(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】5989698
(24)【登録日】2016年8月19日
(45)【発行日】2016年9月7日
(54)【発明の名称】レーザ式ガス分析装置
(51)【国際特許分類】
G01N 21/59 20060101AFI20160825BHJP
G01N 21/3504 20140101ALI20160825BHJP
【FI】
G01N21/59 Z
G01N21/3504
【請求項の数】2
【全頁数】8
(21)【出願番号】特願2014-54172(P2014-54172)
(22)【出願日】2014年3月17日
(65)【公開番号】特開2015-175797(P2015-175797A)
(43)【公開日】2015年10月5日
【審査請求日】2015年3月11日
(73)【特許権者】
【識別番号】000211307
【氏名又は名称】中国電力株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100089118
【弁理士】
【氏名又は名称】酒井 宏明
(72)【発明者】
【氏名】▲徳▼政 賢治
【審査官】
奥田 雄介
(56)【参考文献】
【文献】
米国特許出願公開第2010/0199787(US,A1)
【文献】
特開昭60−231137(JP,A)
【文献】
特開2012−053038(JP,A)
【文献】
特開2013−245952(JP,A)
【文献】
特開2005−037277(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G01N 21/59
G01N 21/3504
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
部材で囲まれて一方向に延びる空間を有し、前記部材は、鉛直方向下側の少なくとも一部に第1の開口を有し、鉛直方向上側の少なくとも一部に第2の開口を有する、断面がU字状の内側部材と、
前記内側部材の外面と所定の間隔をあけて前記内側部材の外側に設けられて前記第2の開口を覆い、かつ前記第2の開口から前記第1の開口の間まで延在する、断面がU字状の外側部材と、
前記空間が延びる方向に沿って計測用の光を発光する発光部と、
前記空間を通過した前記計測用の光を受光する受光部と、
を含み、
前記外側部材の鉛直方向の長さよりも前記内側部材の鉛直方向の長さの方が長く、前記内側部材の一部が前記外側部材から鉛直方向下側に突出し、
前記内側部材と、前記外側部材との間の前記第1の開口側に、隙間があることを特徴とするレーザ式ガス分析装置。
【請求項2】
前記空間が延びる方向と直交する平面における前記外側部材の外面は、流線形であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ式ガス分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、レーザ式ガス分析装置に関する。
【背景技術】
【0002】
ボイラ等の排ガス中から窒素酸化物(NOx)を脱硝する脱硝装置が知られている。このような脱硝装置は、排ガス中にアンモニアガスを注入して排ガスとアンモニアガスとを混合し、その混合ガスを脱硝触媒に接触させることにより窒素ガスと水蒸気とに還元する。
【0003】
このようなアンモニアガスの注入を過不足なく行うためには、例えば、脱硝装置の出口側の排ガス流路において排ガスの一部を採取し、これに含まれるアンモニア量(濃度)を精度よく測定する必要がある。そのため、特許文献1及び特許文献2の技術のように、排ガス流路内に排ガス採取管を設け、この排ガス採取管を介して排ガス流路外へ排ガスの一部を採取していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2012−093156号公報
【特許文献2】特開2010−236877号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献2に記載のように、レーザ式ガス分析により対象ガスであるアンモニアの濃度を精度よく計測するには、排ガス流路に残存する煤塵などのダストの影響により受光強度が低下し、ガス分析の精度が低下する可能性がある。煤塵などのダストを集塵する方法としては、特許文献2に記載の電気集塵機などがあるが、動力源が必要となりメンテナンスの労力も考慮すると、より簡易に分析するガスの集塵を行うことが望まれる。
【0006】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、無動力でダストの影響を抑制し、ガス分析の精度の高いレーザ式ガス分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のレーザ式ガス分析装置は、部材で囲まれて一方向に延びる空間を有し、前記部材は、鉛直方向下側の少なくとも一部に第1の開口を有し、鉛直方向上側の少なくとも一部に第2の開口を有する内側部材と、前記内側部材の外面と所定の間隔をあけて前記内側部材の外側に設けられて前記第2の開口を覆い、かつ前記第2の開口から前記第1の開口の間まで延在する外側部材と、前記空間が延びる方向に沿って計測用の光を発光する発光部と、前記空間を通過した前記計測用の光を受光する受光部と、を含むことを特徴とする。
【0008】
