(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
前記構成要素は、前記ダイと前記構成要素が前記リードフレームの反対側にあるように前記リードフレームの前記第2の表面に結合されている、請求項1に記載のセンサ。
前記構成要素は、前記ダイと前記構成要素が前記リードフレームの同じ側にあるように前記リードフレームの前記第1の表面に結合されている、請求項1に記載のセンサ。
【背景技術】
【0001】
半導体パッケージングの技術は、当技術分野でよく知られている。一般には、ダイがウェハから切り離され、加工され、リードフレームに取り付けられる。集積回路(IC)パッケージの組立後、次に、そのICパッケージを回路基板上に、コンデンサ、抵抗およびインダクタなどの受動部品を含む他の構成要素とともに配置することができる。フィルタリングなどに使用できるこのような受動部品により、センサ付近に回路基板が追加されたり、存在することのある回路基板上にスペースが追加されたりする結果になることがある。
【0002】
当技術分野で知られているように、集積回路(IC)は一般に、プラスチックまたは他の材料でオーバモールドされてパッケージが形成される。このようなIC、例えばセンサは、適正な動作のためにICに結合されるべきコンデンサなどの外部部品を必要とすることが多い。例えば、磁気センサでは、ノイズを低減し、EMC(電磁適合性)を向上させるためにデカップリングコンデンサが必要なことがある。しかし、外部部品は、プリント回路基板(PCB)上のスペース、および追加の加工段階を必要とする。
【0003】
Chewらの米国特許第5973388号は、リードフレームが、ダイをリードフレームに接続するワイヤ接合部と併せてフラグ部およびリード部を含む技法を開示している。リード部の内側端部がエッチングされて、エポキシ化合物用のロッキング構造が設けられる。次に、アセンブリはエポキシプラスチック化合物で封止される。
【0004】
Yasunagaらの米国特許第6563199号は、ワイヤを受け入れるための凹部があるリードを備えたリードフレームを開示しており、このワイヤは、半導体チップとの電気的接続のために樹脂内に収容することができる。
【0005】
Minamioらの米国特許第6642609号は、ランド電極を備えたリードを有するリードフレームを開示している。ランドリードはハーフカット部およびランド部を有し、樹脂成形プロセスで樹脂がランド電極まで達するのを防ぐために、ランド電極が封止シートに付着するように傾斜している。
【0006】
Liuらの米国特許第6713836号は、リードと、チップを接合できるダイパッドとがあるリードフレームを含むパッケージング構造を開示している。受動デバイスが接点パッド間に装着される。ボンディングワイヤがチップと受動デバイスとリードを接続し、これらのすべてが封止される。
【0007】
Hsuらの米国特許出願公開第2005/0035448号は、キャリヤ、ダイ、受動部品、および導電ワイヤを含むチップパッケージ構造を開示している。受動部品の電極は、それぞれの導電ワイヤを介して電源およびグランドに結合される。
【発明を実施するための形態】
【0010】
図1は、本発明の例示的な実施形態による集積コンデンサ102a、102bを有する集積回路(IC)パッケージ100を示す。図示の実施形態では、ICパッケージ100はダイ104を含み、ダイ104は、磁界を検出するための、あるいは対象物の動きに伴って変化しうる磁界の変化を検出するための磁気センサを有する。ダイ104、および1つまたは複数のコンデンサ102は、一連のリードフィンガ108を有するリードフレーム106上に配置することができる。
【0011】
以下でより詳細に説明する例示的な実施形態による1つまたは複数のコンデンサ102を集積することによって、パッケージの垂直方向、または磁界は、既知のセンサパッケージと比較して、例えば増大するという影響を受けることが最少であるか、あるいは影響を受けない。当業者には理解されるように、センサICでは、センサパッケージと対象物の間の距離を最短にすることが望ましい。
【0012】
図2Aおよび
図2Bは、リードフレーム206によって画定された領域204内で、KAPTONテープなどのテープ202上に配置されたコンデンサ200を示す。より具体的には、リードフレームは、コンデンサ200のための領域204を形成するように形づくられ、切断され、あるいは別の方法で処理される。コンデンサ200は、リードフレーム206の表面208よりも下にあり、そのため、リードフレーム上のコンデンサと比較するとパッケージの垂直寸法が低減されている。
