特許 5976970 光透過性フィルム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】5976970

(24)【登録日】2016年7月29日

(45)【発行日】2016年8月24日

(54)【発明の名称】光透過性フィルム

(51)【国際特許分類】

   B32B 9/00 20060101AFI20160817BHJP

【ＦＩ】

   B32B9/00 A

【請求項の数】6

【全頁数】24

(21)【出願番号】特願2016-23802(P2016-23802)

(22)【出願日】2016年2月10日

【審査請求日】2016年4月28日

(31)【優先権主張番号】特願2015-34052(P2015-34052)

(32)【優先日】2015年2月24日

(33)【優先権主張国】JP

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】000003964

【氏名又は名称】日東電工株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100103517

【弁理士】

【氏名又は名称】岡本 寛之

(74)【代理人】

【識別番号】100149607

【弁理士】

【氏名又は名称】宇田 新一

(72)【発明者】

【氏名】藤野 望

(72)【発明者】

【氏名】梨木 智剛

【審査官】 相田 元

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００２−１５７９２９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１１−７０６１０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−１００９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００２−２７９８３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１４−６９５７２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｈ０１Ｂ ５／１４

Ｈ０１Ｌ ２１／３０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

順に、透明基材と、光透過性無機層とを備え、
前記透明基材は、高分子フィルムからなり、
前記光透過性無機層は、順に、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを備え、
前記光透過性無機層は、導電性を有し、
前記第１無機酸化物層および第２無機酸化物層は、水素原子を含有し、
前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２の、前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）が、０．１０以上、１０．００以下であることを特徴とする、光透過性フィルム。

【請求項2】

前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１、および、前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２が、ともに、５×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、８，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であることを特徴とする、請求項１に記載の光透過性フィルム。

【請求項3】

前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層のうち、少なくとも一方が、酸化インジウムを含有することを特徴とする、請求項１または２のいずれかに記載の光透過性フィルム。

【請求項4】

前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層のいずれもが、非晶質であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光透過性フィルム。

【請求項5】

前記第２無機酸化物層の厚みＴ２の、前記第１無機酸化物層の厚みＴ１に対する比（Ｔ２／Ｔ１）が、０．５以上、１．５以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光透過性フィルム。

【請求項6】

前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層は、炭素原子をさらに含有しており、
前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１と炭素原子の含有量Ｃ１との合計含有量（Ｈ１＋Ｃ１）、および、前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２と炭素原子の含有量Ｃ２との合計含有量（Ｈ２＋Ｃ２）が、ともに、６×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、１０，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光透過性フィルム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光透過性フィルム、詳しくは、光学用途に好適に用いられる光透過性フィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

従来、透明導電層を備える透明導電性フィルムなどの光透過性フィルムが、タッチパネルなどの光学用途に用いられることが知られている。

【0003】

例えば、ガラス基板上に、透明酸化物薄膜、銀系薄膜および透明酸化物薄膜とが形成された透明導電膜が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１の透明導電膜では、２層の透明酸化導電膜は、ともに、酸化インジウムを含む混合酸化物から形成されている。

【0004】

特許文献１において、透明導電膜をパターンニングするには、まず、上側の透明酸化物薄膜の上に、電極形状のレジスト膜を形成し、次いで、レジスト膜から露出した部位をエッチング液によりエッチングして、３層の薄膜を電極形状に形成している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開平９−１７６８３７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかるに、２層の透明酸化導電膜の、エッチング液に対するエッチング速度が、大きく異なると、すなわち、２層の透明酸化導電膜のうち、一方が他方に対して顕著に速い場合には、他方の透明酸化導電膜のパターンニングを終了するように、透明導電膜のエッチング時間を設定すると、レジスト膜の端縁に対して、一方の透明酸化導電膜において、その端縁から内側に浸食されるオーバーエッチング部分（またはサイドエッチング部分）が形成される。その場合には、透明導電膜は、その形状を保持することが困難となり、さらには、期待作用（例えば、導電作用）を確実に奏することができないという不具合がある。

【0007】

逆に、一方の透明酸化導電膜のパターンニングを終了するように、透明導電膜のエッチング時間を設定すると、一方に対してエッチング速度が顕著に遅い、他方の透明酸化導電膜のパターンニングを終了させることができず、つまり、他方の透明酸化導電膜を所望の形状にパターンニングすることができないという不具合がある。

【0008】

本発明の目的は、第１無機酸化物層および第２無機酸化物層の両方を、エッチングにより確実にパターンニングすることができながら、オーバーエッチング部分の形成を抑制することのできる光透過性フィルムを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記目的を達成するために、本発明の光透過性フィルムは、順に、透明基材と、光透過性無機層とを備え、前記透明基材は、高分子フィルムからなり、前記光透過性無機層は、順に、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを備え、前記光透過性無機層は、導電性を有し、前記第１無機酸化物層および第２無機酸化物層は、水素原子を含有し、前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２の、前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）が、０．１０以上、１０．００以下であることを特徴としている。

【0010】

また、本発明の光透過性フィルムでは、前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１、および、前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２が、ともに、５×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、８，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であることが好適である。

【0011】

また、本発明の光透過性フィルムでは、前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層のうち、少なくとも一方が、酸化インジウムを含有することが好適である。

【0012】

また、本発明の光透過性フィルムでは、前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層のいずれもが、非晶質であることが好適である。

【0013】

また、本発明の光透過性フィルムでは、前記第２無機酸化物層の厚みＴ２の、前記第１無機酸化物層の厚みＴ１に対する比（Ｔ２／Ｔ１）が、０．５以上、１．５以下であることが好適である。

【0014】

また、本発明の光透過性フィルムでは、前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層は、炭素原子をさらに含有しており、前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１と炭素原子の含有量Ｃ１との合計含有量（Ｈ１＋Ｃ１）、および、前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２と炭素原子の含有量Ｃ２との合計含有量（Ｈ２＋Ｃ２）が、ともに、６×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、１０，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であることが好適である。

【発明の効果】

【0015】

本発明の光透過性フィルムによれば、第１無機酸化物層および第２無機酸化物層の両方を、エッチングにより確実にパターンニングすることができながら、オーバーエッチング部分の形成を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】図１は、本発明の光透過性フィルムの一実施形態の断面図を示す。

【図2】図２は、図１に示す光透過性無機層が配線パターンに形成された光透過性フィルムの断面図を示す。

【図3】図３は、光透過性無機層が配線パターンに形成され、第１無機酸化物層にオーバーエッチング部分が形成された比較例１の光透過性フィルムの断面図の一例を示す。

【図4】図４は、光透過性無機層が配線パターンに形成され、第２無機酸化物層にオーバーエッチング部分が形成され、比較例に相当する光透過性フィルムの断面図の一例を示す。

