(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、各図面において、同一の又は対応する構成については同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。また、型閉じを行う際の可動プラテンの移動方向を前方とし、型開きを行う際の可動プラテンの移動方向を後方として説明する。また、フレームに対して垂直な方向を上下方向として説明する。前後方向、上下方向、および左右方向は互いに垂直な方向である。尚、本実施形態の射出成形機は、横型であるが、竪型であってもよい。
【0010】
[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態による射出成形機の型閉じ完了時の状態を示す図である。
図2は、本発明の第1実施形態による射出成形機の型開き完了時の状態を示す図である。
【0011】
射出成形機は、金型装置30の型閉じ、型締め、型開きを行う型締装置10等を備える。金型装置30は、例えば固定金型32および可動金型33で構成される。金型装置30は、金型温調機によって所定の温度に保たれる。
【0012】
型締装置10は、フレーム11、第1固定部材としての固定プラテン12、第1可動部材としての可動プラテン13、第2固定部材(および型締用部材)としてのリヤプラテン15、第2可動部材としての吸着部材18、型開閉駆動部としてのリニアモータ21、および型締力発生部24等を有する。
【0013】
固定プラテン12は固定プラテン支持部42で支持され、固定プラテン支持部42はフレーム11上に進退自在に載置される。固定プラテン12の金型取付面に固定金型32が取り付けられる。尚、本実施形態の固定プラテン支持部42は、固定プラテン12と別に形成されるが、固定プラテン12と一体に形成されてもよい。
【0014】
可動プラテン13は可動プラテン支持部43で支持され、可動プラテン支持部43はフレーム11上に敷設されるガイド(例えばガイドレール)17に沿って移動自在なガイドブロック14に固定される。これにより、可動プラテン13は、フレーム11に対して進退自在とされる。可動プラテン13の金型取付面に可動金型33が取り付けられる。尚、本実施形態の可動プラテン支持部43は、可動プラテン13と別に形成されるが、可動プラテン13と一体に形成されてもよい。
【0015】
リヤプラテン15は、複数本(例えば4本)のタイバー16を介して固定プラテン12と連結される。リヤプラテン15は、可動プラテン13と吸着部材18との間に配設され、リヤプラテン支持部45で支持される。リヤプラテン支持部45は、フレーム11に固定される。尚、本実施形態のリヤプラテン支持部45は、リヤプラテン15と別に形成されるが、リヤプラテン15と一体に形成されてもよい。
【0016】
吸着部材18は、ロッド19を介して可動プラテン13と連結され、可動プラテン13と共に移動する。可動プラテン13と吸着部材18との間に配設されるリヤプラテン15には、ロッド19を挿通させる挿通孔が形成される。
【0017】
吸着部材18は吸着部材支持部48で支持され、吸着部材支持部48はフレーム11上に敷設されるガイド17に沿って移動自在なスライドベース20に固定される。これにより、吸着部材18は、リヤプラテン15よりも後方において移動自在とされる。尚、本実施形態の吸着部材支持部48は、吸着部材18と別に形成されるが、吸着部材18と一体に形成されてもよい。
【0018】
リニアモータ21は、ロッド19を介して連結される可動プラテン13および吸着部材18をフレーム11に対して移動させる。リニアモータ21は例えば吸着部材18とフレーム11との間に配設され、リニアモータ21による推進力は吸着部材18を介して可動プラテン13に伝達される。
【0019】
尚、リニアモータ21は可動プラテン13とフレーム11との間に配設されてもよく、リニアモータ21による推進力は可動プラテン13を介して吸着部材18に伝達されてもよい。
【0020】
リニアモータ21は、固定子22および可動子23を含む。固定子22はフレーム11に形成され、可動子23はスライドベース20に形成される。可動子23のコイルに所定の電流が供給されると、コイルを流れる電流によって形成される磁場と、固定子22の永久磁石によって形成される磁場との相互作用で、可動子23が進退させられる。その結果、フレーム11に対して吸着部材18および可動プラテン13が進退させられ、型閉じ、および型開きが行われる。尚、コイルと永久磁石の配置は逆でもよく、また、永久磁石の代わりに別のコイルが用いられてもよい。
【0021】
尚、型開閉駆動部として、リニアモータ21の代わりに、回転モータおよび回転モータの回転運動を直線運動に変換するボールねじの組合せ、または油圧シリンダ等が用いられてもよい。
【0022】