【0013】
コンデンサ200は、ワイヤボンディング、ハンダ、導電性エポキシなどの適切な任意の技法を使用して、リードフレーム206に電気的に結合される。特定の実施形態では、温度サイクルの間の熱膨張率(CTE)の不一致によって生じる熱膨張により、コンデンサまたはリードフレームとの境界面でハンダに亀裂が入る可能性が潜在的にあるので、ワイヤボンディングおよび/または導電性エポキシが好ましいことがある。
【0014】
図3Aおよび
図3Bは、リードフレーム304の表面302よりも下に位置するコンデンサ300を有するセンサの別の実施形態を示す。図示の実施形態では、コンデンサの底部306がリードフレーム304の底面308よりも下にある。コンデンサ300をリードフレーム304に電気的に接続し固定するために、導電性エポキシ310が使用される。この構成では、パッケージ厚さに関して垂直方向にセンサのパッケージ本体のより多くを使用することができる。この方向は、当業者には容易に理解されるように、磁気センサの動作において重要な要素である。
【0015】
例示的な実施形態では、コンデンサ300は、リードフレーム302よりも下に配置され、このリードフレームに電気的に接続され、導電性エポキシ310によって所定の場所に固定される。一実施形態では、コンデンサ300は、リードフレーム302の長手方向中心312を概して中心にして配置される。つまり、コンデンサの相等しい部分が、リードフレームの上面314より上と底面316より下とにある。しかし、他の実施形態では、コンデンサ300をリードフレーム302に対して異なるように配置することができる。
【0016】
例示的な一実施形態では、リードフレーム302に対してコンデンサ300を位置付けるアセンブリ固定具350(
図3B)が、アセンブリプロセス中にコンデンサ300を所定の場所に固定するための凹部を設けるトレイ352含む。例えばシリコンであるダイもまた、リードフレームの別の部分の上に存在するが、図を見やすくするために示してない。トレイ352は、導電性エポキシ310が付けられ硬化する間コンデンサをリードフレーム302に対して所望の位置に配置するように位置付けることができる。エポキシまたは他の接続手段が硬化または凝固した後、トレイを取り外し、例えば成形コンパウンドをアセンブリの周囲にオーバモールドしてICパッケージを形成することができる。
【0017】
別の実施形態では、コンデンサをリードフレームに電気的に接続し固定するのにハンダが使用される。プラスチックパッケージの射出成形プロセス中に存在する機械的力に耐えることができる、他の適切な材料も使用されてよいことを理解されたい。
【0018】
図4Aおよび
図4Bは、本発明の例示的な実施形態による第1および第2の集積コンデンサ402a、402bと例示的な寸法とを有するICパッケージ400の別の実施形態を示す。ダイ404は、コンデンサ402をリードフレーム406の表面410よりも下に配置できるカットアウト領域408を有するリードフレーム406に接続される。プラスチックまたは他の材料を成形物412として使用してアセンブリを封止することができる。
【0019】
図4Cおよび
図4Dに示されるように、図示の実施形態では、コンデンサ402は、導電箔を備えたポリイミドテープ(KAPTONはポリイミドテープの商標名の1つである)などのテープ414上に装着される。連続リールを用いたテープ自動化ボンディングプロセス(TAB)をコンデンサ402に使用することができる。この構成では、アセンブリは成形プロセス中、元のままである。コンデンサ402がリードフレーム表面410より下に配置されると、リードフレーム上に装着されたコンデンサを有するパッケージと比較して、必要なパッケージの厚さが低減される。
【0020】
図4Aおよび
図4Bの例示的なパッケージで、集積コンデンサ402a、402bを有するICパッケージ400はホール効果センサである。当技術分野でよく知られているように、センサ400は、磁界の変化を監視することによって対象物の動きを検出するのに有用である。
【0021】
