特許 5996044 スパークプラグ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】5996044

(24)【登録日】2016年9月2日

(45)【発行日】2016年9月21日

(54)【発明の名称】スパークプラグ

(51)【国際特許分類】

   H01T 13/20 20060101AFI20160908BHJP

【ＦＩ】

   H01T13/20 C

【請求項の数】5

【全頁数】28

(21)【出願番号】特願2015-123301(P2015-123301)

(22)【出願日】2015年6月18日

【審査請求日】2016年6月24日

(73)【特許権者】

【識別番号】000004547

【氏名又は名称】日本特殊陶業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001058

【氏名又は名称】特許業務法人鳳国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】黒澤 和浩

(72)【発明者】

【氏名】▲高▼岡 勝哉

(72)【発明者】

【氏名】田中 邦治

(72)【発明者】

【氏名】上垣 裕則

(72)【発明者】

【氏名】黒野 啓一

(72)【発明者】

【氏名】本田 稔貴

【審査官】 段 吉享

(56)【参考文献】

【文献】 特開昭６２−１５０６８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６１−０３９３８５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｔ １３／２０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

軸線の方向に延びる貫通孔を有する絶縁体と、
前記貫通孔の先端側に少なくとも一部が挿入された中心電極と、
前記貫通孔の後端側に少なくとも一部が挿入された端子金具と、
前記貫通孔内で、前記中心電極と前記端子金具とを接続する接続部と、
を備えるスパークプラグであって、
前記接続部は、
磁性物質である鉄含有酸化物の複数の１次粒子によって形成された複数の２次粒子と、
前記複数の２次粒子のそれぞれを被覆する導電性物質と、
を含む複合部を備え、
前記鉄含有酸化物は、
Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３（-0.5≦A≦0.5。Ｍは、Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Mg, Zn, Caのうちの少なくとも１種）と、
Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２（Ｑは、Y, Lu, Yb, Tm, Er, Ho, Dy, Tb, Gd, Smのうちの少なくとも１種）と、
の少なくとも一方を含み、
前記複合部の前記軸線を含む断面において、
前記１次粒子の平均粒径は、０．５μｍ以上、１００μｍ以下であり、
前記２次粒子の平均粒径は、０．５ｍｍ以上、２ｍｍ以下であり、
前記２次粒子の内部の気孔率は、５％以下である、
スパークプラグ。

【請求項2】

請求項１に記載のスパークプラグであって、
前記鉄含有酸化物は、Ｎｉ_ＸＺｎ_ＹＦｅ_ＺＯ_４（0.3≦X≦0.8、 0.2≦Y≦0.7、 1.5≦Z≦2.5、X+Y+Z=3）を含む、スパークプラグ。

【請求項3】

請求項１または２に記載のスパークプラグであって、
前記断面において、
前記２次粒子の内部のうち、前記２次粒子の表面からの距離が１００μｍ以上である部分を内部分とし、前記表面からの距離が５０μｍ以下である部分を縁部分とする場合に、
前記内部分での鉄の酸化物換算による含有率と、前記縁部分での鉄の酸化物換算による含有率と、の間の差分は、５．０ｗｔ％以下である、
スパークプラグ。

【請求項4】

請求項１から３のいずれか１項に記載のスパークプラグであって、
前記複合部は、
珪素（Ｓｉ）とホウ素（Ｂ）とリン（Ｐ）とのうちの少なくとも１つを含むセラミックと、
アルカリ金属成分と、
を含む、スパークプラグ。

【請求項5】

請求項４に記載のスパークプラグであって、
前記複合部において、前記アルカリ金属成分の含有率は、酸化物換算した値で、０．５ｗｔ％以上、６．５ｗｔ％以下である、スパークプラグ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、スパークプラグに関する。

【背景技術】

【0002】

従来から、内燃機関に、スパークプラグが用いられている。また、点火によって発生する電波ノイズを抑制するために、絶縁体の貫通孔内に抵抗体を設ける技術が提案されている。また、絶縁体の貫通孔内に磁性体を設ける技術も提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開平０２−２８４３７４号公報