【図5】図５は、光透過性フィルムの変形例であって、透明基材の上面に、第１無機酸化物層が直接配置された光透過性フィルムの断面図を示す。

【図6】図６は、光透過性フィルムの変形例であって、無機物層が保護層および第１無機酸化物層の間に介在された光透過性フィルムの断面図を示す。

【発明を実施するための形態】

【0017】

図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向、第１方向）であって、紙面上側が、上側（厚み方向一方側、第１方向一方側）、紙面下側が、下側（厚み方向他方側、第１方向他方側）である。図１において、紙面左右方向は、左右方向（幅方向、第１方向に直交する第２方向）であり、紙面左側が左側（第２方向一方側）、紙面右側が右側（第２方向他方側）である。図１において、紙厚方向は、前後方向（第１方向および第２方向に直交する第３方向）であり、紙面手前側が前側（第３方向一方側）、紙面奥側が後側（第３方向他方側）である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。

【0018】

１． 光透過性フィルム
光透過性フィルム１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、厚み方向と直交する所定方向（前後方向および左右方向、すなわち、面方向）に延び、平坦な上面および平坦な下面（２つの主面）を有する。光透過性フィルム１は、例えば、光学装置（例えば、画像表示装置、調光装置）に備えられるタッチパネル用基材や調光パネルなどの一部品であり、つまり、光学装置ではない。すなわち、光透過性フィルム１は、光学装置などを作製するための部品であり、ＬＣＤモジュールなどの画像表示素子や、ＬＥＤなどの光源を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。また、光透過性フィルム１は、透明導電性フィルムを含む。

【0019】

具体的には、図１に示すように、光透過性フィルム１は、順に、透明基材２と、保護層３と、光透過性無機層４とを備える光透過性積層フィルムである。つまり、光透過性フィルム１は、透明基材２と、透明基材２の上側に配置される保護層３と、保護層３の上側に配置される光透過性無機層４とを備える。また、好ましくは、光透過性フィルム１は、透明基材２と、保護層３と、光透過性無機層４とのみからなる。以下、各層について詳述する。

【0020】

２． 透明基材
透明基材２は、光透過性フィルム１の最下層であって、光透過性フィルム１の機械強度を確保する支持材である。透明基材２は、光透過性無機層４を、保護層３とともに、支持する。

【0021】

透明基材２は、高分子フィルムからなる。

【0022】

高分子フィルムは、透明性を有する。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーなどのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら高分子フィルムは、単独使用または２種以上併用することができる。透明性、耐熱性、機械特性などの観点から、好ましくは、オレフィン樹脂やポリエステル樹脂が挙げられ、より好ましくは、シクロオレフィンポリマーやＰＥＴが挙げられる。

【0023】

透明基材２の厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下、より好ましくは、１５０μｍ以下である。

【0024】

また、透明基材２は、好ましくは、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７の非晶を保持する観点から、水を含有している。つまり、透明基材２では、高分子フィルムが水を含有している。

【0025】

３． 保護層
保護層３は、光透過性無機層４の上面に擦り傷を生じにくくする（すなわち、優れた耐擦傷性を得る）ための、擦傷保護層である。また、保護層３は、図２が参照されるように、光透過性無機層４を後の工程で配線パターンに形成した後に、非パターン部９とパターン部１０との相違が認識されないように（すなわち、配線パターンの視認を抑制するように）、光透過性フィルム１の光学物性を調整する光学調整層でもある。

【0026】

保護層３は、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、透明基材２の上面全面に、透明基材２の上面に接触するように、配置されている。

【0027】

保護層３は、樹脂組成物から調製されている。

【0028】

樹脂組成物は、例えば、樹脂と、粒子とを含有する。樹脂組成物は、好ましくは、樹脂のみを含有し、より好ましくは、樹脂のみからなる。

【0029】

樹脂としては、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。

【0030】

硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。

【0031】

活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基および／またはアクリロイル基）などが挙げられる。

【0032】

活性エネルギー線硬化性樹脂としては、例えば、側鎖に官能基を含有する（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）などが挙げられる。

【0033】

これら樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。

【0034】

粒子としては、例えば、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。

【0035】

保護層３の厚みは、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、１μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下である。保護層３の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。

【0036】

４． 光透過性無機層
光透過性無機層４は、図２が参照されるように、後の工程で配線パターンに形成して、パターン部１０を形成するための導電層である。また、光透過性無機層４は、透明導電層を含んでいる。

【0037】

図１に示すように、光透過性無機層４は、光透過性フィルム１の最上層であって、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、保護層３の上面全面に、保護層３の上面に接触するように、配置されている。

【0038】

光透過性無機層４は、順に、第１無機酸化物層５と、金属層６と、第２無機酸化物層７とを備える。つまり、光透過性無機層４は、保護層３の上に配置される第１無機酸化物層５と、第１無機酸化物層５の上に配置される金属層６と、金属層６の上に配置される第２無機酸化物層７とを備えている。また、光透過性無機層４は、好ましくは、第１無機酸化物層５と、金属層６と、第２無機酸化物層７とのみからなる。

【0039】

５． 第１無機酸化物層
第１無機酸化物層５は、後述する金属層６および第２無機酸化物層７とともに、光透過性無機層４に導電性を付与する導電層である。また、第１無機酸化物層５は、透明基材２に含有される水に由来する水素や、保護層３に含有される有機物に由来する炭素が、金属層６に侵出することを防止するバリヤ層でもある。さらに、第１無機酸化物層５は、後述する第２無機酸化物層７とともに、金属層６の可視光反射率を抑制し、光透過性無機層４の可視光透過率を向上させるための光学調整層でもある。

【0040】

第１無機酸化物層５は、光透過性無機層４における最下層であって、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、保護層３の上面全面に、保護層３の上面に接触するように、配置されている。

【0041】

第１無機酸化物層５は、後述するエッチング液に対して溶解できる無機酸化物を主成分として含有する。

【0042】

無機酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属から形成される金属酸化物などが挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープすることができる。

【0043】

無機酸化物としては、好ましくは、比抵抗を低下させる観点、および、優れた透明性を確保する観点から、酸化インジウム含有酸化物が挙げられ、より好ましくは、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）が挙げられる。

【0044】

ＩＴＯに含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、６質量％以上、さらに好ましくは、８質量％以上、特に好ましくは、１０質量％以上、最も好ましくは、１０質量％超であり、また、例えば、３５質量％以下、好ましくは、２０質量％以下、より好ましくは、１５質量％以下、さらに好ましくは、１３質量％以下である。酸化インジウムの含有量（Ｉｎ_２Ｏ_３）は、酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量の残部である。ＩＴＯに含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量を、好適な範囲とすることで、ＩＴＯ膜の経時での膜質変化を抑制しやすい。

【0045】

無機酸化物は、結晶質および非晶質のいずれであってもよい。無機酸化物は、図２が参照されるように、後の工程においてパターンニングを容易に実施する観点から、好ましくは、非晶質である。

【0046】

本願では、２５，０００倍での平面ＴＥＭ画像において、結晶粒が占める面積割合が５０％以下（好ましくは、０％以上３０％以下）である場合に、非晶質であるとし、５０％超過（好ましくは、８０％以上）である場合に、結晶質であるとする。

【0047】

無機酸化物の第１無機酸化物層５における含有割合は、例えば、９５質量％以上、好ましくは、９８質量％以上、より好ましくは、９９質量％以上であり、また、例えば、１００質量％未満である。

