(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】5977840
(24)【登録日】2016年7月29日
(45)【発行日】2016年8月24日
(54)【発明の名称】流動式接触分解及び処理装置における軽質オレフィンを最大化する添加剤
(51)【国際特許分類】
C10G 11/05 20060101AFI20160817BHJP
C10G 11/18 20060101ALI20160817BHJP
B01J 29/80 20060101ALI20160817BHJP
【FI】
C10G11/05
C10G11/18
B01J29/80 M
【請求項の数】8
【全頁数】12
(21)【出願番号】特願2014-559039(P2014-559039)
(86)(22)【出願日】2012年3月2日
(65)【公表番号】特表2015-510009(P2015-510009A)
(43)【公表日】2015年4月2日
(86)【国際出願番号】BR2012000055
(87)【国際公開番号】WO2013126974
(87)【国際公開日】20130906
【審査請求日】2015年1月8日
(73)【特許権者】
【識別番号】591005349
【氏名又は名称】ペトロレオ ブラジレイロ ソシエダ アノニマ − ペトロブラス
(74)【代理人】
【識別番号】110000855
【氏名又は名称】特許業務法人浅村特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】バスティアーニ、ラケル
(72)【発明者】
【氏名】ラウ、ラム、イウ
(72)【発明者】
【氏名】デ レゼンデ ピンホ、アンドレア
(72)【発明者】
【氏名】ワッセルマン、ロナーザ
(72)【発明者】
【氏名】ド エスピリート サント、イヴァニルダ バルボサ
【審査官】
▲来▼田 優来
(56)【参考文献】
【文献】
米国特許出願公開第2009/0107885(US,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
C10G,B01J
JSTPlus/JMEDPlus/JST7580(JDreamIII)
CAplus/REGISTRY(STN)
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
FCC装置において軽質オレフィンを最大化するための添加剤であって、
MFI及びFERのゼオライト混合物を少なくとも0.5:1のFER/MFI質量比で含むことを特徴とする上記添加剤。
【請求項2】
MFIゼオライトがZSM−5型のゼオライトであることを特徴とする、請求項1による添加剤。
【請求項3】
軽質オレフィンを最大化するためのFCCプロセスであって、
請求項1による添加剤の混合物を、炭化水素供給原料を分解する条件で、2%w/wより大きな添加剤の最終濃度で当該プロセスのベース触媒在庫中に含むことを特徴とする、上記FCCプロセス。
【請求項4】
該ベース触媒在庫に対する最終MFI濃度が1%w/wより大きいことを特徴とする、請求項3によるプロセス。
【請求項5】
該炭化水素供給原料が、ナフサ、ケロシン、ディーゼル又はガス油流であるか、石油の蒸留からの、または、ディレイド・コーキング装置、水素化分解装置、もしくは水素処理装置を含む精製装置からの他のいずれかの流出液であることを特徴とする、請求項3によるプロセス。
【請求項6】
該炭化水素供給原料が、流動式接触分解装置、ディレイド・コーキング装置、水素化分解装置、または水素処理装置を含む精製装置のC4及びC5流の再生流を含むことを特徴とする、請求項3によるプロセス。
【請求項7】
該炭化水素供給原料が−11℃より上の初期沸点を示すことを特徴とする、請求項3によるプロセス。
【請求項8】
10と50の間の触媒/油比、及び550℃と750℃の間の温度を示すことを特徴とする、請求項3によるプロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、炭化水素の流動式接触分解(FCC)プロセスに使用するための添加剤、より具体的には、軽質オレフィン、特にエチレン及びプロピレンの収率を増加させるために、非常に厳しい条件下で操作しながら、FCC装置に使用するためのフェリエライト(ferrierite)及びMFIゼオライトの混合物を含有する添加剤の分野に関する。
【背景技術】
【0002】
流動式接触分解(FCC)プロセスは、現在世界で製造されているプロピレンの三分の一を担っている。石油化学的FCCプロセスの出現は、プロピレン及びエチレンの両方の製造を顕著に増加させることに貢献した。かかるプロセスは、伝統的にY及びMFIゼオライトをベースにした触媒を、適用されるプロセスの負担及び特性によってこれら触媒の濃度を変化させながら使用している。
【0003】