例示的なセンサパッケージ400は、長さが約0.24インチ(約0.610cm)、幅が約0.184インチ(約0.467cm)、深さすなわち厚さが約0.76インチ(約1.93cm)の寸法を有する。リードフレーム406は、厚さが約0.01インチ(約0.0254cm)であり、コンデンサ402をリードフレーム表面よりも下に配置できるようにする約0.04インチ(約0.102cm)のカットアウト領域を有する。
【0022】
コンデンサによって得られる容量性インピーダンスは様々でありうる。一般に、その静電容量は約500pFから約200nFの範囲とすることができる。
【0023】
図4E〜Fは、集積コンデンサ402a、402bを含む別のセンサパッケージの実施形態450を示し、集積コンデンサ402a、402bは、本発明の例示的な実施形態による渦電流を低減するための第1の溝454を備えたリードフレーム452を有する。他の実施形態では、別の溝456、458をリードフレーム内に設けることができる。センサ450は、
図4Aのセンサ400との共通性をいくらか有しており、同じ参照番号は同じ要素を示す。
【0024】
当技術分野ではよく知られているように、交流磁界(例えば、電流を搬送している導体を取り巻く磁界)の存在下では、交流渦電流が導電性リードフレーム452内に誘導することがある。渦電流は、小さな磁界を生じる傾向がある閉ループを形成し、その結果ホール効果素子は、そうでなければ感知するはずの磁界よりも小さな磁界を感知し、それによって感度が低くなる。さらに、渦電流と関連している磁界が均一でない場合、あるいはホール効果素子に関して対称でない場合には、ホール効果素子はまた、望ましくないオフセット電圧を発生させることもある。
【0025】
1つまたは複数の溝454は、リードフレーム452内で渦電流が流れる閉ループのサイズ(例えば直径または経路長)を低減させる傾向がある。渦電流が流れる閉ループのサイズが縮小されると、より小さな渦電流になり、渦電流を誘導した交流磁界に及ぼす局所的影響がより小さくなることが理解されよう。したがって、ホール効果素子460を有する電流センサの感度が渦電流から受ける影響が、1つまたは複数の溝454により少なくなる。
【0026】
ホール効果素子460を中心に回転する渦電流の代わりに、溝454によりホール素子の両側に渦電流が生じる。渦電流により生じる磁界は付加的であるが、総合磁界強度は、溝がない場合の単一の渦電流と比較して、各渦電流がより近接したことにより小さくなる。
【0027】
ある特定の用途の必要に応じるために、任意の数の溝を多種多様な構成で形成できることを理解されたい。
図4Eの例示的な実施形態では、第1、第2および第3の溝454、456、458が、ダイの中心に配置されたホール効果素子460に対してリードフレーム452内に形成されている。溝は渦電流の流れを低減させ、センサの総合性能を向上させる。
【0028】
溝という用語は、リードフレームの伝導性の遮断を一般的に含むように広く解釈されるべきことを理解されたい。例えば、溝は、数個の相対的に大きな穴を含むとともに、相対的に高い密集度のより小さな穴を含むこともできる。加えて、溝という用語は、どんな特定の形状も指すものではない。例えば、溝は、先細り、長円形など多種多様の規則的な形状および不規則な形状を含む。さらに、1つまたは複数の溝の方向は様々であってよいことを理解されたい。また、1つまたは複数の溝をセンサの種類に基づいて配置することが望ましいことがあることも明らかであろう。
【0029】
溝を付けたリードフレーム452は、例えばアルミニウム、銅、金、チタン、タングステン、クロム、および/またはニッケルを含む適切な導電材料の金属層から形成することができる。
【0030】
図5は、1つまたは複数の集積コンデンサを有するセンサを提供するための、例示的な一連のステップを有する処理500を示す。ステップ502で導電性エポキシが所望の位置に付けられ、ステップ504でダイがリードフレームに取り付けられる。ステップ506で、導電性エポキシによってコンデンサがリードフレームに取り付けられる。ステップ508でアセンブリを硬化させ、続いてステップ510でリードフィンガをダイにワイヤボンディングする。次にステップ512で、アセンブリは、例えばプラスチック材料でオーバモールドされ、ばり取り/めっきの仕上げステップ514、およびトリミング/シングレーション(シングレーション)の仕上げステップ516が後に続く。
【0031】