【0048】

また、第１無機酸化物層５は、水素原子を含有する。水素原子は、例えば、第１無機酸化物層５に主成分として含有される無機酸化物に由来せず、透明基材２の高分子フィルムが含有する水（Ｈ_２Ｏ）や乾式の装置（具体的には、スパッタリング装置などの真空装置）内に吸着している水（Ｈ_２Ｏ）（後の製造方法で詳述する）に由来する。

【0049】

第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１は、例えば、５×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、好ましくは、１０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、より好ましくは、５０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、さらに好ましくは、１００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上であり、また、例えば、８，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、好ましくは、４０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、より好ましくは、８００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。

【0050】

第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１が上記した上限以下であれば、第１無機酸化物層５の湿熱環境下における膜質の劣化を防止することができる。

【0051】

一方、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１が上記した下限以上であれば、第１無機酸化物層５の経時での結晶化を抑制することができ、良好なエッチング性を維持できる。

【0052】

さらに、第１無機酸化物層５は、炭素原子を含有する。炭素原子は、例えば、上記した無機酸化物に由来せず、上記した保護層３に含有される有機物に由来する。

【0053】

第１無機酸化物層５における炭素原子の含有量Ｃ１は、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１と炭素原子の含有量Ｃ１との合計含有量（Ｈ１＋Ｃ１）が、例えば、６×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、好ましくは、１０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、より好ましくは、２０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、さらに好ましくは、１００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、また、例えば、１０，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、好ましくは、５０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、より好ましくは、１０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下となるように、調整される。

【0054】

合計含有量Ｈ１＋Ｃ１が上記した上限以下であれば、湿熱耐久性に優れる第１無機酸化物層を得ることができる。

【0055】

一方、合計含有量Ｈ１＋Ｃ１が上記した下限以上であれば、第１無機酸化物層５のエッチング性を向上させることができる。

【0056】

具体的には、第１無機酸化物層５における炭素原子の含有量Ｃ１は、例えば、１×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、好ましくは３×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、より好ましくは、１０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上であり、また、例えば、１００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、好ましくは、５０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、より好ましくは、３０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。第１無機酸化物層５における炭素原子の含有量Ｃ１は、第１無機酸化物層５における厚み方向中央部に対する二次イオン質量分析法により、測定される。

【0057】

第１無機酸化物層５の厚みＴ１は、例えば、５ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上、より好ましくは、３０ｎｍ以上であり、また、例えば、６０ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下である。第１無機酸化物層５の厚みＴ１が上記範囲であれば、光透過性無機層４の可視光透過率を高い水準に調整しやすい。第１無機酸化物層５の厚みＴ１は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。

【0058】

６． 金属層
金属層６は、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７とともに、光透過性無機層４に導電性を付与する導電層である。また、金属層６は、光透過性無機層４の比抵抗を低減する低比抵抗化層でもある。

【0059】

金属層６は、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、第１無機酸化物層５の上面に、第１無機酸化物層５の上面に接触するように、配置されている。

【0060】

金属層６を形成する金属は、例えば、比抵抗が小さい金属で、かつ、第１無機酸化物層５をエッチングするエッチング液と同一のエッチング液に対して溶解できる金属である。金属材料の限定はないが、例えば、Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｂ，Ｉｎ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ、Ｇｅ、Ｒｕ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎａ、Ｗ，Ｚｒ，ＴａおよびＨｆからなる群から選択される１種の金属からなるか、または、２種以上の金属を含有する合金が挙げられる。

【0061】

金属として、好ましくは、銀（Ａｇ）、銀合金が挙げられ、より好ましくは、銀合金が挙げられる。金属が、銀または銀合金であれば、光透過性無機層４の抵抗値を小さくすることができるのに加えて、近赤外線領域（波長８５０〜２５０ｎｍ）の平均反射率が特に高い光透過性無機層４が得られ、屋外で使用される画質表示装置用途にも好適に適用できる。

【0062】

銀合金は、銀を主成分として含有し、その他の金属を副成分として含有しており、具体的には、例えば、Ａｇ−Ｐｄ合金、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｇｅ合金、Ａｇ−Ｃｕ−Ａｕ合金、Ａｇ−Ｃｕ−Ｓｎ合金、Ａｇ−Ｒｕ−Ｃｕ合金、Ａｇ−Ｒｕ−Ａｕ合金、Ａｇ−Ｎｄ合金、Ａｇ−Ｍｇ合金、Ａｇ−Ｃａ合金、Ａｇ−Ｎａ合金などが挙げられる。加湿耐久性の観点から、銀合金として、好ましくは、Ｃｕ含有Ａｇ合金（例えば、Ａｇ−Ｃｕ合金、Ａｇ−Ｃｕ−Ｓｎ合金など）、Ｐｄ含有Ａｇ（例えば、Ａｇ−Ｐｄ合金など）合金、Ｃｕ、Ｐｄ含有Ａｇ合金（例えば、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金など）が挙げられる。

【0063】

銀合金（好ましくは、Ａｇ−Ｐｄ合金）における銀の含有割合は、例えば、８０質量％以上、好ましくは、９０質量％以上、より好ましくは、９５質量％以上であり、また、例えば、９９．９質量％以下である。銀合金におけるその他の金属の含有割合は、上記した銀の含有割合の残部である。金属がＡｇ−Ｐｄ合金である場合に、Ａｇ−Ｐｄ合金におけるＰｄの含有割合は、具体的には、例えば、０．１質量％以上であり、また、例えば、１０質量％以下、好ましくは、５質量％以下、より好ましくは、１質量％以下である。

【0064】

金属層６の厚みは、光透過性無機層４の透過率を上げる観点から、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上であり、また、例えば、２０ｎｍ以下、好ましくは、１０ｎｍ以下である。

【0065】

７． 第２無機酸化物層
第２無機酸化物層７は、第１無機酸化物層５および金属層６とともに、光透過性無機層４に導電性を付与する導電層である。また、第２無機酸化物層７は、環境中の酸素や水分などが金属層６に侵出することを防止するバリヤ層でもあり、金属層６の可視光反射率を抑制し、光透過性無機層４の可視光透過率を向上させるための光学調整層でもある。
第２無機酸化物層７は、光透過性無機層４における最上層であって、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、金属層６の上面全面に、金属層６の上面に接触するように、配置されている。

【0066】

第２無機酸化物層７は、第１無機酸化物層５で例示した無機酸化物を含有し、具体的には、第１無機酸化物層５をエッチングするエッチングと同一のエッチング液に対して溶解できる無機酸化物であり、好ましくは、酸化インジウムを含有し、より好ましくは、ＩＴＯからなる。

【0067】

無機酸化物の第２無機酸化物層７における含有割合は、例えば、９５質量％以上、好ましくは、９８質量％以上、より好ましくは、９９質量％以上であり、また、例えば、１００質量％未満である。

【0068】

また、第２無機酸化物層７は、水素原子を含有する。水素原子は、例えば、第２無機酸化物層７に主成分として含有される無機酸化物に由来せず、透明基材２の高分子フィルムが含有する水（Ｈ_２Ｏ）や乾式の装置（具体的には、スパッタリング装置などの真空装置）内に吸着している水（Ｈ_２Ｏ）（後の製造方法で詳述する）に由来する。

【0069】

第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２は、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２の、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）が、０．１０以上、１０．００以下となるように、設定される。