【特許文献2】特開昭６２−１５０６８１号公報

【特許文献3】特開昭６１−２３０２８１号公報

【特許文献4】特開昭５４−１５１７３６号公報

【特許文献5】特開昭６１−１３５０７９号公報

【特許文献6】特開昭６１−１０４５８０号公報

【特許文献7】特開昭６１−２０８７６８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところが、磁性体を用いて電波ノイズを抑制する点については、十分な工夫がなされていないのが実情であった。

【0005】

本開示は、磁性体を用いて電波ノイズを抑制できる技術を開示する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示は、例えば、以下の適用例を開示する。

【0007】

［適用例１］
軸線の方向に延びる貫通孔を有する絶縁体と、
前記貫通孔の先端側に少なくとも一部が挿入された中心電極と、
前記貫通孔の後端側に少なくとも一部が挿入された端子金具と、
前記貫通孔内で、前記中心電極と前記端子金具とを接続する接続部と、
を備えるスパークプラグであって、
前記接続部は、
磁性物質である鉄含有酸化物の複数の１次粒子によって形成された複数の２次粒子と、
前記複数の２次粒子のそれぞれを被覆する導電性物質と、
を含む複合部を備え、
前記鉄含有酸化物は、
Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３（-0.5≦A≦0.5。Ｍは、Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Mg, Zn, Caのうちの少なくとも１種）と、
Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２（Ｑは、Y, Lu, Yb, Tm, Er, Ho, Dy, Tb, Gd, Smのうちの少なくとも１種）と、
の少なくとも一方を含み、
前記複合部の前記軸線を含む断面において、
前記１次粒子の平均粒径は、０．５μｍ以上、１００μｍ以下であり、
前記２次粒子の平均粒径は、０．５ｍｍ以上、２ｍｍ以下であり、
前記２次粒子の内部の気孔率は、５％以下である、
スパークプラグ。

【0008】

この構成によれば、電波ノイズを適切に抑制できる。

【0009】

［適用例２］
適用例１に記載のスパークプラグであって、
前記鉄含有酸化物は、Ｎｉ_ＸＺｎ_ＹＦｅ_ＺＯ_４（0.3≦X≦0.8、 0.2≦Y≦0.7、 1.5≦Z≦2.5、X+Y+Z=3）を含む、スパークプラグ。

【0010】

この構成によれば、電波ノイズをさらに適切に抑制できる。

【0011】

［適用例３］
適用例１または２に記載のスパークプラグであって、
前記断面において、
前記２次粒子の内部のうち、前記２次粒子の表面からの距離が１００μｍ以上である部分を内部分とし、前記表面からの距離が５０μｍ以下である部分を縁部分とする場合に、
前記内部分での鉄の酸化物換算による含有率と、前記縁部分での鉄の酸化物換算による含有率と、の間の差分は、５．０ｗｔ％以下である、
スパークプラグ。

【0012】

この構成によれば、２次粒子の内部における磁性体の偏りが抑制されるので、安定的に電波ノイズを抑制できる。

【0013】

［適用例４］
適用例１から３のいずれか１項に記載のスパークプラグであって、
前記複合部は、
珪素（Ｓｉ）とホウ素（Ｂ）とリン（Ｐ）とのうちの少なくとも１つを含むセラミックと、
アルカリ金属成分と、
を含む、スパークプラグ。

【0014】

この構成によれば、複合部の耐久性を向上できる。

【0015】

［適用例５］
適用例４に記載のスパークプラグであって、
前記複合部において、前記アルカリ金属成分の含有率は、酸化物換算した値で、０．５ｗｔ％以上、６．５ｗｔ％以下である、スパークプラグ。

【0016】

この構成によれば、電波ノイズをさらに適切に抑制できる。

【0017】

なお、本明細書に開示の技術は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、スパークプラグ、そのスパークプラグを搭載する内燃機関等の態様で実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】スパークプラグの一実施形態の断面図である。