これにより、排ガス流に含まれるダストは、重力で沈降し、測定用の光が通過する領域では、ダスト量が低減する。その結果、レーザ式ガス分析装置は、ガス分析の精度が高くなる。このため、無動力で、測定空間内へ開口より排ガスが流入できるようになる。
【0009】
本発明の望ましい態様として、前記内側部材と、前記外側部材との間の前記第1の開口側に、隙間があることが好ましい。この構造により、排ガス流のエネルギーを利用して、排ガス採取ユニットより排ガスを排出できる。
【0010】
本発明の望ましい態様として、前記空間が延びる方向と直交する平面における前記外側部材の外面は、流線形であることが好ましい。この構造により、乱流を抑制しつつ無動力で、煤塵などのダストを低減した状態で、ガス分析することができる。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、無動力でダストの影響を抑制し、精度の高いレーザ式ガス分析装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【
図1】
図1は、本実施形態に係るレーザ式ガス分析装置を模式的に説明する上面図である。
【
図2】
図2は、本実施形態に係るレーザ式ガス分析装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、下記の発明を実施するための形態(以下、実施形態という)により本発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、下記実施形態で開示した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。
【0014】
図1は、本実施形態に係るレーザ式ガス分析装置を模式的に説明する上面図である。
図2は、本実施形態に係るレーザ式ガス分析装置の断面図である。
図3は、
図2に示すA−A断面である。なお、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。後述する光路が進行する方向はX軸方向といい、X軸方向と直交する方向はY軸方向といい、X軸方向及びY軸方向のそれぞれと直交する方向をZ軸方向とする。Z軸方向は鉛直方向である。なお、X軸は、YZ平面と直交する。Y軸は、XZ平面と直交する。Z軸は、XY平面と直交する。XY平面は、X軸及びY軸を含む。XZ平面は、X軸及びZ軸を含む。YZ平面は、Y軸及びZ軸を含む。本実施例において、後述する排ガス流路の排ガスは、Z軸方向に沿って流通しているものとする。
【0015】
本実施形態のレーザ式ガス分析装置100は、送受信ユニット10と、ガス採取ユニット30と、ミラーユニット20と、制御装置40とを備えている。
【0016】
本実施形態のレーザ式ガス分析装置100は、流路壁90に囲まれた排ガス流路91に取り付けられている。排ガス流路91は、脱硝装置の出口側の排ガス流路であって、大気CAと隔離された排ガスV中に含まれるアンモニア量(濃度)を精度よく測定する必要がある。
【0017】
本実施形態のレーザ式ガス分析装置100は、ミラーユニット20側のガス採取ユニット30を流路壁90を貫通させ、排ガス流路91内へ
図1に示すX軸方向に挿入している。
【0018】
制御装置40は、CPU(:Central Processing Unit)41、ROM(:Read Only Memory)、RAM(:Random Access Memory)等のメモリ42と、フラッシュメモリ、ハードディスクドライブ等の記憶部43とを備える。
【0019】
送受信ユニット10は、発光部11と、受光部12と、信号処理回路13と、光学部材14とを備える。ミラーユニット20は、ミラー21と、光学部材22とを備える。光学部材14、光学部材22は、レンズなどで光学系の焦点を設定し、エアーシャッターなどを備えている。発光部11は、レーザダイオードが測定対象ガスのアンモニア特有の吸収波長に合致した波長のレーザ光を発生させ、ミラーユニット20が備えるミラー21に反射させ、受光部12へ受光させる。受光部12は、例えばフォトダイオードである。本実施形態の計測用の光は、赤外線の波長領域の光である。
【0020】
図2に示すように、制御装置40は、入出力インターフェースを介して、信号処理回路13に接続されている。信号処理回路13は、発光部11及び受光部12に接続され、発光部11のレーザ発光及び受光部12の検出値を電気信号に変換して制御装置40へ送出する。レーザ光は、X軸方向に平行に照射されており、往路光路LTと、復路光路LRとは平行である。本実施形態では、ミラー21を用いたが、発光部11と受光部12とがガス採取管31を介して対向する位置に配置され、受光部12は、ガス採取ユニット30の内部空間を通過したレーザ光を受光してもよい。制御装置40は、CPU41がメモリ42と協働して、受光部12の検出値から対象ガスの濃度(例えば、アンモニア量)を演算し、記憶部43へ演算値を記憶する。
【0021】
ガス採取ユニット30は、
図2及び