【0070】

一方、水素原子の比（Ｈ２／Ｈ１）が０．１０未満であれば、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１が、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２に対して、過度に高い。そのため、後述する光透過性無機層４のエッチングにおいて、第１無機酸化物層５のエッチング液に対するエッチング速度Ｒ１が、第２無機酸化物層７のエッチング液に対するエッチング速度Ｒ２に対して、過度に速い。その結果、図３に示すように、光透過性無機層４のエッチングにおいて、第１無機酸化物層５の端部にオーバーエッチング部１１が形成される。

【0071】

なお、図３に示すように、オーバーエッチング部分１１は、断面略三角形状を有している。ただし、オーバーエッチング部１１の形状は、図３に示す形状に限定されない。例えば、図示しないが、オーバーエッチングされた第１無機酸化物層５の両端部の断面が、金属層６の面方向に対して垂直となる形状となっていてもよい。

【0072】

他方、比（Ｈ２／Ｈ１）が、１０．００を超えれば、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２が、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１に対して、過度に高い。そのため、光透過性無機層４のエッチングにおいて、第２無機酸化物層７のエッチング液に対するエッチング速度Ｒ２が、第１無機酸化物層５のエッチング液に対するエッチング速度Ｒ１に対して、過度に速い。その結果、図４に示すように、光透過性無機層４のエッチングにおいて、第２無機酸化物層７の端部にオーバーエッチング部１１が形成される。

【0073】

また、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２は、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２の、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）が、好ましくは、０．２０以上、より好ましくは、０．４０以上、さらに好ましくは、０．５０以上、さらに好ましくは、０．７５以上、また、好ましくは、５．００以下、より好ましくは、２．５０以下、さらに好ましくは、１．５０以下、特に好ましくは、１．２５以下、最も好ましくは、１．２０以下となるように、設定される。

【0074】

比（Ｈ２／Ｈ１）が上記した下限以上であれば、光透過性無機層４をエッチングするときに、第１無機酸化物層５の端部にオーバーエッチング部１１が形成されることを抑制することができる。

【0075】

一方、比（Ｈ２／Ｈ１）が上記した上限以下であれば、光透過性無機層４をエッチングするときに、第２無機酸化物層７の端部にオーバーエッチング部１１が形成されることを抑制することができる。

【0076】

つまり、比（Ｈ２／Ｈ１）が上記した下限以上、かつ、上記した上限以下であれば、第１無機酸化物層５のエッチング液に対するエッチング速度Ｒ１と、第２無機酸化物層７のエッチング液に対するエッチング速度Ｒ２とを近似させることができる。そのため、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７のいずれかでオーバーエッチング部１１が形成されることを抑制することができる。

【0077】

第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２の、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）は、後述する第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７の製造方法において調整される。

【0078】

具体的には、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２は、例えば、５×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、好ましくは、１０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上であり、好ましくは、１００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上であり、また、例えば、８，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、好ましくは、４０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、より好ましくは、８００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、さらに好ましくは、３００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。

【0079】

第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２が上記した上限以下であれば、第２無機酸化物層７の湿熱環境下における膜質の劣化を防止することができる。第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２が上記した下限以上であれば、第２無機酸化物層７の経時での結晶化を抑制することができ、良好なエッチング性を保持できる。

【0080】

第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２は、第２無機酸化物層７における厚み方向中央部に対する二次イオン質量分析法により、測定される。

【0081】

さらに、第２無機酸化物層７は、炭素原子を含有する。炭素原子は、例えば、上記した無機酸化物に由来せず、上記した透明基材２の高分子フィルムが含有する有機物（後の製造方法において詳述する）に由来する。

【0082】

第２無機酸化物層７における炭素原子の含有量Ｃ２は、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２と炭素原子の含有量Ｃ２との合計含有量（Ｈ２＋Ｃ２）が、例えば、６×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、好ましくは、１０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、より好ましくは、２０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、さらに好ましくは、１００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上であり、また、例えば、１０，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、好ましくは、５０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、より好ましくは、１０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下となるように、調整される。

【0083】

合計含有量（Ｈ２＋Ｃ２）が上記した上限以下であれば、湿熱耐久性に優れる第２無機酸化物層７を得ることができる。合計含有量（Ｈ２＋Ｃ２）が上記した下限以上であれば、エッチング性に優れる第２無機酸化物層７を得ることができる。

【0084】

具体的には、第２無機酸化物層７における炭素原子の含有量Ｃ２は、例えば、１×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、好ましくは、２×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上であり、より好ましくは、３×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上であり、また、例えば、１００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、好ましくは、５０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、より好ましくは、３０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、さらに好ましくは、１０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。
第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２と炭素原子の含有量Ｃ２との合計含有量（Ｈ２＋Ｃ２）の、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１と炭素原子の含有量Ｃ１との合計含有量（Ｈ１＋Ｃ１）に対する比「（Ｈ２＋Ｃ２）／（Ｈ１＋Ｃ１）」は、水素原子の比（Ｈ２／Ｈ１）よりも大きい方が好ましく、｛（Ｈ２＋Ｃ２）／（Ｈ１＋Ｃ１）｝／（Ｈ２／Ｈ１）の値は、例えば、１．０１以上であり、好ましくは、１．０３以上であり、また、例えば、３．００以下、好ましくは、２．００以下、より好ましくは、１．５０以下である。大気と接触する側に配置される第２無機酸化物層７は、第１無機酸化物層５と比して、大気中の酸素により結晶膜になりやすいが、十分な水素原子量の存在に加えて、さらに炭素原子を多く含有することで、非晶質性が維持され、エッチング性を担保しやすい傾向がある。この理由はいかなる理論にも限定されないが、炭素原子は、原子サイズが水素原子よりも大きく、無機酸化物層の結晶化を阻害しやすいためと推定される。水素原子と炭素原子の合計含有量の比（Ｈ２＋Ｃ２）／（Ｈ１＋Ｃ１）が、水素原子の比（Ｈ２／Ｈ１）よりも大きい場合、そうでない場合と比して、第１無機酸化物層５及び第２無機酸化物層７の水素原子量の含有量が小さい水準（例えば、１０×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３程度）であっても良好なエッチング性をより維持しやすい。他方、｛（Ｈ２＋Ｃ２）／（Ｈ１＋Ｃ１）｝／（Ｈ２／Ｈ１）の値が過剰に大きい場合（例えば、値が３．００超える場合）は、第２無機酸化物層７の膜質が劣化し、湿熱耐久性が悪化するおそれがある。

【0085】

第２無機酸化物層７の厚みＴ２は、第２無機酸化物層の厚みＴ２の、第１無機酸化物層の厚みＴ１に対する比（Ｔ２／Ｔ１）が、例えば、０．５以上、好ましくは、０．７５以上、また、例えば、１．５以下、好ましくは、１．２５以下となるように、調整される。

【0086】

比（Ｔ２／Ｔ１）が上記した下限以上であり、かつ、上記した上限以下であれば、湿熱環境下であっても金属層６の劣化を抑制することができる。

【0087】

具体的には、第２無機酸化物層７の厚みＴ２は、例えば、５ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上、さらに好ましくは、３０ｎｍ以上であり、また、例えば、６０ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下である。第２無機酸化物層７の厚みＴ２が上記範囲であれば、光透過性無機層４の可視光透過率を高い水準に調整しやすい。

