を含んでいた。このフィルムは基材として用いられ、この上に各検体が構築された。

【0154】

表１の樹脂材料それぞれを、固形物２０重量％の濃度でトルエンに溶解することにより、コーティング溶液が調製された。それぞれについて、溶媒とポリマーをガラス瓶に入れ、これを電動ローター又はシャーブレードミキサー上で一晩回転させた。透明な溶液（目視検査で確認）が２、３時間以内に達成された。このようにして得られた溶液は安定状態を維持し、数ヶ月にわたって完全に溶解したままであった。

【0155】

【表1】

【0156】

ＰＭＭＡフィルムは１２インチ（３０．５センチメートル）四方のクーポン状に切断した。各検体について、本発明の基層に対応する層を、フラットガラスメイヤーロッドコーターを使用して、手作業でクーポンの上にコーティングした。クーポンの上縁を、梱包テープを用いて、コーターのフラットガラスに固定した。２０〜４０ｍＬのコーティング溶液（固形物２０重量パーセント）を上縁近くに配置し、メイヤーロッドを検体上に通過させて、基材上にコーティング溶液が均一に広がるようにした。Ｎｏ．４メイヤーロッドを使用して、湿潤コーティング厚さ０．４ｍｉｌ（１０マイクロメートル）以下にコーティングした。コーティングされたＰＭＭＡ基材を次に、溶媒対応乾燥炉（空気循環付き）中で、７０℃で少なくとも３０分間乾燥させ、コーティングから溶媒を完全に除去した。各コーティングは、乾燥厚さ約２マイクロメートルであった。各検体について、干渉色又はコーティングの不均一がないか検査し、そのような欠陥が見出された場合は却下された。

【0157】

乾燥したコーティング済み検体を次に高真空（低圧）物理気相蒸着（ＰＶＤ）コーターに入れて蒸着コーティングし、これにより本発明の金属層と、所望による結合層とを追加した。直径１２インチ（３０．５センチメートル）の検体ホルダー６つがあるＰＶＤコーターの回転ドーム中に、一度に最高６つの検体を搭載した。この検体ホルダーは、ドームの縁近くに配置され、供給点源に向かって４５度の角度に設定された。点源は４ポケットの電子ビームるつぼであり、それぞれが直径１．５インチ（３．８センチメートル）であった。検体は、コポリマー基層を蒸着点源に向けて搭載された。この種のＰＶＤコーターに共通であるように、コーティングドームは中心軸を中心に回転し、各ホルダーもそれぞれの中心軸を中心に回転した。このダブル回転により、高温の点源からの金属及び金属酸化物蒸気が確実に均一に蒸着されるようになっている。

【0158】

検体が搭載されたら、コーターを減圧する。最初に機械的粗引きポンプを使用し、次にクライオポンプを使用して、圧力を１００万分の１トール（１．３Ｅ−４Ｐａ）まで減圧する。この圧力で、検体に結合層を付着する場合、電子ビーム銃をオンにして、４つのるつぼの最初のものに入っているＴｉＯ_２ペレットを予熱する。適切なＴｉＯ_２蒸気圧が達成されたら、加熱されたるつぼと検体ホルダーとの間のシールドを除去し、回転する検体にＴｉＯ_２蒸気を蒸着させる。検体表面に、５オングストローム／秒の速度で、厚さ５ｎｍのＴｉＯ_２フィルムが蒸着した。蒸着速度及び厚さは、ＩＮＦＩＣＯＮブランドの結晶速度／厚さ監視センサー・コントローラー（Ｉｎｆｉｃｏｎ、Ｅａｓｔ Ｓｙｒａｃｕｓｅ、ＮＹ）を使用して測定された。