型締力発生部24は、リヤプラテン15および吸着部材18で構成され、電磁石25による吸着力で型締力を発生させる。リヤプラテン15の吸着面の所定の部分、例えばロッド19の周りには電磁石25のコイルを収容する溝が形成され、溝の内側に電磁石25のコアが形成される。吸着部26は、吸着部材18の吸着面の所定の部分、例えばロッド19を包囲し、且つ電磁石25と対向する部分に形成される。電磁石25のコイルに電流を供給すると、電磁石25と吸着部26との間に吸着力が生じ、型締力が生じる。
【0023】
尚、本実施形態の電磁石25は、リヤプラテン15とは別に形成されるが、リヤプラテン15の一部として形成されてもよい。また、本実施形態の吸着部26は、吸着部材18とは別に形成されるが、吸着部材18の一部として形成されてもよい。また、電磁石25と吸着部26の配置は逆であってもよい。つまり、吸着部材18側に電磁石25が形成され、リヤプラテン15側に吸着部26が形成されてもよい。また、リヤプラテン側と吸着部材側の両側に電磁石が形成されてもよい。
【0024】
次に、
図1および
図2を参照して、上記構成の型締装置10の動作について説明する。
図2に示す型開き完了の状態でリニアモータ21を駆動して、可動プラテン13を前進させると、
図1に示すように可動金型33と固定金型32とが接触し、型閉じが完了する。型閉じ完了の時点で、リヤプラテン15と吸着部材18との間、即ち電磁石25と吸着部26との間には、所定のギャップδが形成される。
【0025】
型閉じ完了後、電磁石25を駆動して、所定のギャップδをおいて対向する電磁石25と吸着部26との間に吸着力を生じさせる。この吸着力によって、可動プラテン13と固定プラテン12との間に型締力が生じる。
【0026】
型締め状態の固定金型32と可動金型33との間にキャビティ空間が形成される。キャビティ空間に液状の成形材料(例えば溶融樹脂)を充填し、充填された成形材料が固化されて成形品となる。
【0027】
その後、リニアモータ21を駆動して、可動プラテン13を後退させると、可動金型33が後退して型開きが行われる。型開き後、可動金型33から成形品が突き出される。
【0028】
次に、固定プラテン支持部42について説明する。
固定プラテン支持部42は、固定プラテン12における金型取付面(後端面)とは反対側の面(前端面)を支持する。固定プラテン支持部42は、固定プラテン12の中心位置(詳細には、固定プラテン12における複数本のタイバー16の取付位置の中心位置)を挟んで左右両側に設けられてよい。尚、固定プラテン支持部42は、固定プラテン12の側面を支持してもよい。
【0029】
固定プラテン支持部42は、被支持部材としての固定プラテン12を前方から支持して、フレーム11と固定プラテン12との間に隙間を形成する。固定プラテン12が上下両方向に熱変形でき、固定プラテン12の温度変化によってフレーム11に対する固定プラテン12の中心位置が上下にずれにくい。また、固定金型32から固定プラテン12に供給された熱が固定プラテン12の下面を介してフレーム11へ移動しにくい。よって、固定プラテン12の温度分布が上下対称になりやすく、固定プラテン12の反りが抑制できる。
【0030】
固定プラテン支持部42は、型締め時などに固定プラテン12に回転モーメントが作用した場合に固定プラテン12を複数点で支持し、フレーム11に対する固定プラテン12の傾きを抑制する。
【0031】
固定プラテン支持部42は、フレーム11からの距離が異なる複数(例えば2つ)の位置で固定プラテン12を支持する。例えば固定プラテン支持部42は、フレーム11上に移動自在に載置され上方に延びる柱部42aと、柱部42aと固定プラテン12とを連結する第1腕部42b、および柱部42aと固定プラテン12とを連結する第2腕部42cとを有する。柱部42aは固定プラテン12と接触しておらず、第1腕部42bの一端部および第2腕部42cの一端部はフレーム11からの距離が異なる位置で固定プラテン12と連結される。
【0032】
固定プラテン支持部42が固定プラテン12を支持する位置が上下方向に複数存在し、1つのみの場合に比べて、左右方向(図において紙面直交方向)を回転軸線とする固定プラテン12の回転が抑制できる。よって、フレーム11に対する固定プラテン12の傾きが抑制できる。固定金型32と可動金型33との平行度が維持でき、型締力のバランスが維持できる。固定プラテン支持部42が固定プラテン12を支持する複数の位置は、固定プラテン12の中心位置を基準としてフレーム11に近い位置とフレーム11から遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。固定プラテン12の反りが上下対称になりやすい。
【0033】
次に、可動プラテン支持部43について説明する。
可動プラテン支持部43は、可動プラテン13における金型取付面(前端面)とは反対側の面(後端面)を支持する。可動プラテン支持部43は、可動プラテン13の中心位置(詳細には、可動プラテン13におけるロッド19の取付位置の中心位置)を挟んで左右両側に設けられてよい。尚、可動プラテン支持部43は、可動プラテン13の側面を支持してもよい。