別法として、ハンダボールおよび/またはハンダバンプがダイに付けられるフリップチップ取付けを用いることもでき、その後ダイはリードフレームに取り付けられる。コンデンサがリードフレームに取り付けられ、ハンダリフローの後にアセンブリのオーバモールドが続く。
【0032】
図5Aは、導電性エポキシの代わりにハンダが使用される、
図5の処理500の代替実施形態550を示す。図では同じ参照番号が同じ要素を示す。ステップ552で、ステップ554でのコンデンサの取付けのために、ハンダが所望の位置に印刷され、または別の方法で施される。ステップ556で、ダイはリードフレームに取り付けられた後、
図5と同様な方法で硬化させることなどが続く。
図5Bは、ワイヤボンディング中に亀裂が入ることを低減できる別の代替実施形態560を示す。ステップ562でエポキシが施され、ステップ564でダイが取り付けられる。次に、ステップ566でエポキシを硬化させた後、ステップ568でのワイヤボンディングが続く。次に、ステップ572でコンデンサが取り付けられ、ステップ574でアセンブリを硬化させた後、ステップ512でのモールディング、ステップ514でのばり取り/めっき、およびステップ516でのトリミング/シングレーションが続く。
【0033】
図示のプロセスの実施形態は例示的なものであることを理解されたい。加えて、すべてのステップが示されていないこともあり、例えば、一般にはパッケージをモールドした後にリードがめっきされ、トリミングされ、次に成形される。コンデンサを1つのタイプのハンダを用いて取り付けることも可能であり、次に第2のタイプのハンダを用いてリードフレームにダイをフリップチップ取付けることができる。さらに、各処理ステップは、どのハンダがより高いリフロー温度を有するかによって、順序を逆にすることもできる。温度が高い方のハンダが最初に使用されなければならない。ダイのフリップチップ取付けの場合には、エポキシ付のコンデンサもまた可能である。
【0034】
コンデンサとリードフレームを固定し、かつ/または電気的に接続するのに、多様な取付け機構を使用できることを理解されたい。例示的な機構には、テープと導電エポキシ、ハンダ、テープとワイヤボンド、TAB(テープ自動化ボンディング)、ならびに非導電性エポキシとワイヤボンディングが含まれる。
【0035】
図6Aおよび
図6Bは、ダイ604、および構成部品606a、606b、606cが取り付けられるリードフレーム602を含む半導体パッケージ構造600を示す。一般に、コンデンサおよび受動デバイスなどの構成要素は、リードフレームおよびフィンガに結合させることができる。この構成は、受動部品などの構成要素のライフサイクルを向上させ、ノイズ低減能力を改善し、より多くのスペースをプリント回路基板上に生み出す。
【0036】
一連の未取付けリードフィンガ608a、608b、608cが、図示の実施形態でそれぞれの構成要素606a、606b、606cを介してフィンガ〜リードフレーム接続を可能にするように、リードフレーム602に対して間隔を置いた関係に配置される。ダイ604は、リードフレーム602の上面602aに配置され、1つまたは複数の構成要素606がリードフレームの底面602bに取り付けられる。構成要素606はまた、リードフィンガ608をリードフレーム602に電気的に接続するようにリードフィンガに結合させることもできる。例えば、ワイヤボンド610を使用して、ダイ604とリードフレームの間の電気的接続を行うことができる。
【0037】
この構成では、スクリーン印刷、ディスペンシング(dispensing)、表面実装デバイス取付けなどの1つまたは複数の成熟した表面実装技術(SMT)プロセスを用いて、受動部品の組込みをリードフレームパッド上で実現することができる。
【0038】
リードフレーム602および/またはリードフィンガ608は、エッチング、スタンピング、研磨などを用いて製造することができる。受動部品606の取付けは、シングレーションプロセスが内部構成要素の品質に悪影響を及ぼさないように、シングレーション、およびパッケージ本体のモールディングの前に実施することができる。当技術分野で知られているように、また例えば、Drusselらの米国特許6886247号に開示されているように、シングレーションとは、基板材料からなるパネル内の相互接続されたPCBからプリント基板を分離することを指す。
【0039】
図6Cは、
図6Aおよび