軽質オレフィンの製造を中心に扱う現在使用されているFCCプロセスは、約20%w/wのエチレン及び24%w/wのプロピレンという製造限界を示し、かなりの量の芳香族化合物(約18%w/w)をも製造している。かくして、芳香族化合物の形成を最小にすると同時に、軽質オレフィンのより多くの製造を目的とする新しい触媒系が非常に望ましい。
【0004】
最近になって、FCC装置における軽質オレフィン(エチレン及びプロピレン)の製造を増加させるFERをベースとする添加剤の使用を提案する文献が発行されている。例えば、米国特許6,867,341号は、650℃〜670℃の温度で操作するナフサ供給原料の流動式接触分解プロセスを開示している。該プロセスは高いSi/Al比のゼオライトであるFERをベースとする添加剤を使用している。前記文献における実施例は、FERゼオライトが、他の試験されたゼオライト、例えば、ベータ、オメガ、モルデン沸石、EU−1、SUZ−4、ZSM−22及びZSM−23と比較して、エチレン及びプロピレンに対して高い選択率を有することを示している。
【0005】
同じ系列として、文献WO2006/098712があり、純粋なFERを添加剤として用いて、600℃〜675℃の温度で操作するナフサの流動式接触分解プロセスを開示している。添加剤としてのFERの使用は、芳香族化合物の形成を少なくすると共に、エチレン及びプロピレンに対する高い選択率を促進する。この文献では、FCCプロセスにおける添加剤としてのFERの使用が、ベータ、オメガ、モルデン沸石、EU−1、ZSM−22、ZSM−23、SUZ−4及びMFIゼオライトを含む添加剤としての他のゼオライトの使用と比較されている。
【0006】
FERゼオライトは、芳香族化合物の生成を減少させると共にエチレン及びプロピレンに対する高い選択率を示すけれども、その細孔の開口部は8員環及び10員環から成り、MFIゼオライトのものと比較して顕著に小さいので、軽質オレフィンを最大にするために通常使用されるMFI型ゼオライトのようなゼオライトよりも低い触媒活性を示す。
【0007】
米国公開公報2010/0105974は、650℃より上の反応温度で操作するナフサ供給原料の流動式接触分解プロセスを開示している。該文献は、FCCプロセスにおけるベース触媒に対する添加剤として、触媒の混合物の使用を開示している。この混合物は、Rho、菱沸石、ZK−5,ITQ−3,ZK−4、エリオナイト、フェリエライト、チノプチロライト、ZSM−22及びそれらの混合物であってもよい、開口部が3〜5Åである小さな細孔を有するゼオライトをベースとする第一触媒、並びに、MFI型のゼオライトでありナノ−シリカライトと著者により命名された、細孔の開口部が5〜5.5Åである中間細孔径のゼオライトをベースとする第二触媒を含む。該ゼオライトは200よりも大きなシリカ−アルミナ比を有するべきである。
【0008】
しかしながら、添加剤としてFERゼオライト及びナノ−シリカライトの混合物を含む触媒系の使用は、純粋なナノ−シリカライトの使用と比較した時、より高い収率の軽質オレフィンを生成しない。従って、該文献は、エチレン/プロピレン比を変化させて、プロピレン製造の損失に対してエチレンの製造を最大にするという唯一の目的のための混合物の使用を開示している。
【0009】
それ故に、この技術は、以下に詳細に説明されるように、軽質オレフィン、特にエチレン及びプロピレンの製造を最大にし、しかも高い活性を示す、FCCプロセスに使用するための添加剤を依然として必要としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0010】
【特許文献1】米国特許6,867,341号
【特許文献2】WO2006/098712
【特許文献3】米国文献2010/0105974
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0011】
本発明は、軽質オレフィン、特にエチレン及びプロピレンに関して高い選択率を得るために、非常に厳しい条件で操作する流動式接触分解(FCC)プロセスに使用する添加剤を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0012】
かかる添加剤は、フェリエライト(FER)及びMFIゼオライトの混合物を少なくとも0.5:1のFER/MFI質量比で含み、MFI型ゼオライト(ZSM−5)のみを含む添加剤のような従来の添加剤と比較したとき、プロピレンに対する選択率の損失なしに高い活性を示す。
【発明を実施するための形態】
【0013】
広い意味で言えば、本発明は流動式接触分解(FCC)プロセス装置における軽質オレフィンの最大化に適用できる添加剤に関する。
【0014】
かかる添加剤は、FER/MFI質量比が少なくとも0.5:1であるFERゼオライト及びMFIゼオライトの混合物を含んでなり、該添加剤は、FCCプロセスのベース触媒の在庫(inventory)に、該ベース触媒在庫に対する該添加剤の最終濃度が2%w/wより大きくなるように添加される。
【0015】
本発明において、ZSM−5又はZSM−11のゼオライトから選択されてよいMFIゼオライトが、FCC装置のベース触媒在庫に対して1%w/wより大きな最終濃度で使用される。