【0034】
可動プラテン支持部43は、被支持部材としての可動プラテン13を後方から支持して、ガイドブロック14やフレーム11と可動プラテン13との間に隙間を形成する。可動プラテン13が上下両方向に熱変形でき、可動プラテン13の温度変化によってフレーム11に対する可動プラテン13の中心位置が上下にずれにくい。また、可動金型33から可動プラテン13に供給された熱が可動プラテン13の下面を介してフレーム11へ移動しにくい。よって、可動プラテン13の温度分布が上下対称になりやすく、可動プラテン13の反りが抑制できる。
【0035】
可動プラテン支持部43は、型締め時などに可動プラテン13に回転モーメントが作用した場合に可動プラテン13を複数点で支持し、フレーム11に対する可動プラテン13の傾きを抑制する。
【0036】
可動プラテン支持部43は、フレーム11からの距離が異なる複数(例えば2つ)の位置で可動プラテン13を支持する。例えば可動プラテン支持部43は、ガイドブロック14に固定され上方に延びる柱部43aと、柱部43aと可動プラテン13とを連結する第1腕部43b、および柱部43aと可動プラテン13とを連結する第2腕部43cとを有する。柱部43aは可動プラテン13と接触しておらず、第1腕部43bの一端部および第2腕部43cの一端部はフレーム11からの距離が異なる位置で可動プラテン13と連結される。
【0037】
可動プラテン支持部43が可動プラテン13を支持する位置が上下方向に複数存在し、1つのみの場合に比べて、左右方向(図において紙面直交方向)を回転軸線とする可動プラテン13の回転が抑制できる。よって、フレーム11に対する可動プラテン13の傾きが抑制できる。可動金型33と固定金型32との平行度が維持でき、型締力のバランスが維持できる。可動プラテン支持部43が可動プラテン13を支持する複数の位置は、可動プラテン13の中心位置を基準としてフレーム11に近い位置とフレーム11から遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。可動プラテン13の反りが上下対称になりやすい。
【0038】
次に、リヤプラテン支持部45について説明する。
リヤプラテン支持部45は、リヤプラテン15における吸着面(後端面)とは反対側の面(前端面)を支持する。リヤプラテン支持部45は、リヤプラテン15の中心位置(詳細には、リヤプラテン15における複数本のタイバー16の取付位置の中心位置)を挟んで左右両側に設けられてよい。尚、リヤプラテン支持部45は、リヤプラテン15の側面を支持してもよい。
【0039】
リヤプラテン支持部45は、被支持部材としてのリヤプラテン15を前方から支持して、フレーム11とリヤプラテン15との間に隙間を形成する。リヤプラテン15が上下両方向に熱変形でき、リヤプラテン15の温度変化によってフレーム11に対するリヤプラテン15の中心位置が上下にずれにくい。また、電磁石25のジュール熱がリヤプラテン15の下面を介してフレーム11へ移動しにくい。よって、リヤプラテン15の温度分布が上下対称になりやすく、リヤプラテン15の反りが抑制できる。
【0040】
リヤプラテン支持部45は、型締め時などにリヤプラテン15に回転モーメントが作用した場合にリヤプラテン15を複数点で支持し、フレーム11に対するリヤプラテン15の傾きを抑制する。
【0041】
リヤプラテン支持部45は、フレーム11からの距離が異なる複数(例えば2つ)の位置でリヤプラテン15を支持する。例えばリヤプラテン支持部45は、フレーム11に固定され上方に延びる柱部45aと、柱部45aとリヤプラテン15とを連結する第1腕部45b、および柱部45aとリヤプラテン15とを連結する第2腕部45cとを有する。柱部45aはリヤプラテン15と接触しておらず、第1腕部45bの一端部および第2腕部45cの一端部はフレーム11からの距離が異なる位置でリヤプラテン15と連結される。
【0042】
リヤプラテン支持部45がリヤプラテン15を支持する位置が上下方向に複数存在し、1つのみの場合に比べて、左右方向(図において紙面直交方向)を回転軸線とするリヤプラテン15の回転が抑制できる。よって、フレーム11に対するリヤプラテン15の傾きが抑制できる。型閉じ完了時にリヤプラテン15と吸着部材18との間に形成されるギャップが上下対称になり、吸着力のバランスが維持でき、型締力のバランスが維持できる。リヤプラテン支持部45がリヤプラテン15を支持する複数の位置は、リヤプラテン15の中心位置を基準としてフレーム11に近い位置とフレーム11から遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。リヤプラテン15の反りが上下対称になりやすい。
【0043】
次に、吸着部材支持部について説明する。