【0159】

厚さ５ｎｍのＴｉＯ_２が蒸着された後、厚さ監視システムによってシールドが自動的に挿入され、検体に到達する蒸気が完全に停止された。真空を解除することなく、純度９９．９９９％の銀線切片が入った第２のるつぼが所定位置に移動された。ＴｉＯ_２蒸着と同じ手順を繰り返し、ＴｉＯ_２層の上に、厚さ９０ｎｍの銀層が蒸着された。次に銅線が入った第３のるつぼが所定位置に移動され、銀層の上に厚さ３０ｎｍの銅層が蒸着された。最後に、コーターに乾燥窒素をゆっくりと逆流させ、検体を注意深く取り出した。

【0160】

結合層を蒸着しない検体は、最初のＴｉＯ_２蒸着を省略し、同様にして調製された。

【0161】

乾燥接着試験
いくつかの検体について乾燥接着テープ試験が実施された。検体は、上記表１に示されている５つの基層ポリマーそれぞれを用いて調製された。どの検体にも結合層は含まれていなかった。幅１９ミリメートルのＳＣＯＴＣＨ ＭＡＧＩＣブランドテープ（カタログＮｏ．８１０、３Ｍ、Ｓｔ．Ｐａｕｌ、ＭＮ）を、次のように試験に使用した。長さ６インチ（１５センチメートル）のテープ片を、検体の銅表面にしっかりと接着した。気泡はハンドローラーで除去した。約５分後、手でテープを剥がした。角度は１２０〜１７０度の間、速度は約２ｆｔ／分（６０センチメートル／分）であった。金属の剥がれを、合計表面積に対するパーセントとして測定した。５つの基層ポリマーで作製された各検体について、金属の剥がれは０％であった。

【0162】

実施例１〜１６：湿潤接着剥離試験
検体は、表１に記載されている５つの基層ポリマーのうち４つを使用して、上記の通り調製された。各基層ポリマーについて、ＴｉＯ_２結合層を含むものと含まないものの両方が調製された。各タイプについて同一に調製された２つの検体が、下記の記述の通り、湿潤接着剥離試験を用いて試験された。

【0163】

各検体から、幅３／４インチ（１．９センチメートル）、長さが少なくとも６インチ（１５センチメートル）の試験片を切り出した。各試験片は、厚さ１ｍｉｌ（２５．４マイクロメートル）の感圧性接着剤適用を用いて、アルミニウムプレート上に、銅面をプレートに向けてラミネートされた。接着剤の選択は重要ではないが、これらの実施例において使用された接着剤はＲＤ１２６３（３Ｍ、Ｓｔ．Ｐａｕｌ、ＭＮ）であった。接着剤を最初に、ＰＥＴ剥離ライナー上にコーティングした。接着剤を載せたライナーを、次に、ハンドローラー又は実験室用ラミネーターを使用して、試験検体に貼り付けた。次に剥離ライナーを剥がし、この構成体をアルミニウムプレート上にラミネートした。ラミネートされた試験片はそれぞれ、２枚のナイフ刃を１／２インチ（１．３センチメートル）離して設置された器具を用いて、長さ寸法の中央にあらかじめ切れ目を入れた。試験片を載せたアルミニウムプレートそれぞれを、室温の脱イオン水のタンクに浸漬し、水分が試験片に浸透し、試験片内のいくつかの界面を潜在的に弱めるようにした。

【0164】

２４時間後、各プレートを水浴から取り出し、吸収性ワイプで表面を乾かした。鋭い刃又はユーティリティナイフを使用して、試験片の一方の端で、ポリマー層を、それに接触している金属又は金属酸化物から引きはがし、剥離の開始とした。アルミニウムプレートを、ＩＮＳＴＲＯＮブランドの剥離試験機（Ｉｎｓｔｒｏｎ、Ｎｏｒｗｏｏｄ、ＭＡ）の可動ステージに水平に取り付けた。鋭い刃又はユーティリティナイフで形成されたポリマー端の遊離部を、クロスヘッドのジョー部に取り付け、アルミニウムプレートに対して９０度の角度で、速度６ｆｔ／分（１．８ｍ／分）で引っ張った。ステージは、９０度の剥離角度を維持するよう、クロスヘッドの動きと共に水平に移動した。剥離の初期段階では、刃の切れ目の結果としてすでに最も弱くなっている界面を除き、破損した界面は、最も弱い界面へと「ジャンプ」した。剥離強度は、剥離中にＩＮＳＴＲＯＮブランドロードセルによって検出された荷重の、最大荷重、最小荷重、平均荷重、及び標準偏差について記録され、剥離の初期部分は無視された。この部分では、安定な剥離モードが確立され、荷重が大きく異なることがあるためである。剥離後に試験片を調べ、どの界面が破損したかを判定した。結果を表２に示す。