【図2】複合部２００の説明図である。

【図3】平均粒径の算出方法を示す説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

Ａ．実施形態：
Ａ−１．スパークプラグの構成：
図１は、スパークプラグの一実施形態の断面図である。図中には、スパークプラグ１００の中心軸ＣＬが示されている（「軸線ＣＬ」とも呼ぶ）。図示された断面は、中心軸ＣＬを含む断面である。以下、中心軸ＣＬに平行な方向を「軸線ＣＬの方向」、または、単に「軸線方向」または「前後方向」とも呼ぶ。中心軸ＣＬを中心とする円の径方向を、単に「径方向」とも呼び、中心軸ＣＬを中心とする円の円周方向を「周方向」とも呼ぶ。中心軸ＣＬに平行な方向のうち、図１における下方向を先端方向Ｄｆ、または、前方向Ｄｆと呼び、上方向を後端方向Ｄｆｒ、または、後方向Ｄｆｒとも呼ぶ。先端方向Ｄｆは、後述する端子金具４０から電極２０、３０に向かう方向である。また、図１における先端方向Ｄｆ側をスパークプラグ１００の先端側と呼び、図１における後端方向Ｄｆｒ側をスパークプラグ１００の後端側と呼ぶ。

【0020】

スパークプラグ１００は、軸線ＣＬに沿って延びる貫通孔１２（以下「軸孔１２」とも呼ぶ）を有する略円筒状の絶縁体１０と、軸孔１２の先端側で保持される中心電極２０と、軸孔１２の後端側で保持される端子金具４０と、軸孔１２内で中心電極２０と端子金具４０とを電気的に接続する接続部３００と、絶縁体１０の外周側に固定された主体金具５０と、一端が主体金具５０の先端面に接合されるとともに他端が中心電極２０とギャップｇを介して対向するように配置された接地電極３０と、を有している。

【0021】

絶縁体１０は、最大外径を有する大径部１９を有している。大径部１９の先端側には、先端側胴部１７、第１縮外径部１５、脚部１３が、先端側に向かってこの順に接続されている。第１縮外径部１５の外径は、先端側に向かって徐々に小さくなる。大径部１９の後端側には、第２縮外径部１１、後端側胴部１８が、後端側に向かってこの順に接続されている。第２縮外径部１１の外径は、後端側に向かって徐々に小さくなる。第１縮外径部１５の近傍（図１の例では、先端側胴部１７）には、先端側に向かって内径が徐々に小さくなる縮内径部１６が形成されている。絶縁体１０は、機械的強度と、熱的強度と、電気的強度とを考慮して形成されることが好ましく、例えば、アルミナを焼成して形成されている（他の絶縁材料も採用可能である）。

【0022】

中心電極２０は、中心軸ＣＬに沿って延びる棒状の軸部２７と、軸部２７の先端に接合された第１チップ２９と、を有している。第１チップ２９は、例えば、レーザ溶接によって、軸部２７に固定されている。軸部２７の後端側には、外径が大きいフランジ部２８が形成されている。フランジ部２８の前方向Ｄｆ側の面は、絶縁体１０の縮内径部１６によって、支持されている。中心電極２０の先端部は、絶縁体１０の先端よりも前方向Ｄｆに突出している。

【0023】

軸部２７は、外層２１と芯部２２とを有している。外層２１は、芯部２２よりも耐酸化性に優れる材料（例えば、ニッケルを含む合金）で形成されている。芯部２２は、外層２１よりも熱伝導率が高い材料（例えば、純銅、銅合金、等）で形成されている。第１チップ２９は、軸部２７よりも放電に対する耐久性に優れる材料（例えば、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）等の貴金属、タングステン（Ｗ）、それらの金属から選択された少なくとも１種を含む合金）を用いて形成されている。

【0024】

端子金具４０は、鍔部４２と、鍔部４２より後端側の部分であるキャップ装着部４１と、鍔部４２より先端側の部分である脚部４３と、を有している。脚部４３は、絶縁体１０の貫通孔１２に挿入されている。キャップ装着部４１は、絶縁体１０の後端側で、貫通孔１２の外に露出している。端子金具４０は、導電材料（例えば、低炭素鋼等の金属）を用いて形成されている。端子金具４０の表面には、防食のための金属層が形成され得る。例えば、Ｎｉ層がメッキで形成される。