吸着部材支持部48は、吸着部材18における吸着面(前端面)とは反対側の面(後端面)を支持する。吸着部材支持部48は、吸着部材18の中心位置(詳細には、吸着部材18におけるロッド19の取付位置の中心位置)を挟んで左右両側に設けられてよい。尚、吸着部材支持部48は、吸着部材18の側面を支持してもよい。
【0044】
吸着部材支持部48は、被支持部材としての吸着部材18を後方から支持して、スライドベース20やフレーム11と吸着部材18との間に隙間を形成する。吸着部材18が上下両方向に熱変形でき、吸着部材18の温度変化によってフレーム11に対する吸着部材18の中心位置が上下にずれにくい。また、吸着部材18に流れる渦電流のジュール熱が吸着部材18の下面を介してフレーム11へ移動しにくい。よって、吸着部材18の温度分布が上下対称になりやすく、吸着部材18の反りが抑制できる。
【0045】
吸着部材支持部48は、型締め時などに吸着部材18に回転モーメントが作用した場合に吸着部材18を複数点で支持し、フレーム11に対する吸着部材18の傾きを抑制する。
【0046】
吸着部材支持部48は、フレーム11からの距離が異なる複数(例えば2つ)の位置で吸着部材18を支持する。例えば吸着部材支持部48は、スライドベース20に固定され上方に延びる柱部48aと、柱部48aと吸着部材18とを連結する第1腕部48b、および柱部48aと吸着部材18とを連結する第2腕部48cとを有する。柱部48aは吸着部材18と接触しておらず、第1腕部48bの一端部および第2腕部48cの一端部はフレーム11からの距離が異なる位置で吸着部材18と連結される。
【0047】
吸着部材支持部48が吸着部材18を支持する位置が上下方向に複数存在し、1つのみの場合に比べて、左右方向(図において紙面直交方向)を回転軸線とする吸着部材18の回転が抑制できる。よって、フレーム11に対する吸着部材18の傾きが抑制できる。型閉じ完了時に吸着部材18とリヤプラテン15との間に形成されるギャップが上下対称になり、吸着力のバランスが維持でき、型締力のバランスが維持できる。吸着部材支持部48が吸着部材18を支持する複数の位置は、吸着部材18の中心位置を基準としてフレーム11に近い位置とフレーム11から遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。吸着部材18の反りが上下対称になりやすい。
【0048】
[第2実施形態]
本実施形態の吸着部材支持部は、一端部が吸着部材に対して相対的に回動自在に接続される接続部を有する点で第1実施形態の吸着部材支持部と相違する。以下、相違点を中心に説明する。
【0049】
図3は、本発明の第2実施形態による吸着部材および吸着部材支持部を示す図である。吸着部材支持部148は、吸着部材118の側面を支持する。吸着部材支持部148は、吸着部材118の中心位置(詳細には、吸着部材118におけるロッド119の取付位置の中心位置)を挟んで左右両側に設けられてよい。尚、吸着部材支持部148は、吸着部材118における吸着面(前端面)とは反対側の面(後端面)を支持してもよい。
【0050】
吸着部材支持部148は、被支持部材としての吸着部材118を側方から支持して、スライドベース120やフレーム111と吸着部材118との間に隙間を形成する。吸着部材118が上下両方向に熱変形でき、吸着部材118の温度変化によってフレーム111に対する吸着部材118の中心位置が上下にずれにくい。また、吸着部材118に流れる渦電流のジュール熱が吸着部材支持部148の下面を介してフレーム111へ移動しにくい。よって、吸着部材118の温度分布が上下対称になりやすく、吸着部材118の反りが抑制できる。
【0051】
吸着部材支持部148は、型締め時などに吸着部材118に回転モーメントが作用した場合に吸着部材118を複数点で支持し、フレーム111に対する吸着部材118の傾きを抑制する。
【0052】
吸着部材支持部148は、フレーム111からの距離が異なる複数(例えば2つ)の位置で吸着部材118を支持する。例えば吸着部材支持部148は、それぞれの一端部が吸着部材118に接続される第1接続部148bおよび第2接続部148cを有する。第1接続部148bの一端部および第2接続部148cの一端部はフレーム111からの距離が異なる位置で吸着部材118と接続される。
【0053】
吸着部材支持部148が吸着部材118を支持する位置が上下方向に複数存在し、1つのみの場合に比べて、左右方向(図において紙面直交方向)を回転軸線とする吸着部材118の回転が抑制できる。よって、フレーム111に対する吸着部材118の傾きが抑制できる。型閉じ完了時に吸着部材118とリヤプラテンとの間に形成されるギャップが上下対称になり、吸着力のバランスが維持でき、型締力のバランスが維持できる。吸着部材支持部148が吸着部材118を支持する複数の位置は、吸着部材118の中心位置を基準としてフレーム111に近い位置とフレーム111から遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。吸着部材118の反りが上下対称になりやすい。
【0054】