【0165】

【表2】

【0166】

実施例１７〜６４：屋外曝露後の湿潤接着剥離試験
検体は、表１に記載されている５つの基層ポリマーのうち４つを使用して、上記の通り調製された。各基層ポリマーについて、ＴｉＯ_２結合層を含むものと含まないものの両方が調製された。８つの検体タイプのそれぞれについて、幅３／４インチ（１．９センチメートル）、長さが少なくとも６インチ（１５センチメートル）の試験片を６枚切り出した。各試験片は、前の実施例に述べたように、厚さ１ｍｉｌ（２５．４マイクロメートル）のＲＤ１２６３（３Ｍ、Ｓｔ．Ｐａｕｌ、ＭＮ）接着剤適用を用いて、アルミニウムプレート上に、銅面をプレートに向けてラミネートされた。ラミネートされた試験片はそれぞれ、２枚のナイフ刃を１／２インチ（１．３センチメートル）離して設置された器具を用いて、長さ寸法の中央にあらかじめ切れ目を入れた。

【0167】

各検体タイプについて、６枚のラミネート済み試験片のうち２枚を別にしておき、４枚を建物屋上の曝露デッキ上に取り付けた。曝露デッキは南に向けて設置され、太陽光曝露を最大にする角度にされた。各検体タイプについて、エッジ保護のない状態で太陽光及び変化する屋外湿度に曝露したときの挙動を評価するため、４枚の試験片のうち２枚は曝露デッキに１６日間置かれてから回収された。残る２枚は、２８日間曝露デッキに置かれてから回収された。

【0168】

各タイプについて、同条件で調製された２枚の検体が、実施例１〜１６で前に述べたように、湿潤接着剥離試験を用いて試験された。結果を表３に示す。「破損モード」と記された欄は、２８日間の曝露後に所与の界面で破損が生じた場合の、試験片全体に対するパーセンテージを示す。「Ｐ」はポリマーと金属又は金属酸化物との間の界面に対応し、「Ｍ」は金属層と接着層との間の界面に対応し、「Ａ」は接着層とアルミニウムプレート層との間の界面に対応する。よって、最も望ましい結果はＰ＝０かつＭ＋Ａ＝１００であり、「Ｍ」と「Ａ」との間の可能な配分の中での優先性はない。

【0169】

【表3-1】

【0170】

【表3-2】

【0171】

【表3-3】

【0172】

実施例６５〜６９：ポリマー混合物
場合によっては、基層に使用されるポリマーを改変することによって、本発明の反射物品の特定の特性（硬度、ウェブ取扱い、その他）をカスタマイズすることが望ましい。表１に示すポリマーにＰＭＭＡホモポリマーを混合することによって、これを行うことが望ましい可能性がある。そのような混合を行う際の懸念は２つあり、１つはポリマー混合物基層の光学的透過率（ヘイズがないこと）、もう１つは剥離接着であり得る。