【0088】

そして、光透過性無機層４の厚み、すなわち、第１無機酸化物層５、金属層６および第２無機酸化物層７の総厚みは、例えば、２０ｎｍ以上、好ましくは、４０ｎｍ以上、より好ましくは、６０ｎｍ以上、さらに好ましくは、８０ｎｍ以上であり、また、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１２０ｎｍ以下、より好ましくは、１００ｎｍ以下である。

【0089】

８． 光透過性フィルムの製造方法
次に、光透過性フィルム１を製造する方法を説明する。

【0090】

光透過性フィルム１を製造するには、例えば、透明基材２の上に、保護層３と、第１無機酸化物層５と、金属層６と、第２無機酸化物層７とを、上記した順序で配置（積層）する。

【0091】

この方法では、図１が参照されるように、まず、透明基材２を用意する。

【0092】

用意した透明基材２（高分子フィルム）における水分量は、例えば、１０μｇ／ｃｍ^２以上、好ましくは、１５μｇ／ｃｍ^２以上であり、また、例えば、２００μｇ／ｃｍ^２以下、好ましくは、１７０μｇ／ｃｍ^２以下である。水分量が上記した下限以上であれば、後で形成する第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７の結晶性が経時で大きく変化することを抑制しやすい。一方、水分量が上記した上限以下であれば、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２と、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１との差が大きくなることを抑制しやすい。透明基材２における水分量は、ＪＩＳ Ｋ ７２５１（２００２年）Ｂ法−水分気化法に準じて測定される。

【0093】

また、透明基材２（高分子フィルム）に含有される水の、透明基材２に対する含有量は、例えば、０．０５質量％以上、好ましくは、０．１質量％以上であり、また、例えば、１．５質量％以下、好ましくは、１．０質量％以下、より好ましくは、０．５質量％以下でもある。

【0094】

なお、上記した水の一部または全部は、後で説明する脱ガス処理において外部に放出される。

【0095】

次いで、樹脂組成物を透明基材２の上面に、例えば、湿式により、配置する。

【0096】

具体的には、まず、樹脂組成物を透明基材２の上面に塗布する。その後、樹脂組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合には、活性エネルギー線を照射する。

【0097】

これによって、フィルム形状の保護層３を、透明基材２の上面全面に形成する。つまり、透明基材２と、保護層３とを備える保護層付透明基材１２を得る。

【0098】

保護層３に適宜の割合で有機物が含有されている。

【0099】

その後、必要により、保護層付透明基材１２を脱ガス処理する。

【0100】

保護層付透明基材１２を脱ガス処理するには、保護層付透明基材１２を、例えば、１×１０^−１Ｐａ以下、好ましくは、１×１０^−２Ｐａ以下、また、例えば、１×１０^−３Ｐａ以下、好ましくは、５×１０^−４Ｐａ以下の減圧雰囲気下に放置する。脱ガス処理は、後で詳述する乾式の装置に備えられる排気装置（具体的には、ターボ分子ポンプなどを含む）を用いて、実施される。

【0101】

この脱ガス処理によって、透明基材２に含有される水の一部や、保護層３に含有される有機物の一部が、外部に放出される。

【0102】

次いで、光透過性無機層４を保護層３の上面に、例えば、乾式により、配置する。

【0103】

具体的には、第１無機酸化物層５、金属層６および第２無機酸化物層７のそれぞれを、順に、乾式により、配置する。

【0104】

乾式としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。具体的には、マグネトロンスパッタリング法が挙げられる。

【0105】

スパッタリング法で用いられるガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素などの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比は、特に限定されず、反応性ガスの流量の、不活性ガスの流量に対する比で、例えば、０．１／１００以上、好ましくは、１／１００以上であり、また、例えば、５／１００以下である。

【0106】

具体的には、第１無機酸化物層５の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスおよび反応性ガスが併用される。金属層６の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスが単独使用される。第２無機酸化物層７の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスおよび反応性ガスが併用される。

【0107】

スパッタリング法で用いられる電源には限定はなく、例えば、ＤＣ電源、ＭＦ／ＡＣ電源およびＲＦ電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。

【0108】

また、好ましくは、第１無機酸化物層５をスパッタリング法で形成するとき、透明基材２（および保護層３）を冷却する。具体的には、透明基材２の下面（すなわち、透明基材２において第１無機酸化物層５が形成される側の面（つまり、透明基材２の上面）と反対側の面）を、冷却装置（例えば、冷却ロール）などに接触させて、透明基材２（および保護層３）を冷却する。これによって、第１無機酸化物層５を形成するときに、スパッタリングにより生じる蒸着熱などで透明基材２に含有される水、および、保護層３に含有される有機物が、多量に放出され、水が第１無機酸化物層５に過剰に含まれることを抑制することができる。冷却温度は、例えば、−３０℃以上、好ましくは、−１０℃以上であり、また、例えば、６０℃以下、好ましくは、４０℃以下、より好ましくは、２０℃以下である。

【0109】

これによって、第１無機酸化物層５、金属層６および第２無機酸化物層７が順に形成された光透過性無機層４を、保護層３の上に形成する。

【0110】

また、光透過性無機層４の表面抵抗値は、例えば、４０Ω／□以下であり、好ましくは３０Ω／□以下であり、より好ましくは２０Ω／□以下であり、さらに好ましくは１５Ω／□以下であり、また、例えば、０．１Ω／□以上、好ましくは、１Ω／□以上、より好ましくは、５Ω／□以上である。

【0111】

光透過性無機層４の比抵抗は、例えば、２．５×１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、好ましくは２．０×１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、より好ましくは、１．５×１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、さらに好ましくは、１．１×１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、また、例えば、０．０１×１０^−４Ω・ｃｍ以上、好ましくは、０．１×１０^−４Ω・ｃｍ以上であり、より好ましくは、０．５×１０^−４Ω・ｃｍ以上でもある。

【0112】

光透過性無機層４の比抵抗は、光透過性無機層４の厚み（第１無機酸化物層、金属層６、第２無機酸化物層７の総厚み）と、光透過性無機層４の表面抵抗値とを用いて算出される。

【0113】

また、光透過性無機層４は、近赤外線（波長８５０〜２５００ｎｍ）の平均反射率が高いことが好ましい。近赤外線領域の反射率が高い金属層６（例えば、銀または銀合金を含む金属層６）を備える、光透過性無機層４は、例えば、導電性酸化物（例えば、ＩＴＯなど）からなる透明無機酸化物と比して近赤外線の平均反射率が高く、太陽光などの熱線を効率的に遮断できる。そのため、パネル温度が上昇しやすい環境（例えば、屋外など）で使用される画像表示装置にも好適に適用できる。光透過性無機層４の近赤外線（波長８５０〜２５００ｎｍ）の平均反射率は、例えば、１０％以上であり、好ましくは、２０％以上であり、より好ましくは、４０％以上であり、さらに好ましくは、５０％以上であり、また、例えば、９５％以下であり、好ましくは、９０％以下である。