第1接続部148bの一端部は、ピンジョイントなどで構成され、吸着部材118に対して相対的に回動自在に接続される。よって、第1接続部148bの一端部が吸着部材118と相対的に回動不能に接続される場合に比べて、吸着部材118から吸着部材支持部148への回転モーメントの伝達が抑制できる。フレーム111に対する吸着部材支持部148の傾きが抑制でき、ひいては、フレーム111に対する吸着部材118の傾きが抑制できる。尚、第1接続部148bの一端部は、ピンジョイントの代わりに、ベアリングなどで構成されてもよい。
【0055】
同様に、第2接続部148cの一端部は、ピンジョイントなどで構成され、吸着部材118に対して相対的に回動自在に接続される。よって、第2接続部148cの一端部が吸着部材118と相対的に回動不能に接続される場合に比べて、吸着部材118から吸着部材支持部148への回転モーメントの伝達が抑制できる。フレーム111に対する吸着部材支持部148の傾斜が抑制でき、ひいては、フレーム111に対する吸着部材118の傾斜が抑制できる。尚、第2接続部148cの一端部は、ピンジョイントの代わりに、ベアリングなどで構成されてもよい。
【0056】
尚、本実施形態では、第1接続部148bの一端部および第2接続部148cの一端部の両方が吸着部材118に対して相対的に回動自在に接続されるが、いずれか片方が吸着部材118に対して相対的に回動自在に接続されてもよい。
【0057】
吸着部材支持部148は、第2接続部148cの他端部と上下方向に相対移動自在に接触するガイド148dを有してよい。ガイド148dは柱部148aに固定され、柱部148aはスライドベース120に固定されスライドベース120から上方に延びる。柱部148aには第1接続部148bの他端部が固定される。第1接続部148bの他端部と第2接続部148cの他端部とが上下方向に相対移動でき、回転モーメントが吸収できるので、吸着部材118から吸着部材支持部148への回転モーメントの伝達が抑制できる。
【0058】
尚、本実施形態の吸着部材支持部148は、一端部が吸着部材118に対して相対的に回動自在に接続される接続部を2つ有するが、3つ以上有してもよい。また、本実施形態の吸着部材支持部148は、接続部の他端部と相対移動自在に接触するガイドを1つ有するが、2つ以上有してもよい。
【0059】
本実施形態は、吸着部材支持部について説明したが、固定プラテン支持部、可動プラテン支持部、リヤプラテン支持部についても適用できる。
【0060】
例えば、固定プラテン支持部は、一端部が固定プラテンに対して相対的に回動自在に接続される接続部を少なくとも1つ有してよく、接続部の他端部と相対移動自在に接触するガイドをさらに有してよい。当該ガイドによって、複数の接続部の他端部が相対移動自在とされる。
【0061】
また、可動プラテン支持部は、一端部が可動プラテンに対して相対的に回動自在に接続される接続部を少なくとも1つ有してよく、接続部の他端部と相対移動自在に接触するガイドをさらに有してよい。当該ガイドによって、複数の接続部の他端部が相対移動自在とされる。
【0062】
また、リヤプラテン支持部は、一端部がリヤプラテンに対して相対的に回動自在に接続される接続部を少なくとも1つ有してよく、接続部の他端部と相対移動自在に接触するガイドをさらに有してよい。当該ガイドによって、複数の接続部の他端部が相対移動自在とされる。
【0063】
[第3実施形態]
本実施形態の吸着部材支持部は、それぞれの一端部が吸着部材に対してフレームからの距離が異なる位置で連結される複数の連結部を有し、該複数の連結部の他端部が相対移動自在とされる点で第1実施形態の吸着部材支持部と相違する。以下、相違点を中心に説明する。
【0064】
図4は、本発明の第3実施形態による吸着部材および吸着部材支持部を示す図である。吸着部材支持部248は、吸着部材218の側面を支持する。吸着部材支持部248は、吸着部材218の中心位置(詳細には、吸着部材218におけるロッド219の取付位置の中心位置)を挟んで左右両側に設けられてよい。尚、吸着部材支持部248は、吸着部材218における吸着面(前端面)とは反対側の面(後端面)を支持してもよい。
【0065】
吸着部材支持部248は、被支持部材としての吸着部材218を側方から支持して、フレーム211等と吸着部材218との間に隙間を形成する。吸着部材218が上下両方向に熱変形でき、吸着部材218の温度変化によってフレーム211に対する吸着部材218の中心位置が上下にずれにくい。また、吸着部材218に流れる渦電流のジュール熱が吸着部材218の下面を介してフレーム211に移動しにくい。よって、吸着部材218の温度分布が上下対称になりやすく、吸着部材218の反りが抑制できる。
【0066】
吸着部材支持部248は、型締め時などに吸着部材218に回転モーメントが作用した場合に吸着部材218を複数点で支持し、フレーム211に対する吸着部材218の傾きを抑制する。
【0067】