【0025】

接続部３００は、軸孔１２内で中心電極２０と端子金具４０との間に配置され、中心電極２０と端子金具４０とを電気的に接続している。接続部３００は、磁性体と導電体とを含む複合部２００を有している。複合部２００は、電波ノイズを抑制する。接続部３００は、さらに、中心電極２０と複合部２００とに接触する第１シール部６０と、複合部２００と端子金具４０とに接触する第２シール部８０と、を有している。シール部６０、８０は、例えば、ガラス粒子（例えば、Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系のガラス）と、金属粒子（Ｃｕ、Ｆｅなど）と、を用いて形成されている。

【0026】

主体金具５０は、軸線ＣＬに沿って延びる貫通孔５９を有する略円筒状の部材である。主体金具５０の貫通孔５９には、絶縁体１０が挿入され、主体金具５０は、絶縁体１０の外周に固定されている。絶縁体１０の先端側の一部は、貫通孔５９の外に露出している。絶縁体１０の後端側の一部は、貫通孔５９の外に露出している。主体金具５０は、導電材料（例えば、低炭素鋼等の金属）を用いて形成されている。

【0027】

主体金具５０は、内燃機関（例えば、ガソリンエンジン）の取付孔に螺合するためのネジ部５２が外周面に形成されている胴部５５を有している。胴部５５の後端側には、座部５４が接続されている。座部５４とネジ部５２との間には、環状のガスケット５が嵌め込まれている。座部５４の後端側には、変形部５８、工具係合部５１、加締部５３が、後端側に向かってこの順に接続されている。変形部５８は、径方向の外側（中心軸ＣＬから離れる方向）に向かって中央部が突出するように、変形している。工具係合部５１の形状は、スパークプラグレンチが係合する形状（例えば、六角柱）である。加締部５３は、絶縁体１０の第２縮外径部１１よりも後端側に配置され、径方向の内側に向かって屈曲されている。

【0028】

主体金具５０の加締部５３と絶縁体１０の第２縮外径部１１との間には、主体金具５０の内周面と絶縁体１０の外周面とに挟まれた空間ＳＰが形成されている。空間ＳＰ内には、第１後端側パッキン６、タルク（滑石）９、第２後端側パッキン７が、先端側に向かってこの順に配置されている。本実施形態では、これらの後端側パッキン６、７は、鉄製のＣリングである（他の材料も採用可能である）。

【0029】

主体金具５０の胴部５５には、先端側に向かって内径が徐々に小さくなる縮内径部５６が形成されている。主体金具５０の縮内径部５６と、絶縁体１０の第１縮外径部１５と、の間には、先端側パッキン８が挟まれている。本実施形態では、先端側パッキン８は、鉄製のＯリングである（他の材料（例えば、銅等の金属材料）も採用可能である）。

【0030】

スパークプラグ１００の製造時には、加締部５３が内側に折り曲がるように加締められる。そして、加締部５３が先端方向Ｄｆ側に押圧される。これにより、変形部５８が変形し、パッキン６、７とタルク９とを介して、絶縁体１０が、主体金具５０内で、先端側に向けて押圧される。先端側パッキン８は、第１縮外径部１５と縮内径部５６との間で押圧され、そして、主体金具５０と絶縁体１０との間をシールする。以上により、内燃機関の燃焼室内のガスが、主体金具５０と絶縁体１０との間を通って外に漏れることが、抑制される。また、主体金具５０が、絶縁体１０に、固定される。

【0031】

接地電極３０は、棒状の軸部３７と、軸部３７の先端部３１に接合された第２チップ３９と、を有している。軸部３７の一端は、主体金具５０の先端面に接合されている（例えば、抵抗溶接）。軸部３７は、主体金具５０から先端方向Ｄｆに向かって延び、中心軸ＣＬに向かって曲がって、先端部３１に至る。先端部３１の後端側の面には、第２チップ３９が固定されている（例えば、レーザ溶接）。接地電極３０の第２チップ３９と、中心電極２０の第１チップ２９とは、ギャップｇを形成している。

【0032】

軸部３７は、軸部３７の表面を形成する母材３５と、母材３５内に埋設された芯部３６と、を有している。接地電極３０の母材３５と芯部３６と第２チップ３９とは、中心電極２０の外層２１と芯部２２と第１チップ２９と、それぞれ同様の材料を用いて形成されている。なお、第１チップ２９と第２チップ３９との少なくとも一方を省略してもよい。