【0016】
MFIゼオライト及びFERゼオライトの混合物においては、プロパン生成の原因である、MFIゼオライトにより促進される水素移動反応への寄与を、FERゼオライトが減少させ、それによって、下記の例3で得られる結果から明らかなように、軽質オレフィンに対する選択率、特にエチレン及びプロピレンに対する選択率が改良されるので、MFIゼオライト及びFERゼオライトの間には相乗効果がある。
【0017】
本発明のもう一つの局面は、軽質オレフィン、特にエチレン及びプロピレンを最大化するための炭化水素供給原料についてのFCCプロセスであり、ここで、軽質オレフィンの収率は、該プロセスのベース触媒在庫中への添加剤の混合効果により制御される。
【0018】
炭化水素流という供給原料は、FCCプロセス用の典型的供給原料、例えば、ナフサ、ケロシン、ディーゼル又はガス油流、並びに、石油の蒸留からの、または、ディレイド・コーキング装置、水素化分解装置(hydrocracking units)、もしくは水素処理装置(hydrotreating units)のような精製装置からの他のいずれかの流出液の中から選択されうる。
【0019】
流動式接触分解装置、ディレイド・コーキング装置、水素化分解装置及び水素処理装置のような精製装置のC4及びC5流の再生流もまた、供給原料として使用されうる。
【0020】
LPG、ナフサ、ケロシン、ディーゼル又はガス油タイプの炭化水素供給原料、好ましくは−11℃より上の初期沸点を示す供給原料が、該プロセスに好ましい。FCCプロセス装置に関して、該分解条件には10と50の間の触媒/油比、及び550℃と750℃の間の温度が含まれる。
【0021】
FCCプロセスに関しても、使用すべきベース触媒は、Yゼオライトをベースとする触媒、例えばアルミナ、シリカ−アルミナ、又はクレイ等を含有する多孔性マトリックスであってもよい。
【0022】
かくして、本発明の添加剤は、軽質オレフィンの収率を最大化する目的で、FCCプロセスの触媒在庫中に混合されうる。この混合物は、FCCベース触媒の活性を著しく変化させることなしに、該装置のベース触媒在庫に対する2%w/wより上の最終添加剤濃度を維持しなければならない。
【実施例】
【0023】
実施例
下記の本発明の諸例は、単に説明のためのものであり、FER及びMFIの両方のゼオライトを含有する添加剤が上述の性能を達成する固有の能力が、適用されるMFI及びFERの含量の範囲を制限することなしに、かつこれらのゼオライトが配合される手法、即ち、別個の粒子としてか又は組み合せてかの手法を制限することなしに、MFIゼオライトのみを含有する従来の添加剤よりも優れていることを示そうとするものである。
【0024】
以下のすべての例において、プロトン形状のゼオライトはベース触媒(E−Cat)と混合されて固定床型反応器を有する接触分解装置中で試験される。採用された反応温度は600℃であり、典型的なブラジルのガス油が供給原料として使用される。該触媒質量及び該供給原料質量は夫々9g及び1.8gに固定され、従って触媒/油比は5に維持される。主として、石油化学の対象となる軽質オレフィン(エチレン及びプロピレン)の収率に対するこれらゼオライトの効果が評価される。すべての触媒が2回評価される。
【0025】
触媒の試験は、所望の温度に予熱された床中に供給原料を注入することにより始められる。その生成物は−10℃の浴中に浸されたアンプルに回収される。供給原料の注入が終了したら、触媒床に含有されるいかなる生成物をも除去するために窒素の連続流を維持する。この床調整の完了後に、該アンプルからその液体を回収して重さを量る。該液体生成物を次に模擬蒸留(Simulated Distillation)、即ちSD(ASTM D2877)法を用いてガス・クロマトグラフィーにより分析する。
【0026】
該SDは、次の生成物、即ち、ナフサ(<216.4℃)、軽質サイクル油[LCO](216.4℃<LCO<344℃)、及び残渣(>344℃)の同定を可能にする。形成されたガス状生成物は、形成された生成物の体積により、そして該ガスをガス・クロマトグラフィーにより定量することにより測定される。コークス化した触媒は触媒試験の終了時に反応器から除去される。触媒上に形成されたコークスは、次にLECO CS−244炭素分析器中で定量される。該コークスはこの装置中で完全にCO
2に変換されるまで燃焼させられ、それが次に赤外線分析器により分析される。
【0027】
下の表1は、該触媒試験で使用される運転条件の要約を示すものである。
【0028】
【表1】
* 供給原料と共にN
2注入
** 供給原料注入器をコークス化しないような補助N
2の注入
*** sccm − 1分当りの標準立方センチメートル
【0029】
触媒試験で使用されるベース触媒(E−cat)は、FCC装置の典型的な市販用の平衡触媒であり、その性質は表2に示されている。
【0030】