吸着部材支持部248は、フレーム211からの距離が異なる複数(例えば2つ)の位置で吸着部材218を支持する。例えば、吸着部材支持部248は、それぞれの一端部が吸着部材218に対してフレーム211からの距離が異なる位置で連結される第1連結部251および第2連結部252を有する。
【0068】
吸着部材支持部248が吸着部材218を支持する位置が上下方向に複数存在し、1つのみの場合に比べて、左右方向(図において紙面直交方向)を回転軸線とする吸着部材218の回転が抑制できる。フレーム211に対する吸着部材218の傾きが抑制できる。よって、型閉じ完了時に吸着部材218とリヤプラテンとの間に形成されるギャップが上下対称になり、吸着力のバランスが維持でき、型締力のバランスが維持できる。吸着部材支持部248が吸着部材218を支持する複数の位置は、吸着部材218の中心位置を基準としてフレーム211に近い位置とフレーム211から遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。吸着部材218の反りが上下対称になりやすい。
【0069】
吸着部材支持部248は、第1連結部251の他端部である第1スライドベース251aおよび第2連結部252の他端部である第2スライドベース252aのそれぞれと相対移動自在に接触するガイド253をさらに有する。ガイド253はフレーム211に固定される。第1スライドベース251aおよび第2スライドベース252aが前後方向に相対移動でき、回転モーメントが吸収できるので、吸着部材218から吸着部材支持部248への回転モーメントの伝達が抑制できる。
【0070】
第1連結部251は、第1スライドベース251a、第1スライドベース220bから上方に延びる第1柱部251b、および第1柱部252bと吸着部材218とを連結する第1腕部251cを有する。尚、本実施形態の第1連結部251の一端部は、吸着部材218に対して相対的に回動不能に連結されるが、吸着部材218に対して相対的に回動自在に連結されてもよい。
【0071】
第2連結部252は、第2スライドベース252a、第2スライドベース220cから上方に延びる第2柱部252b、および第2柱部252bと吸着部材218とを連結する第2腕部252cを有する。尚、本実施形態の第2連結部252の一端部は、吸着部材218に対して相対的に回動不能に連結されるが、吸着部材218に対して相対的に回動自在に連結されてもよい。
【0072】
第1柱部251bは、第2柱部252bよりも長いので、第2柱部252bよりも太く形成されてよい。第1連結部251の剛性と、第2連結部252の剛性とが同程度になり、吸着部材218の反りが吸着部材218の中心位置を中心に上下に対称になりやすい。尚、第1腕部251cが第2腕部252cよりも太くてもよい。
【0073】
また、第1柱部251bは、第2柱部252bよりも長いので、第2柱部252bよりも吸着部材218に近い位置に配設されてよい。つまり、第1腕部251cは第2腕部252cよりも短くてよい。第1連結部251の剛性と、第2連結部252の剛性とが同程度になり、吸着部材218の反りが吸着部材218の中心位置を中心に上下に対称になりやすい。尚、第1腕部251cがなく、第1柱部251bの上端部が吸着部材218と連結されてもよい。
【0074】
尚、本実施形態の吸着部材支持部248は、一端部が吸着部材218に対して連結される連結部を2つ有するが、3つ以上有してもよい。また、本実施形態の吸着部材支持部248は、連結部の他端部と移動自在に接触するガイドを1つ有するが、複数有してもよい。
【0075】
本実施形態は、吸着部材支持部について説明したが、固定プラテン支持部、可動プラテン支持部、リヤプラテン支持部についても適用できる。
【0076】
例えば、固定プラテン支持部は、それぞれの一端部が固定プラテンに対してフレームからの距離が異なる位置で連結される第1連結部および第2連結部と、第1連結部の他端部および第2連結部の他端部のそれぞれと相対移動自在に接触するガイドとを有してよい。当該ガイドによって、第1連結部の他端部と第2連結部の他端部とが相対移動自在とされる。第1連結部の他端部および第2連結部の他端部は、それぞれ独立にフレームに進退自在に載置されてもよい。フレームが固定プラテン支持部に含まれてよい。
【0077】
また、可動プラテン支持部は、それぞれの一端部が可動プラテンに対してフレームからの距離が異なる位置で連結される第1連結部および第2連結部と、第1連結部の他端部および第2連結部の他端部のそれぞれと相対移動自在に接触するガイドとを有してよい。当該ガイドによって、第1連結部の他端部と第2連結部の他端部とが相対移動自在とされる。
【0078】
また、リヤプラテン支持部は、それぞれの一端部がリヤプラテンに対してフレームからの距離が異なる位置で連結される第1連結部および第2連結部と、第1連結部の他端部と相対移動自在に接触するガイドとを有してよい。当該ガイドによって、第1連結部の他端部と第2連結部の他端部とが相対移動自在とされる。第1連結部の他端部は、フレームに進退自在に載置されてもよい。第2連結部の他端部は、フレームに固定される。フレームがリヤプラテン支持部に含まれてよい。