【0033】

図２は、複合部２００の説明図である。図２の左上部には、複合部２００の斜視図が示されている。この斜視図は、一部分が切断された複合部２００を示している。図中の断面９００は、中心軸ＣＬを含む平面による複合部２００の断面である。図２の中央上部には、断面９００上の一部分８００を拡大した模式図が示されている（以下、「対象領域８００」と呼ぶ）。対象領域８００は、中心軸ＣＬを中心線とする矩形領域であり、その矩形状は、中心軸ＣＬに平行な２辺と、中心軸ＣＬに垂直な２辺と、で構成されている。対象領域８００の形状は、中心軸ＣＬを対称軸とする線対称である。図中の第１長Ｌａは、対象領域８００の中心軸ＣＬに垂直な方向の長さであり、第２長Ｌｂは、対象領域８００の中心軸ＣＬに平行な方向の長さである。ここで、第１長Ｌａは、２ｍｍであり、第２長Ｌｂは、３ｍｍである。

【0034】

図示するように、対象領域８００（すなわち、複合部２００の断面９００）は、セラミック領域８１０と、導電領域８２０と、磁性領域８３０と、を含んでいる。磁性領域８３０は、複数の粒状の領域８３５で構成されている（以下、「磁性粒領域８３５」または、単に「粒領域８３５」とも呼ぶ）。磁性領域８３０は、磁性体としての鉄含有酸化物で形成されている。鉄含有酸化物としては、例えば、スピネルフェライトである（Ｎｉ，Ｚｎ）Ｆｅ_２Ｏ_４や、ガーネットフェライトであるＹ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２などを採用可能である。複数の磁性粒領域８３５は、複合部２００の材料として鉄含有酸化物の粉末を用いることによって、形成される。本実施形態では、材料の粉末に含まれる鉄含有酸化物の複数の粒子が互いにくっついて１つの粒子状の構造物を形成し、形成された１つの粒子状の構造物が１つの磁性粒領域８３５を形成する。粒子状の構造物は、例えば、鉄含有酸化物の材料粉末にバインダ等の液体を添加して混合することによって、形成される。鉄含有酸化物の複数の粒子は、凝集によって、大きな径を有する粒子状の構造物を形成し得る。また、鉄含有酸化物の複数の粒子は、バインダを介して互いにくっつくことによって、大きな径を有する粒子状の構造物を形成し得る。以下、粒子状の構造物を形成する複数の粒子を「１次粒子」とも呼び、複数の１次粒子で形成される粒子状の構造物を「２次粒子」と呼ぶ。断面９００上の１つの磁性粒領域８３５は、１つの２次粒子の断面を示している。

【0035】

図示を省略するが、複数の磁性粒領域８３５を形成する複数の２次粒子のそれぞれの表面は、導電性物質の被覆層に被覆されている。導電性物質としては、例えば、金属（Ｎｉ、Ｃｕなど）、ペロブスカイト型酸化物（ＳｒＴｉＯ_３、ＳｒＣｒＯ_３など）、炭素（Ｃ）、炭素化合物（Ｃｒ_３Ｃ_２、ＴｉＣなど）を採用可能である。

【0036】

図２の導電領域８２０は、２次粒子の表面に形成された導電性物質の被覆層の断面を示している。図示するように、導電領域８２０は、磁性粒領域８３５の縁を被覆している。導電領域８２０は、複数の磁性粒領域８３５を被覆する複数の被覆領域８２５で構成されている。１つの磁性粒領域８３５を被覆する部分が、１つの被覆領域８２５に対応する。１つの磁性粒領域８３５と、その磁性粒領域８３５を被覆する１つの被覆領域８２５とは、粒子状の領域８４０を形成する（「複合粒領域８４０」と呼ぶ）。図示するように、複数の複合粒領域８４０は、互いに被覆領域８２５が接するように、配置されている。互いに接する複数の被覆領域８２５は、後端方向Ｄｆｒ側から先端方向Ｄｆ側へ延びる電流の経路を形成している。電流の経路を形成する導電領域８２０が磁性領域８３０の近傍を通るので、複合部２００は、電波ノイズを抑制できる。