図6Bのアセンブリを製造するための例示的な一連のステップ650を示す。ステップ652でダイがリードフレームに取り付けられた後、ステップ654での硬化が続く。硬化の後、ステップ656でワイヤボンドが取り付けられ、次にステップ658でアセンブリがモールドされ、ステップ660でばり取り/めっきされる。ステップ662でハンダが印刷され、または別の方法で施された後、ステップ664での1つまたは複数のコンデンサの取付け、ハンダリフロー、および洗浄が続く。ステップ666でトリミングおよびシングレーションが実施される。図示の実施形態では、モールディングが完了した後にパッケージにコンデンサを取り付けるために、リードフレームの銅を露出させる。
【0040】
図7Aおよび
図7Bは、集積手法を用いて設けられた埋込みコンデンサ702を有するアセンブリ700を示す。ダイ704がリードフレーム706の上面706aに配置され、リードフィンガ708a、708b、708cがリードフレームに対して配置されている。コンデンサ702、または他の構成要素は、リードフレーム上の第1のボンディングパッド710上に配置された第1の端部702aと、第1のリードフィンガ708a上の第2のボンディングパッド712上に配置された第2の端部702bとを有する。コンデンサ702を受けるために、リードフレームは、リードフレームの上面706aより下に面がある低部714を有する。同様に、コンデンサの第2の端部702bを受けるために、第1のリードフィンガ708aは、リードフィンガの上面718より下に低部716を有する。
【0041】
この構成では、リードフレームの低部714、および第1のリードフィンガの低部716により、リードフレームの上面706aに対してコンデンサの上面720の高さが低くされる。
【0042】
コンデンサの例示的なインピーダンスの範囲は、約500pFから約100nFである。集積コンデンサを有するセンサを提供するのに様々なコンデンサの種類、および取付け技術の技法を使用できることを理解されたい。特定の一実施形態では、長さ1.6mm×幅0.85mm×厚さ0.86mmの例示的な寸法を有する表面実装コンデンサが使用される。
【0043】
図8A〜Cは、
図2Aおよび
図2Bのアセンブリとの共通性をいくらか有する別の実施形態700’を示す。低部714’、716’は、それぞれのリードフレーム706’および第1のリードフィンガ708aで四角にした溝として形成されている。
【0044】
集積コンデンサを有する集積回路は、その入力部または出力部にバイパスコンデンサなどによるノイズフィルタリングを必要とする用途に有用である。例えば、ホール効果デバイスなどの位置センサは、自動車用途でバイパスコンデンサを使用することが多い。
【0045】
図9A〜Cは、第1および第2の集積構成要素802、804を有するアセンブリの別の実施形態800を示す。ダイ805がリードフレーム806上に配置され、リードフレームから第1および第2のリードフィンガ808a、808bが延びている。リードフレーム806から分離した別のリードフィンガ810a〜eが、リードフレームに対して間隔が置かれている。第1および第2の構成要素802、804の端部を受けるために、第1の元のままのリードフィンガ808aは、リードフィンガの外側領域上に第1および第2の低部812a、812bを有する。第1および第2の構成要素802、804の他方の端部を受けるために、第1および第2の切り離されたリードフィンガ810a、810bは、それぞれの低部814、816を有する。構成要素802、804は、図示した所望の電気的接続を行う。ワイヤボンド818は、リードフィンガとダイ805の間の電気的接続を行うことができる。
【0046】
図示の実施形態では、リードフィンガ808a、810a、810bは、低部812、814、816を設けるために圧引加工される。圧引加工された低部に、例えばコンデンサ、インダクタ、抵抗などの構成要素を配置することによって、パッケージ全体の厚さが低減される。
【0047】
このような構成は、パッケージ厚さを低減できるので、磁界センサに利点をもたらす。つまり、集積構成要素を有する本発明のセンサが、集積構成要素がない同等の従来のセンサと同じ厚さを有することができる。磁気ギャップは、磁気センサの重要なパラメータであり、パッケージ厚さを低減できることが磁気センサの設計向上を実現しうることは、当業者には容易に理解される。
【0048】