【0173】

実施例６５及び６７〜６９のそれぞれについて、下記の通りフィルムが調製された。２．５重量％のＴＩＮＵＶＩＮブランド１５７７を含むＰＭＭＡ樹脂ＣＰ−４０（Ｐｌａｓｋｏｌｉｔｅ，Ｉｎｃ．、Ｃｏｌｕｍｂｕｓ、ＯＨ）を、単独でトルエンに溶解し、あるいは表１に示すブロックコポリマーの１つと共に混合して溶解した。混合物の重量比は、ＰＭＭＡ：ブロックコポリマーが９０：１０であった。各溶液を次に、前の実施例の記述に従いメイヤーロッドを用いて剥離ライナー上にコーティングし、溶媒対応炉中で７０℃で３０分間乾燥させた。コーティングされたフィルムを剥離ライナーから剥がし、試験を行った。

【0174】

実施例６６は、ＬＡＴ ７３５Ｌフィルム（Ｋｕｒａｒａｙ Ｃｏ．，ＬＴＤ、日本、東京）が使用された。これは表１のものに同様のＰＭＭＡブロックコポリマーから製造されたフィルムと考えられる。厚さ０．１ミリメートルと０．２ミリメートル両方の検体が試験された。

【0175】

５種のフィルム全てについて、ＬＡＭＢＤＡブランド９００ ＵＶ／ＶＩＳ／ＮＩＲスペクトロメーター（ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ、Ｗａｌｔｈａｍ、ＭＡ）を使用して、光学的透過率測定が実施された。全てのフィルムが５００〜１６００ｎｍの間で相対的に平坦な透過率を示し、１２００ｎｍ近辺と１４００ｎｍ近辺の領域で、２つの小さな（１％未満）低下が見られた。乾燥剥離接着試験が、前述の通り実施された。乾燥剥離接着試験については、前の実施例の記述の通り、約５ｎｍのＴｉＯ_２、１００ｎｍの銀、及び３０ｎｍの銅で、フィルムが蒸着コーティングされた。接着テープによって最初に覆われていた領域で銀が除去された領域のパーセントが記録された。銀除去が０％の場合は優れた乾燥接着を示し、銀除去が１００％の場合は乾燥接着が悪いことを示す。結果を表４に示す。

【0176】

【表4】

【0177】

実施例７０〜７３：連続プロセス
本発明の物品をロール・ツー・ロールプロセス、又は「連続」プロセス技法によって製造する能力を示すため、実施例に使用するものとして、ＬＡ ４８２５基層ポリマーが選択された。トルエン中それぞれ４重量％、１２重量％、及び２４重量％で、３つのコーティング溶液が調製された（それぞれ実施例７０、７１、及び７２）。高剪断ミキサーを使用して、工業規模で溶液を調製した。前の実施例で使用したものと同じＰＭＭＡフィルムを上層材料に使用し、幅１２インチ（３０．５センチメートル）のストックロールの形状で供給した。従来型のグラビアコーターが採用された。このコーターは、自動ウェブ取扱い、速度制御電子装置、及びこのコーティングをライン上で乾燥させることができる高流量空気循環炉が備わっている。ラインは、オーブン中の滞留時間が約２〜３分になるような速度で稼働させた。炉は７０℃〜８０℃の温度に設定した。乾燥コーティング厚さは、グラビアロールの選択と、コーティング溶液中のポリマー固形分の濃度によって決定された。グラビアロールは、調製した３つの溶液が、厚さ約１／３マイクロメートル、１マイクロメートル、及び２マイクロメートル（それぞれ実施例７０、７１、及び７２）乾燥コーティングを得られるように選択された。

【0178】

コーティングのヘイズが増大したかどうかを判定するため、３つのコーティング済みフィルム全てについて透過率測定が実施された。コーティング厚さ１／３マイクロメートルを有する実施例７０のフィルムは、近ＵＶ−ＶＩＳ波長で干渉縞の証拠を呈した。実施例７１及び７２のフィルムはそれぞれ厚さ１マイクロメートルと２マイクロメートルの基層で製造され、改変なしのＰＭＭＡに比べ、ヘイズ又は干渉を示さなかった。