【0114】

そして、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２の、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）を上記範囲に設定する手法に限定はないが、以下の（１）〜（２）のうち、少なくともいずれか１つを選択することが好ましい。

【0115】

（１）第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７を乾式で形成するときに、乾式の装置内の雰囲気に水（水蒸気）を導入する。水の導入方法に限定はないが、例えば、不活性ガスを装置外部に設置した蒸留水貯蔵タンクを経由させることにより調製した、水蒸気と不活性ガスとを含む混合ガスを、乾式の装置内に導入する。これにより、水を容易に導入することができる。さらに、複数のガス導入経路を設け、水蒸気と不活性ガスとを含む混合ガスと、不活性ガス（水蒸気を含まないガス）とを別経路でそれぞれ導入し、その導入比率を適宜変更する。第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７の形成時における水の導入量は、水蒸気の流量の、不活性ガスの流量に対する比で、例えば、０．０１／１００以上、好ましくは０．１／１００以上、より好ましくは０．５／１００以上、さらに好ましくは１／１００以上であり、例えば、２０／１００以下、より好ましくは、１０／１００以下である。水蒸気と不活性ガスとを含む混合ガスと、不活性ガスとを別経路で導入する場合、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７の形成時における水の導入量は、水蒸気と不活性ガスとを含む混合ガスの流量の、不活性ガスの流量に対する比で、例えば、１／１００以上、好ましくは１０／１００以上、より好ましくは１５／１００以上であり、例えば、８０／１００以下であり、５０／１００以下である。第２無機酸化物層７は、第１無機酸化物層５に対して、形成時の水導入量が多いことが好ましく、第２無機酸化物層７を形成するときに導入する水導入量の、第１無機酸化物層５を形成するときに導入する水導入量に対する比（第２無機酸化物層７を形成するときに導入する水導入量／第１無機酸化物層５を形成するときに導入する水導入量）で、例えば、１１０／１００以上、好ましくは１２０／１００以上、より好ましくは、１５０／１００以上である。

【0116】

この（１）であれば、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１、および、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２のそれぞれを、簡単に制御することができる。

【0117】

（２）光透過性無機層４の形成を開始してから完了するまでの時間、具体的には、第１無機酸化物層５の形成の開始から第２無機酸化物層７の形成の完了までの時間を、短時間に設定し、具体的には、例えば、１５分以下、好ましくは、１０分以下、より好ましくは、５分以下、さらに好ましくは、３分以下、また、例えば、５秒以上、好ましくは、３０秒以上に設定する。

【0118】

第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７を乾式で形成するときに、透明基材２に由来するガス成分（具体的には、水など）が、真空（減圧）雰囲気下において、経時的に減少する。そして、第２無機酸化物層７を乾式で形成するときに、第２無機酸化物層７に含有される水の含有量が、真空（減圧）雰囲気下において、経時的に、顕著に減少する。そのため、この（２）であれば、短時間で光透過性無機層４を形成し終えれば、第２無機酸化物層７に含有される水の低減する割合を抑制するので、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２と、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１とを近似させて（換言すれば、Ｈ２とＨ１との差を小さくし）、Ｈ２／Ｈ１を１に近似させることができる。

【0119】

第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２の、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）を上記範囲に設定するには、好ましくは、（１）および（２）を併用する。

【0120】

これによって、図１に示すように、順に、透明基材２と、保護層３と、第１無機酸化物層５と、金属層６と、第２無機酸化物層７とを備える光透過性フィルム１を得る。

【0121】

光透過性フィルム１は、金属層６の上面および下面に光学調整層（第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７）を備える光透過性無機層４を備えるため、光透過性無機層４が、概して可視光反射率の高い金属層６（具体的には、例えば、波長５５０ｎｍの反射率が、１５％以上、さらには、３０％以上の金属層６）を含んでいても高い可視光透過率を実現できる。光透過性フィルム１の可視光透過率は、例えば、６０％以上であり、好ましくは、７０％以上であり、より好ましくは、８０％以上であり、さらに好ましくは、８５％以上であり、最も好ましくは、８６％超であり、また、例えば、９５％以下である。

【0122】

光透過性フィルム１の総厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下であり、より好ましくは、１５０μｍ以下である。

【0123】

なお、上記した製造方法を、ロールトゥロール方式で実施できる。また、一部または全部をバッチ方式で実施することもできる。

【0124】

９． 光透過性無機層のパターンニング
その後、図２に示すように、エッチングによって、光透過性無機層４を配線パターンに形成する。これによって、保護層３の上に、非パターン部９およびパターン部１０を形成する。非パターン部９では、保護層３の上面がパターン部１０から露出する。

【0125】

具体的には、まず、感光性フィルムを、第２無機酸化物層７の上面全面に配置し、次いで、図２が参照されるように、非パターン部９およびパターン部１０に対応するパターンを有するフォトマスクを介して露光し、その後、現像することにより、非パターン部９に対応する感光性フィルムを除去する。これにより、パターン部１０となる光透過性無機層４の上面に、パターン部１０と同一パターンを有するエッチングレジスト８を形成する。

【0126】

その後、エッチングレジスト８から露出する光透過性無機層４を、エッチング液を用いて、エッチングする。エッチング液としては、少なくとも第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７を、好ましくは、第１無機酸化物層５、金属層６および第２無機酸化物層７を、溶解することができるエッチング液であれば、その組成に限定はないが、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、蓚酸、リン酸およびこれらの混酸などの酸が挙げられる。これによって、非パターン部９に対応する第２無機酸化物層７、金属層６および第１無機酸化物層５を除去する。

【0127】

これにより、図２に示すように、光透過性無機層４を、ストライプ形状のパターン部１０を有する配線パターンに形成する。パターン部１０は、例えば、前後方向に延び、左右方向に互いに間隔（非パターン部９）を隔てて複数整列配置されている。各パターン部１０の幅Ｌは、例えば、１μｍ以上、３０００μｍ以下である。隣接するパターン部１０の間隔Ｓは、例えば、１μｍ以上、３０００μｍ以下である。

【0128】

その後、エッチングレジスト８を、第２無機酸化物層７の上面から、例えば、剥離などによって、除去する。

【0129】

その後、光透過性フィルム１は、例えば、光学装置に備えられる。

【0130】

光学装置としては、例えば、画像表示装置、調光装置などが挙げられる。

【0131】

光透過性フィルム１を画像表示装置（具体的には、ＬＣＤモジュールなどの画像表示素子を有する画像表示装置）に備える場合には、光透過性フィルム１は、例えば、タッチパネル用基材として用いられる。タッチパネルの形式としては、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられる。

【0132】

また、光透過性フィルム１を、例えば、近赤外線反射用基材として使用することができる。例えば、波長８５０〜２５００ｎｍの近赤外線の平均反射率が高い（例えば、１０％以上）光透過性フィルム１を画像表示装置に備えることで、屋外使用向けの画質表示装置に好適に適用できる。光透過性フィルム１は、例えば、偏光フィルムに貼り合せた、光透過性無機層積層偏光フィルムとして画像表示装置に備えることもできる。