【0079】
[第4実施形態]
本実施形態の吸着部材支持部は、吸着部材を後方および下方から支持する点で第1実施形態の吸着部材支持部と相違する。以下、相違点を中心に説明する。
【0080】
図5は、本発明の第4実施形態による吸着部材および吸着部材支持部を示す図である。吸着部材支持部348は、吸着部材318における吸着面(前端面)とは反対側の面(後端面)および下面を支持する。尚、吸着部材支持部348は、吸着部材318の後端面の代わりに側面を支持してもよい。
【0081】
吸着部材支持部348は、型締め時などに吸着部材318に回転モーメントが作用した場合に吸着部材318を複数点で支持し、フレーム311に対する吸着部材318の傾きを抑制する。
【0082】
吸着部材支持部348は、フレーム311からの距離が異なる複数(例えば2つ)の位置で吸着部材318を支持する。例えば、吸着部材支持部348は、それぞれの一端部が吸着部材318に対してフレーム311からの距離が異なる位置で連結される第1連結部351および第2連結部352を有する。
【0083】
吸着部材支持部348が吸着部材318を支持する位置が上下方向に複数存在し、1つのみの場合に比べて、左右方向(図において紙面直交方向)を回転軸線とする吸着部材318の回転が抑制できる。フレーム311に対する吸着部材318の傾きが抑制できる。よって、型閉じ完了時に吸着部材318とリヤプラテンとの間に形成されるギャップが上下対称になり、吸着力のバランスが維持でき、型締力のバランスが維持できる。吸着部材支持部348が吸着部材318を支持する複数の位置は、吸着部材318の中心位置を基準としてフレーム311に近い位置とフレーム311から遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。吸着部材318の反りが上下対称になりやすい。
【0084】
第1連結部351は、スライドベース353から上方に延びる柱部351a、柱部351aと吸着部材318とを連結する腕部351bとを有する。
【0085】
第1連結部351の一端部は、吸着部材318の後端面に相対的に回動不能に連結される。尚、第1連結部351の一端部は、吸着部材318の後端面に相対的に回動自在に連結されてもよい。
【0086】
第1連結部351の他端部は、スライドベース353に固定される。
【0087】
第2連結部352は、フレーム311に敷設されるガイド317に沿って移動自在なスライドベース353と吸着部材318とを連結する。
【0088】
第2連結部352の一端部は、吸着部材318の下面に相対的に回動不能に連結される。尚、第2連結部352の一端部は、吸着部材318の下面に相対的に回動自在に連結されてもよい。
【0089】
第2連結部352の他端部は、スライドベース353に固定される。
【0090】
尚、本実施形態では、第1連結部351の他端部と第2連結部352の他端部の両方がスライドベース353に対して固定されるが、いずれか一方がスライドベースに対して固定されていればよい。例えば、第2連結部352の他端部は、第1連結部351の他端部に対して相対移動自在となるように、スライドベース353に相対移動自在に載置されてもよいし、スライドベース353に設けられるガイドと相対移動自在に接触してもよい。
【0091】
第1連結部351、第2連結部352、およびスライドベース353で吸着部材支持部348が構成される。尚、第2連結部352がなくてもよい。例えば、第1連結部351の他端部がスライドベース353に固定され、スライドベース353が吸着部材318と相対移動自在に接触してよい。また、吸着部材318がスライドベース353に固定され、第1連結部351の他端部がスライドベース353に対して相対移動自在とされてもよい。いずれの場合でも回転モーメントが吸収できる。
【0092】
本実施形態は、吸着部材支持部について説明したが、固定プラテン支持部、可動プラテン支持部、リヤプラテン支持部についても適用できる。
【0093】
例えば、固定プラテン支持部は、固定プラテンを前方および下方から支持してよく、一端部が固定プラテンに連結される連結部、および固定プラテンと接触するフレームを有してもよい。連結部の他端部は、フレームに対して相対移動自在とされる。例えば、連結部の他端部は、フレームと相対移動自在に接触してもよいし、フレームに設けられるガイドと相対移動自在に接触してもよい。フレームは、固定プラテンと相対移動自在に接触する。回転モーメントが吸収できる。尚、固定プラテン支持部は、固定プラテンを側方および下方から支持してもよいし、固定プラテンを側方、前方および下方から支持してもよい。
【0094】