図9D〜Gは、磁気センサなど、パッケージ内に集積された第1および第2の構成要素802、804を有するアセンブリの別の実施形態800’を示す。実施形態800’は、
図9A〜Cの実施形態800との類似性をいくらか有し、同じ参照番号が同じ要素を示す。構成要素802、804は、低部がないリードフレーム806’に固定される。構成要素802、804は、ダイ805の反対側に、様々なダイの場所をリードフィンガに接続するために使用されるワイヤボンド818に対して配置されている。構成要素802、804は、パッケージから延びるリード820に対してダイの反対側にある。図示の実施形態では、構成要素802、804に近いタイバー(tie bar)は、最終パッケージから切断またはトリミングされている。構成要素802、804をダイ805の反対側に、外部リード820のに対して配置することによって、より小型のパッケージが実現される。
【0049】
図10A〜Dは、
図9D〜Fのアセンブリとの類似性をいくらか有する別の実施形態900を示す。構成部品は、リードフレーム806’の反対側に、ダイ805’のように配置される。この構成は、磁石がデバイスの裏側に配置される磁気センサとの使用でデバイスを最適化し、リードは、センサのサイズを最適にするために90°の角度に曲げられる(
図6参照)。
【0050】
図11A〜Bは、集積コンデンサを有する例示的なセンサパッケージ950を示しており、本体直径が、
図12A〜Cに示された集積コンデンサなしの従来のセンサと比較して低減されている。リード952は、パッケージ本体954内でリードフレームから90°曲げられている。一実施形態では、外部リード952は、
図9Dに示されるように、集積コンデンサと同様にダイの反対側にある。本発明の集積コンデンサを用いて、このセンサは、堅牢で、ノイズがフィルタリングされる解決策を縮小サイズで提供する。例えば、
図12A〜Cに示された同等の従来技術のセンサは約9.8mmの直径を有するが、
図11A、Bのセンサパッケージ950は約7.6mmの直径を有することができる。
【0051】
図11A〜Bのパッケージ950を製造するのに、リードは90°で成形される/曲げられる。この部分は、パッケージ本体とリードを位置合わせするために、予備モールドされたハウジング内に挿入される。例えばホールセンサでは、磁石およびコンセントレータ(図示せず)を追加することができる。次にアセンブリがオーバモールドされる。
【0052】
例示的な本発明の実施形態は、自動車用途など、様々な用途におけるシステム−イン−パッケージ(SiP)技術に有用である。本発明のパッケージングは、受動部品のライフサイクルを最適化し、ノイズ低減能力を改善し、回路基板上により多くのスペースを生み出すことに寄与する。加えて、本発明は、スペース要件を緩和し、デバイスの感知能力を向上させるように構成要素の配置を最適化する。
【0053】
別の実施形態では、センサは、センサ素子を有する第1のダイと、回路を有する第2のダイと、少なくとも1つの集積コンデンサとをリードフレーム上に含む。本明細書に含まれる例示的な実施形態ではホール効果センサの使用を論じているが、他の種類の磁界センサもまた、ホール素子の代わりに、またはそれと組み合わせて使用できることは当業者には明らかであろう。例えばデバイスは、異方性磁気抵抗(AMR)センサ、および/または巨大磁気抵抗(GMR)センサを使用することもできる。GMRセンサの場合では、GMR素子は、複数の材料積層体、例えば線形スピンバルブ、トンネル磁気抵抗(TMR)、またはコロッサル(colossal)磁気抵抗(CMR)センサから構成されるセンサの範囲を含むものである。他の実施形態では、センサはバックバイアス磁石を含む。ダイは、シリコン、GaAs、InGaAs、InGaAsP、SiGe、または他の適切な材料から別個に形成することができる。
【0054】
本発明の他の実施形態は、コンデンサなどの集積構成要素を有することが望ましい圧力センサ、および他の非接触センサのパッケージ全般を含む。
【0055】
上述の実施形態に基づき、本発明のさらなる特徴および利点を当業者は理解されよう。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲に示したものを除き、特に図示し説明したものによっては限定されない。本明細書で引用したすべての刊行物および参考文献は、参照によりその全体を特定して組み込む。