【0133】

また、光透過性フィルム１を調光装置（具体的には、ＬＥＤなどの光源を有する調光装置）に備える場合には、光透過性フィルム１は、例えば、調光フィルムとして備えられる。

【0134】

１０． 作用効果
この光透過性フィルム１によれば、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７の両方を、エッチングにより確実にパターンニングすることができながら、オーバーエッチング部分１１の形成を抑制することができる。

【0135】

つまり、比（Ｈ２／Ｈ１）が、０．１０以上、１０．００以下であるので、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７の物性（例えば、膜質）を近似させることができる。具体的には、第１無機酸化物層５のエッチング液に対するエッチング速度Ｒ１と、第２無機酸化物層７のエッチング液に対するエッチング速度Ｒ２とを近似させることができる。そのため、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７のいずれかでオーバーエッチング部１１を生じることを抑制することができる。

【0136】

一方、特開２００３−３６０３７号公報には、銀合金導電層と、導電保護層とを備える銀合金配線、および、銀合金導電層のエッチング速度と、導電保護層のエッチング速度との相違に基づき、銀合金導電層においてサイドエッチング部分（オーバーエッチング部分）が形成される点が開示されている。しかし、特開２００３−３６０３７号公報には、上記した「発明が解決しようとする課題」欄で記載したように、第１無機酸化物層または第２無機酸化物層におけるオーバーエッチング部分を開示するものではない。

【0137】

また、この光透過性フィルム１では、第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１、および、第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２が、ともに、５×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、８，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であれば、優れた湿熱耐久性を保持することができる。

【0138】

また、この光透過性フィルム１では、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７のうち、少なくとも一方が、酸化インジウムを含有すれば、良好なエッチング性と耐環境性とを両立することができる。

【0139】

また、この光透過性フィルム１では、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７のいずれもが、非晶質であれば、エッチングによるパターンニングを容易に実施することができる。

【0140】

また、この光透過性金属積層フィルム１では、金属層６が、銀または銀合金を含む金属層であれば、近赤外線の平均反射率が高く、太陽光などの熱線を効率的に遮断できる。

【0141】

また、この光透過性フィルム１では、金属層６が、銀または銀合金を含む金属層であれば、近赤外線の平均反射率が高く、太陽光などの熱線を効率的に遮断できる。

【0142】

また、この光透過性フィルム１では、第２無機酸化物層７の厚みＴ２の、第１無機酸化物層５の厚みＴ１に対する比（Ｔ２／Ｔ１）が、０．５以上、１．５以下であれば、金属層６の劣化を抑制することができる。

【0143】

また、この光透過性フィルム１では、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７は、炭素原子をさらに含有しており、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１と炭素原子の含有量Ｃ１との合計含有量（Ｈ１＋Ｃ１）、および、第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２と炭素原子の含有量Ｃ２との合計含有量（Ｈ２＋Ｃ２）が、ともに、６×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上、１０，０００×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であれば、光透過性無機層４の非晶質性に優れ、エッチング性をより確実に維持することができる。

【0144】

１１． 変形例
変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。

【0145】

一実施形態において、第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７における無機酸化物として、ともに、ＩＴＯを例示しているが、例えば、一方における無機酸化物が、ＩＴＯを含有し、他方における無機酸化物が、ＩＴＯ以外の無機酸化物（例えば、ＴｉＯｘ、ＩＺＯ、ＩＧＯ、ＩＧＺＯなど）を含有することができる。

【0146】

一実施形態では、図１に示すように、透明基材２の上に、光透過性無機層４を設けているが、図示しないが、透明基材２の下に、さらに、光透過性無機層４を設けることもできる。つまり、光透過性フィルム１は、透明基材２の上下両側に、それぞれ、順に、保護層３と、光透過性無機層４とを備えることができる。

【0147】

一実施形態では、図１に示すように、保護層３を、透明基材２および第１無機酸化物層５の間に介在させている。しかし、例えば、図５に示すように、第１無機酸化物層５を透明基材２の上面に直接配置することもできる。つまり、光透過性フィルム１は、順に、透明基材２、第１無機酸化物層５、金属層６および第２無機酸化物層７を備えている。一方、この光透過性フィルム１は、保護層３を備えていない。

【0148】

一実施形態では、図１に示すように、第１無機酸化物層５を保護層３の上面に直接配置している。しかし、例えば、図６に示すように、無機物層１３を、保護層３および第１無機酸化物層５の間に介在させることもできる。

【0149】

無機物層１３は、保護層３とともに、光透過性無機層４における配線パターンの視認を抑制するように、光透過性フィルム１の光学物性を調整する光学調整層（第２光学調整層）である。無機物層１３は、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、保護層３の上面全面に、保護層３の上面に接触するように、配置されている。無機物層１３は、所定の光学物性を有し、例えば、酸化物、フッ化物などの無機物から調製されている。無機物層１３の厚みは、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、より好ましくは、１０ｎｍ以上であり、また、例えば、８０ｎｍ以下、好ましくは、４０ｎｍ以下、より好ましくは、２５ｎｍ以下である。

【実施例】

【0150】

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。

【0151】

実施例１
（フィルム基材の用意、および、保護層の形成）
まず、長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなり、厚みが５０μｍである透明基材を用意した。なお、用意した透明基材における水分量は、１９μｇ／ｃｍ^２であり、また、水の、透明基材に対する含有量は、０．２７質量％でもあった。

【0152】

次いで、透明基材の上面に、アクリル樹脂からなる紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線照射により硬化させて、硬化樹脂層からなり、厚みが２μｍである保護層を形成した。これにより、透明基材と、保護層とを備える保護層付透明基材ロールを得た。

【0153】

（第１無機酸化物層の形成）
次いで、保護層付透明基材ロールを真空スパッタ装置に設置して静置し、未搬送時の気圧が４×１０^−３Ｐａとなるまで真空排気した（脱ガス処理）。この時、スパッタリングガス（ＡｒおよびＯ_２）を導入しない状態で、保護層付透明基材の一部を搬送し、２×１０^−２Ｐａまで気圧が上がることを確認した。これにより、保護層付透明基材ロールに十分な量のガスが残存していることを確認した。

【0154】

次いで、保護層付透明基材ロールを繰り出しながら、硬化樹脂層の上面に、スパッタリングにより、インジウムスズ酸化物層からなり、厚みが４２ｎｍである第１無機酸化物層を形成した。

【0155】

具体的には、ＡｒおよびＯ_２を導入した気圧０．３Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ_２＝１００：１．４）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、１０質量％の酸化スズと９０質量％の酸化インジウムとの焼結体からなるターゲットをスパッタリングした。

【0156】

なお、スパッタリングにより第１無機酸化物層を形成するとき、保護層付透明基材ロールの下面（具体的には、透明基材の下面）を、−５℃の冷却ロールに接触させて、保護層付透明基材ロールを冷却した。

【0157】

（金属層の形成）
Ａｇ−Ｐｄ合金からなり、厚みが８ｎｍである金属層を、スパッタリングにより、第１無機酸化物層の上面に形成した。

【0158】

具体的には、Ａｒを導入した気圧０．３Ｐａの真空雰囲気で、電源として、直流（ＤＣ）電源を用い、Ａｇ−Ｐｄターゲット（Ｐｄの含有割合：０．５質量％）をスパッタリングした。