また、可動プラテン支持部は、可動プラテンを後方および下方から支持してよく、一端部が可動プラテンに連結される連結部、および可動プラテンと接触するガイドブロックを有してもよい。連結部の他端部はガイドブロックに対して相対移動自在とされ、ガイドブロックに可動プラテンが固定されてよい。また、連結部の他端部がガイドブロックに固定され、ガイドブロックが可動プラテンと相対移動自在に接触してもよい。回転モーメントが吸収できる。尚、可動プラテン支持部は、可動プラテンを側方および下方から支持してもよいし、可動プラテンを側方、後方および下方から支持してもよい。
【0095】
また、リヤプラテン支持部は、リヤプラテンを前方および下方から支持してよく、一端部がリヤプラテンに連結される連結部、およびリヤプラテンと接触するフレームを有してもよい。連結部の他端部がフレームに対して相対移動自在とされ、フレームにリヤプラテンが固定されてよい。また、連結部の他端部がフレームに対して固定され、フレームがリヤプラテンと相対移動自在に接触してもよい。回転モーメントが吸収できる。尚、リヤプラテン支持部は、リヤプラテンを側方および下方から支持してもよいし、リヤプラテンを側方、前方および下方から支持してもよい。
【0096】
[第5実施形態]
本実施形態の吸着部材は、吸着部材に作用する回転モーメントを吸収するように変形する変形部を有する点で第1実施形態の吸着部材と相違する。以下、相違点を中心に説明する。
【0097】
図6は、本発明の第5実施形態による吸着部材および吸着部材支持部を示す図である。被支持部材としての吸着部材418は吸着部材支持部448で支持され、吸着部材支持部448はフレーム411上に敷設されるガイド417に沿って移動自在なスライドベース420に固定される。吸着部材支持部448は、第1実施形態の吸着部材支持部48と同様に構成されるが、第2実施形態の吸着部材支持部148、第3実施形態の吸着部材支持部248、または第4実施形態の吸着部材支持部348と同様に構成されてもよい。
【0098】
吸着部材418は、吸着部材418に作用する回転モーメントを吸収するように変形する変形部としての溝部418aを有する。溝部418aは吸着部材418を左右方向(図において紙面垂直方向)に貫通してよい。溝部418aの変形によって回転モーメントが吸収され、吸着部材418から吸着部材支持部448に伝達される回転モーメントが小さい。フレーム411に対する吸着部材支持部448の傾斜が抑制でき、ひいては、フレーム411に対する吸着部材418の傾斜が抑制できる。
【0099】
溝部418aは、吸着部材418の中心位置とフレーム411からの距離が略同じ位置に形成されてよく、電磁石の中心位置とフレーム411からの距離が略同じ位置に形成されてよい。電磁石が形成する磁場の磁力線がほとんど通らない位置に溝部418aが形成されるため、磁気抵抗の増加が抑制でき、高い吸着力が得られる。また、吸着部材418の変形が吸着部材418の中心位置を中心に上下対称に生じるので、フレーム411に対する吸着部材418の傾斜が抑制できる。
【0100】
本実施形態は、吸着部材について説明したが、固定プラテン、可動プラテン、リヤプラテンについても適用できる。固定プラテン、可動プラテン、リヤプラテンがそれぞれに作用する回転モーメントを吸収するように変形する変形部を有してもよい。
【0101】
以上、射出成形機の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲に記載された要旨の範囲内で、種々の変形、改良が可能である。
【0102】
例えば、上記実施形態では、固定プラテン支持部がフレームに進退自在に載置され、リヤプラテン支持部がフレームに固定されるが、リヤプラテン支持部がフレームに進退自在に載置され、固定プラテン支持部がフレームに固定されてもよい。型締力に応じたタイバーの伸びが許容できればよい。
【0103】
また、上記実施形態の可動プラテンとリヤプラテンとを連結するロッドは、1つであるが、複数でもよい。この場合、可動プラテン支持部が可動プラテンを支持する位置は、可動プラテンにおける複数のロッドの取付位置の中心位置を基準としてフレームに近い位置とフレームから遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。また、この場合、リヤプラテン支持部がリヤプラテンを支持する位置は、リヤプラテンにおける複数のロッドの取付位置の中心位置を基準としてフレームに近い位置とフレームから遠い位置とを含んでよく、上下対称な位置であってよい。
【0104】
また、
図1に示す吸着部材支持48において、吸着部材18と第1腕部(第1連結部)48bとの間、吸着部材18と第2腕部(第2連結部)48cとの間、第1腕部48bと柱部48aとの間、第2腕部48cと柱部48aとの間の少なくともいずれかにガイドが設けられてもよい。例えば吸着部材18および柱部48aのいずれかに設けられるガイドが、第1腕部48bおよび第2腕部48cのいずれかと相対移動自在に接触してよい。回転モーメントが吸収できる。
図1に示すリヤプラテン支持部45、可動プラテン支持部43、固定プラテン支持部42について同様である。