表2はまた、提示される触媒試験で使用されるMFI及びFERゼオライトの化学的及び組織構造上の特性の記載を含む。
【0031】
使用された供給原料はガス油であったが、その特性は表3に示されている。
【0032】
【表2】
* SAR=シリカ/アルミナ比
** 反応条件:石英固定床微小反応器;500℃の温度;大気圧;0.02g触媒質量;0.16のn−ヘキサン/窒素比;及び30ml/分の流量
【0033】
【表3】
【0034】
例1
例1は、石油化学の対象である軽質オレフィン(エチレン+プロピレン)の製造を例証しており、その収率は、E−catに対する1%w/wの純粋なMFIの単独使用で、その上限(20.3%w/w)を達成している。該混合物における1%MFIより上の含量については、プロパン収率の大幅な増加を伴って、軽質オレフィンの製造のかなりの減少が注目される。
【0035】
下の表4は、FCC装置のベース触媒(E−cat)に対する添加剤としてMFI型ゼオライトを使用した触媒試験の結果を提示している。
【0036】
【表4】
【0037】
例2
例2は、E−catと混合されたFERの単独使用を例証しており、それは、(例1で示された)MFIゼオライトのみからなる添加剤で得られるものと同じレベルの軽質オレフィン収率を達成することができない。しかしながら、FERの使用は、パラフィン/オレフィン比を減少させると共に水素移動反応の減少を可能にする。更に、E−catに対するいかなるFER濃度の添加も、MFIゼオライトに関して観察されている(例1に示されている)ようには、プロパンの製造を増加させない。
【0038】
下の表5は、FCC装置のベース触媒(E−cat)に対する添加剤としてFERゼオライトのみを使用した触媒試験の結果を示している。
【0039】
【表5】
【0040】
例3
例3は、E−catに対する添加剤としてMFI及びFERゼオライトの混合物を使用して、純粋なMFI及びFERゼオライトの使用により以前に達成された軽質オレフィンの製造上限を超えることが可能になることを例証している。かくして、純粋なMFIゼオライトの使用は20.3%w/w(例1に示されている)を達成し、純粋なFERは18.2%w/w(例2に示されている)を達成したけれども、接触分解プロセスにおける添加剤としてMFI及びFER混合物を使用することにより、21.4%w/wと22.2%w/wとの間の転化率で軽質オレフィンが得られることが可能になったのである。
【0041】
前述の例はすべて、同じ条件で行われた触媒試験を記載している。
【0042】
FER及びMFIゼオライトの混合物は、それらの純粋な形で以前に評価されたものと同じゼオライトを使用した。かくして、FCCベース触媒に対する添加剤としてFER及びMFI混合物を使用するとき、軽質オレフィンの製造に対する相乗効果があることが実証されうる。触媒系に添加される場合、両方のゼオライトとも軽質オレフィンの製造に貢献するが、FERゼオライトの存在は、パラフィン、主としてプロパンの製造を減少させ、かくして水素移動によるプロピレンの消費を避け、それにより、純粋なMFIの使用に対して、ZSM−5/FER混合物の性能を改良する。
【0043】
下の表6は、FCC装置の(E−cat)ベース触媒に混合されたMFI及びFERゼオライトを含む添加剤を使用した触媒試験の結果を提示している。
【0044】
【表6】
本発明に包含され得る諸態様は、以下のとおり要約される。
[態様1]
FCC装置において軽質オレフィンを最大化するための添加剤であって、
MFI及びFERのゼオライト混合物を少なくとも0.5:1のFER/MFI質量比で含むことを特徴とする上記添加剤。
[態様2]
MFIゼオライトがZSM−5型のゼオライトであることを特徴とする、上記態様1による添加剤。
[態様3]
ZSM−11型のゼオライトを含むことを特徴とする、上記態様1による添加剤。
[態様4]
軽質オレフィンを最大化するためのFCCプロセスであって、
上記態様1による添加剤の混合物を、炭化水素供給原料を分解する条件で、2%w/wより大きな添加剤の最終濃度で当該プロセスのベース触媒在庫中に含むことを特徴とする、上記FCCプロセス。
[態様5]
該ベース触媒在庫に対する最終MFI濃度が1%w/wより大きいことを特徴とする、上記態様4によるプロセス。
[態様6]
該炭化水素供給原料が、ナフサ、ケロシン、ディーゼル又はガス油流であるか、石油の蒸留からの、または、ディレイド・コーキング装置、水素化分解装置、もしくは水素処理装置を含む精製装置からの他のいずれかの流出液であることを特徴とする、上記態様4によるプロセス。
[態様7]
該炭化水素供給原料が、流動式接触分解装置、ディレイド・コーキング装置、水素化分解装置、または水素処理装置を含む精製装置のC4及びC5流の再生流を含むことを特徴とする、上記態様4によるプロセス。
[態様8]
該炭化水素供給原料が−11℃より上の初期沸点を示すことを特徴とする、上記態様4によるプロセス。
[態様9]
10と50の間の触媒/油比、及び550℃と750℃の間の温度を示すことを特徴とする、上記態様4によるプロセス。