【0159】

（第２無機酸化物層の形成）
ＩＴＯからなり、厚みが４０ｎｍである第２無機酸化物層を、金属層の上面に、スパッタリングにより、形成した。

【0160】

具体的には、ＡｒおよびＯ_２を導入した気圧０．４Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ_２＝１００：１．５）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、１０質量％の酸化スズと９０質量％の酸化インジウムとの焼結体からなるターゲットをスパッタリングした。

【0161】

また、第１無機酸化物層の形成を開始してから、第２無機酸化物層を形成し終えるまでに要した時間、すなわち、光透過性無機層の形成に要した時間は、３．５分であった。

【0162】

これによって、透明基材の上に、順に、保護層、第１無機酸化物層、金属層および第２無機酸化物層が形成された光透過性フィルムを得た。

【0163】

実施例２
保護層付透明基材ロールを真空スパッタ装置に設置した後における未搬送時の気圧を、４×１０^−４Ｐａに変更し、１２質量％の酸化スズと８８質量％の酸化インジウムとの焼結体からなるターゲットを用いて第１無機酸化物層および第２無機酸化物層を形成し、光透過性無機層の形成に要した時間を、３．５分から０．７分に変更した以外は、実施例１と同様にして光透過性フィルムを得た。

【0164】

実施例３
Ａｇ−Ｐｄターゲットをスパッタリングする際の放電出力を２５％小さくして、金属層の厚みを６ｎｍに変更した以外は、実施例２と同様にして光透過性フィルムを得た。

【0165】

実施例４
Ａｇ−Ｐｄターゲットをスパッタリングする際の放電出力を２５％大きくして、金属層の厚みを１０ｎｍに変更した以外は、実施例２と同様にして光透過性フィルムを得た。

【0166】

比較例１
保護層付透明基材ロールを真空スパッタ装置に設置した後における未搬送時の気圧を、４×１０^−３Ｐａから、９×１０^−５Ｐａに変更し、また、光透過性無機層の形成に要した時間を、３．５分から１８０分に変更した以外は、実施例１と同様にして光透過性フィルムを得た。

【0167】

（測定）
（１）厚み
保護層、第１金属酸化物層、金属層および第２金属酸化物の厚みを、透過型電子顕微鏡（日立製作所製 Ｈ−７６５０）を用いた断面観察により測定した。

【0168】

また、基材の厚みを、膜厚計（Ｐｅａｃｏｃｋ社製 デジタルダイアルゲージＤＧ−２０５）を用いて測定した。

【0169】

（２）水素原子および炭素原子の含有量
二次イオン質量分析装置（装置名「ＰＨＩ ＡＤＥＰＴ−１０１０」、アルバック・ファイ社製）を用いて、二次イオン質量分析法により、第１無機酸化物層における水素原子および炭素原子の含有量（Ｈ１、Ｃ１）を測定した。具体的には、第１無機酸化物層の厚み方向中央部における水素原子の含有量（Ｈ１）および炭素原子の含有量（Ｃ１）を、二次イオン質量分析法により、測定した。

【0170】

また、第２無機酸化物層における水素原子の含有量（Ｈ２）、および、炭素原子の含有量（Ｃ２）についても、第１無機酸化物層の測定と同様にして、実施した。

【0171】

（３）光透過性無機層の比抵抗
ＪＩＳ Ｋ７１９４（１９９４年）の４探針法に準拠して測定した光透過性無機層の表面抵抗値と、（１）の厚みの測定にて求めた光透過性無機層の厚みとの積から光透過性無機層の比抵抗を算出した。その結果を表１に示す。

【0172】

（４）エッチング性
光透過性無機層４の上面全面に、感光性フィルム（ＤＦＲ、商品名「ＲＹ３３１０」、日立化成社製）を配置し、次いで、図２が参照されるように、非パターン部およびパターン部が形成に対応するパターンを有するフォトマスクを露光し、その後、現像することにより、非パターン部に対応する感光性フィルムを除去した。これにより、パターン部となる光透過性無機層４の上面に、パターン部と同一パターンを有するエッチングレジスト１３を形成した。その後、エッチングレジスト１３から露出する光透過性無機層４を、４０℃に加温したエッチング液（株式会社ＡＤＥＫＡ社製、アデカケルミカ ＳＥＴ−５００）に３０秒浸漬することで、エッチングした。

【0173】

これにより、図２に示すように、光透過性無機層４を、ストライプ形状のパターン部を有する配線パターンに形成した。パターン部の幅Ｌは、１００μｍであり、また、非パターン部の幅Ｓ（つまり、隣接するパターン部の間隔Ｓ）は、１００μｍであった。

【0174】

その後、レジスト付き光透過性無機層パターンにおいて、ＴＥＭにより、第１無機酸化物層および第２無機酸化物層のオーバーエッチング部分の有無および程度を観察して、下記の基準に基づいて、エッチング性を評価した。なお、第２無機酸化物層については、オーバーエッチング部分が観察されなかった。

【0175】

なお、下記の「オーバーエッチング部分の幅方向長さ」とは、第２無機酸化物層の端縁から、第１無機酸化物層において、内側に浸食された部分のうち、最も内側に位置する部分（最深部）までの距離Ｄである。

【0176】

基準
○：第１無機酸化物層におけるオーバーエッチング部分の幅方向長さＤが、１０μｍ未満であった。
△：第１無機酸化物層におけるオーバーエッチング部分の幅方向長さＤが、１０μｍ以上、１５μｍ未満であった。
×：第１無機酸化物層におけるオーバーエッチング部分の幅方向長さＤが、１５μｍ以上であった。

【0177】

（５）光学特性
ヘーズメーター（スガ試験機社製、装置名「ＨＧＭ−２ＤＰ）を用いて、全光線透過率を測定し、可視光透過率とした。

【0178】

また、各実施例、比較例の光透過性フィルムの光透過性無機層とは反対の側に、粘着剤付き黒色板を気泡の入らないように貼り合せた。次いで、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製「Ｕ−４１００」）を用いて、近赤外線領域（８５０〜２５００ｎｍ）の光反射率を５ｎｍピッチで測定し、光透過性無機層の反射率の平均値（平均反射率）を算出した。

【0179】

その結果を表１に示す。

【0180】

【表1】

【符号の説明】

【0181】

１ 光透過性フィルム
２ 透明基材
４ 光透過性無機層
５ 第１無機酸化物層
６ 金属層
７ 第２無機酸化物層

【要約】

【課題】第１無機酸化物層および第２無機酸化物層の両方を、エッチングにより確実にパターンニングすることができながら、オーバーエッチング部分の発生を抑制することのできる光透過性フィルムを提供すること。
【解決手段】光透過性フィルム１は、順に、透明基材２と、光透過性無機層４とを備える。透明基材２は、高分子フィルムからなる。光透過性無機層４は、順に、第１無機酸化物層５と、金属層６と、第２無機酸化物層７とを備える。光透過性無機層４は、導電性を有する。第１無機酸化物層５および第２無機酸化物層７は、水素原子を含有する。第２無機酸化物層７における水素原子の含有量Ｈ２の、第１無機酸化物層５における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）が、０．１０以上、１０．００以下である。
【選択図】図１

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】