【0179】

ブロックコポリマーがコーティングされたＰＭＭＡのロールに、１４インチ（３５．６センチメートル）の３チャンバ式ロール・ツー・ロール蒸気コーターを使用して、ＴｉＯ_２、銀、及び銅の層を蒸着した。ロールは、装置の第１のチャンバ内のアンワインド／リワインドステーションに搭載し、装置内を通して、第３のチャンバのアンワインド／リワインドステーションに載せ、装置全体を密封した。機械的ポンプ積層を用いてコーティングチャンバを１ミリトール（０．１３Ｐａ）未満に減圧し、次にクライオポンプに至るゲートバルブを開いて、１００万分の１トール（１．３Ｅ−４Ｐａ）の真空レベルを達成した。第１のチャンバには、平面ＤＣマグネトロンスパッタリング源（Ａｄｖａｎｃｅ Ｅｎｅｒｇｙ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃ．、Ｆｏｒｔ Ｃｏｌｌｉｎｓ、ＣＯ）を搭載した。第２のチャンバには、２つの電子ビーム銃が備えられ、それぞれに４つのポケットがあり、ウェブを前後に通過させることで、最高４種類の異なる材料を蒸着させることが可能であった。

【0180】

ウェブは約５ｆｔ／分（１．５ｍ／分）で移送され、第１のチャンバの反応性スパッタリング環境中でＴｉＯ_２の蒸着を行った。酸素及びアルゴンを導入して圧力を１ミリトール（０．１３Ｐａ）まで上げ、カソード上の金属チタンを完全に酸化させてＴｉＯ_２にした。同じ通過で、電子ビームシャッターを開き、ＴｉＯ_２コーティングされたフィルムを、第２のチャンバの電子ビームポケットの１つに入っている銀線片からの銀蒸気に曝露させた。銀蒸着の速度及び厚さは、ＤＥＬＣＯＭブランドのオンライン伝導度測定デバイス（Ｄｅｌｃｏｍ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃ．、Ｐｒｅｓｃｏｔｔ、ＷＩ）を用いて監視した。太陽スペクトルを適切に反射するために十分な銀の厚さと整合するように、あらかじめ、５ｍｈｏの値が定められていた。ＴｉＯ_２厚さは、事前の校正から得た式に、電力、圧力及びウェブ速度を入力することによって判定された。厚さは、ＴＥＭ及び干渉測定を用いて測定された。銀が蒸着されるに伴って、ウェブは水冷（約５℃）ドラムに接触することで冷却され、電子ビーム及びスパッタリング蒸着の熱負荷を最小限にした。

【0181】

ロール全体が処理された後、ＴｉＯ_２スパッタリングを停止し、電子ビームシャッターを閉じた。銅線片が入った新たなポケットを定位置に動かした。所定の電力設定に達したら、電子ビームシャッターを開き、ウェブを第３のチャンバから第１のチャンバに移動させて、第２のチャンバで、銀の上に銅を蒸着させた。コンダクタンス監視を使用して、銅の厚さを測定した。厚さ２０ｎｍの銅に整合する値として２ｍｈｏがあらかじめ決定されていた。よって、この第２の通過でウェブの速度を調節して、銀層蒸着中に達成された５ｍｈｏに加え、２ｍｈｏの伝導度加算が達成されるようにした。銅蒸着の後、電子ビームポケットを数分間冷ませるようにした。次にコーターに乾燥窒素を充填した。最後に装置を開き、蒸着コーティングされたロールをアンワインド／リワインドステーションから取り出した。

【0182】

３つ全てのコーティング済みフィルムについて、反射率測定が実施された。厚さ１マイクロメートル及び２マイクロメートルの基層を備えて作製された実施例７１及び７２は、可視光波長範囲全体にわたって優れた反射率を呈した。厚さが１／３マイクロメートルの基層を備えて作製された実施例７０は、長波長では他の２つのフィルムの反射率に匹敵したが、短波長側では低い反射率を呈し、約１１００ｎｍでの約９７％から、約５５０ｎｍでは約９０％に低下した。