図3に示すように、長手方向がX軸方向に延びる、Y−Z平面の断面がU字状のU字部材を二重構造としている。ガス採取ユニット30は、外側部材31及び内側部材32を備えており、支持部材39に固定されている。内側部材32は、部材で囲まれてX軸方向に延びる計測空間38を有し、この部材は、鉛直方向(Z軸方向)下側の少なくとも一部に第1の開口IJを有し、鉛直方向上側の少なくとも一部に第2の開口33を有する。本実施形態では、第1の開口IJと、第2の開口33とは、鉛直方向に対向するが、千鳥配置のように、鉛直方向に対向しなくてもよい。外側部材31は、内側部材32の外面32fと所定の間隔をあけて内側部材32の外側に設けられて、第2の開口33を覆う。外側部材31は、第2の開口33から第1の開口IJの間まで延在する。このため、外側部材31が空間36を介して内側部材32を覆い、内側部材32は、一部が外側部材31から鉛直方向下側に突出する。空間36は、外側部材31の内面31rと内側部材32の外面32fとの間の空間である。空間36は、第2の開口33から第1の開口IJの間まで延在する間に狭くなる。そして、内側部材32と、外側部材31との間の第1の開口IJ側に、隙間35が開口する。内側部材32は、一部が外側部材31から鉛直方向下側に突出するためには、外側部材31の鉛直方向の長さL1よりも内側部材32の鉛直方向の長さL2の方が長くなっている。
【0022】
内側部材32は、鉛直方向上側に第2の開口33を備える。第2の開口33は、内側部材32の内部にあって、往路光路LTと、復路光路LRとが通過する測定空間38と、外側部材31と内側部材32との間の空間36とを連通する。第2の開口33の幅方向(Y軸方向)の端部33e1、33e2の距離は、内側部材32の第1の開口IJの幅W1よりも小さいことが好ましい。第1の開口IJの平面形状は、丸孔であっても矩形孔であっても、メッシュ形状であってもよい。また、第2の開口33の平面形状は、丸孔であっても矩形孔であっても、メッシュ形状であってもよい。
【0023】
内側部材32の表面32rには、表面32rから内側に突出する凸状のリブ37を鉛直方向に延びるように備えている。これにより、リブ37は、内側部材32の測定空間38における気流の乱れを抑制することができる。
【0024】
図3に示すように、外側部材31は、Y−Z平面の外面31fが流線形である。これにより、排ガス流路91の排ガスの流れを乱すことが抑制される。
【0025】
図3に示すように、排ガスの流れ方向をGとした場合、鉛直方向に(Z軸方向)に排ガスが流れている。外側部材31の外面31fに沿って流れる排ガス流G1は、外面31fが流線形であるので、排ガス流G1は、外側部材31の外面31f近傍を流れる。内側部材32は、一部が外側部材31から鉛直方向下側に突出するため、排ガス流G1は、排ガス流G2として外側部材31と内側部材32との空間36の隙間35を跨いで、内側部材32の外側部材31から突出する外面32f近傍の排ガス流G3となる。これにより、隙間35近傍の空間36は、負圧となり、外側部材31及び内側部材32の間の空間36に、排ガス流g3、g4が引き起こされる。排ガス流g3は、第2の開口33内に、排ガス流g2を引き起こす。これにより、内側部材32の内部の測定空間には、鉛直方向上向きの排ガス流g1の流れが生じる。
【0026】
図3に示すように、内側部材32の第1の開口IJは、光路の鉛直方向に向けて配置され、排ガス流g1として、排ガスVを鉛直方向上向きに取り込む。排ガスVに含まれる煤塵などのダストは、測定空間内において、沈降し、往路光路LT及び復路光路LRが通過する領域に到達するときには、自然に低減されている。このため、往路光路LT及び復路光路LRが通過する領域は、内側部材32の鉛直方向上寄りにあると、ダストが沈降できる距離が延び、往路光路LT及び復路光路LRが通過する領域におけるダスト量を低減することができる。
【0027】
以上説明したように、本実施形態のレーザ式ガス分析装置100は、ガス採取ユニット30と、発光部11と、受光部12と、を備える。ガス採取ユニット30は、部材で囲まれてX軸方向に延びる計測空間38を有し、この部材は、鉛直方向下側の少なくとも一部に第1の開口IJを有し、鉛直方向上側の少なくとも一部に第2の開口33を有する内側部材32と、内側部材32の外面32fと所定の間隔をあけて、内側部材32の外側に設けられて第2の開口33を覆い、かつ第2の開口33から第1の開口IJの間まで延在する外側部材31と、を備える。この構造により、煤塵などのダストは、自重で沈降し、往路光路LT及び復路光路LRが通過する領域では、ダスト量が低減する。その結果、本実施形態のレーザ式ガス分析装置100は、ガス分析の精度が高くなる。
【0028】
また、本実施形態のレーザ式ガス分析装置100は、外側部材31が空間36を介して内側部材32を覆い、内側部材32は、一部が外側部材31から突出する。これにより、無動力で、測定空間38内へ第1の開口IJより排ガスVが流入できるようになる。
【0029】
また、レーザ式ガス分析装置100は、外側部材31の外面31fは、Y−Z平面でみて流線形である。これにより、レーザ式ガス分析装置100は、乱流を抑制しつつ無動力で、煤塵などのダストを低減した状態で、ガス分析することができる。
【0030】
また、レーザ式ガス分析装置100は、隙間35から排ガスVが排出される。この構造により、排ガス流G1のエネルギーを利用して、排ガス採取ユニット30より排ガスVを排出できる。
【符号の説明】
【0031】
10 送受信ユニット
11 発光部
12 受光部
13 信号処理回路
14 光学部材
20 ミラーユニット
21 ミラー
22 光学部材
30 ガス採取ユニット
31 外側部材
31f 外面
31r 内面
32 内側部材
32f 外面
32r 内面
32r 表面
33 第2の開口
35 隙間開口
36 隙間
37 リブ
38 測定空間
39 支持部材
40 制御装置
41 CPU
42 メモリ
43 記憶部
90 流路壁
91 排ガス流路
100 レーザ式ガス分析装置
IJ 開口
LR 復路光路
LT 往路光路
V 排ガス