【0183】

実施例７３では、ＰＭＭＡベースの対照検体を、金属層蒸着の前にブロックコポリマー基層でＰＭＭＡ上層フィルムをコーティングしない点を除き、全く同様に調製した。

【0184】

前の実施例の記述に従って、これらの４つのフィルムタイプの複数の検体について、湿潤剥離強度を測定した。ブロックコポリマーの基層が欠如している実施例７３のＰＭＭＡベースの対照検体は約０．４〜０．５ｌｂｆ（１．７８〜２．２２Ｎ）の湿潤剥離力を呈した。ブロックコポリマーの基層を有する実施例７０〜７２の３つのフィルムは全て、１．４〜１．５ｌｂｆ（６．２３〜６．６７Ｎ）の湿潤剥離力を呈した。更に、破損パターンが顕著に異なっていた。実施例７３のＰＭＭＡベースの対照検体は、金属層がＰＭＭＡから完全に剥離したが、ブロックコポリマー基層を有する実施例７０〜７２のフィルムは、剥離試験において、接着剤とアルミニウムプレートとの間の界面で破損した。

【0185】

これらの４つのフィルムは次に、前の実施例の記述と同様の方法で、屋外曝露試験を行った。各フィルムのいくつかの検体について、７日間の屋外曝露後に湿潤剥離接着試験を行った。各フィルムのいくつかの検体について、２８日間の屋外曝露後に湿潤剥離接着試験を行った。ここでも、ブロックコポリマーの基層が欠如している実施例７３のＰＭＭＡベースの検体は全て、金属層とＰＭＭＡ層との間の界面で破損したが、ブロックコポリマーの基層を有する実施例７０〜７２の検体は全て、試験中に、ＰＳＡ層と銅層との間の界面で破損した。結果を、表５に要約する。

【0186】

【表5】

【0187】

実施例７４〜７６：脱イオン水中の長期的耐腐食性
長期的な湿潤環境に対する具体的な構成の耐性を測定するため、実験が実施された。実施例７４は実施例７１に類似しているが、ただしフィルムは、１２インチ×１２インチ（３０．５ｃｍ×３０．５ｃｍ）のアルミニウムパネルにアクリルＰＳＡでラミネートされた。実施例７５は実施例７４に類似しているが、ただしＴｉＯ_２層の厚さを５ｎｍではなく４０ｎｍとした。実施例７６は実施例７４に類似であるが、ただし酸化物層をＴｉＯ_２ではなくＺｒＯ_２とした。これらの実施例を、室温で１０００リットルの容器内に入った脱イオン水に浸漬した。このデータは、ＴｉＯ_２は、例えば、ＺｒＯ_２よりも高い耐腐食性をもたらすことを示している。しかしながら、酸化物層が厚くなっても、必ずしも高い耐腐食性をもたらさない。結果を、表６に要約する。

【0188】

【表6】

【0189】

実施例７７〜８２：様々な基層厚さでの塩水噴霧試験
塩水噴霧に対する具体的な構成の耐性を測定するため、実験が実施された。実施例７７〜８２は実施例７１と類似しているが、ただし基層の厚さを変えて、耐腐食性に対する影響があるかを調べた。これらの実施例について、１０００リットル塩水噴霧チャンバ内で５５０時間の塩水噴霧試験を行った。温度及びｐＨのチャンバ設定、並びに凝縮霧のＮａＣｌ濃度は、ＡＳＴＭ Ｂ１１７に準拠した。結果を表７に要約する。

【0190】

【表7】

【0191】

上述の特許及び特許出願の全ては、本明細書において本開示に明示的に援用される。上記の発明は、明瞭さ及び理解を目的として図及び実施例によってある程度詳細に述べたものである。しかしながら、様々な代替例、改変例、及び均等物の使用が可能であり、上記の説明は発明の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。また、本発明の範囲は、特許請求の範囲及びその均等物によって定義されるものである。

【図1】

【図2】

【図3】