【0037】

図示を省略するが、対象領域８００（すなわち、断面９００）上には、２つの複合粒領域８４０が離れて配置され得る。このように対象領域８００上では互いに離れた２つの複合粒領域８４０は、対象領域８００よりも奥、または、手前の位置で、互いに接する２つの立体的な粒子状の部分の断面を表している場合がある。このように、対象領域８００上で、互いに接する、または、互いに離れた、複数の複合粒領域８４０は、後端方向Ｄｆｒ側から先端方向Ｄｆ側へ延びる電流の経路を形成可能である。放電時には、電流が、複数の複合粒領域８４０の複数の被覆領域８２５（すなわち、導電領域８２０）を通じて、複合部２００を流れる。

【0038】

上述のように、導電領域８２０は、磁性領域８３０を被覆している。すなわち、電流の経路は、磁性体を囲むように構成されている。磁性体が導電経路の近傍に配置されると、放電によって生じる電波ノイズが抑制される。例えば、導電経路がインダクタンス素子として機能することによって、電波ノイズが抑制される。また、導電経路のインピーダンスが大きくなることによって、電波ノイズが抑制される。

【0039】

図２の左下部には、磁性粒領域８３５の拡大図が示されている。図示するように、磁性粒領域８３５内には、複数の気孔８３２が生じている。複数の気孔８３２は、複数の１次粒子８３７の間の隙間を示している。スパークプラグ１００の放電時には、気孔８３２内においても部分的な放電が生じ得る。気孔８３２内で部分放電が生じることによって、複合部２００が劣化し得、また、電波ノイズが生じ得る。従って、磁性粒領域８３５に対する気孔８３２の割合（例えば、磁性粒領域８３５の面積に対する気孔８３２の面積の割合）が小さいことが好ましい。

【0040】

セラミック領域８１０は、セラミックで形成されている。セラミックとしては、例えば、珪素（Ｓｉ）とホウ素（Ｂ）とリン（Ｐ）とのうちの少なくとも１つを含むセラミックを採用可能である。このようなセラミックとしては、例えば、ガラスを採用可能である。ガラスとしては、例えば、シリカ（ＳｉＯ_２）とホウ酸（Ｂ_２Ｏ_５）とリン酸（Ｐ_２Ｏ_５）とから任意に選択された１つ以上の酸化物を含む物質を採用してもよい。また、Ｓｉ、Ｂ、Ｐを含まないセラミック（例えば、Ａｌ_２Ｏ_３、ＢｅＦ_２などを含む材料）を採用してもよい。図示するように、複数の複合粒領域８４０（すなわち、複数の磁性粒領域８３５と、複数の磁性粒領域８３５を被覆する複数の被覆領域８２５）は、セラミック領域８１０に囲まれている。すなわち、複数の複合粒領域８４０（導電領域８２０と磁性領域８３０）は、セラミック領域８１０によって支持されている。

【0041】

図２の中央下部には、複合部２００の断面上の１つの粒領域８３５と、１つの円８３５ｃとが示されている。円８３５ｃは、粒領域８３５の面積と同じ面積を有する仮想円である（以下「仮想円８３５ｃ」と呼ぶ）。図中の直径Ｄｃは、仮想円８３５ｃの直径である。この直径Ｄｃは、粒領域８３５を円で近似して得られる直径である（以下「近似径Ｄｃ」とも呼ぶ）。近似径Ｄｃは、粒領域８３５が大きいほど、大きい。

【0042】

Ａ−２．製造方法：
第１実施形態のスパークプラグ１００の製造方法としては、任意の方法を採用可能である。例えば、以下の製造方法を採用可能である。まず、絶縁体１０と、中心電極２０と、端子金具４０と、導電性シール部６０、８０のそれぞれの材料粉末と、複合部２００の材料粉末と、を準備する。

【0043】

複合部２００の材料粉末は、例えば、以下のように準備される。鉄含有酸化物の材料粉末（１次粒子の粉末）にバインダなどの液体を添加して混合することによって、２次粒子を形成する。例えば、１次粒子の凝集によって、２次粒子が形成される。得られた２次粒子に、例えば、無電解メッキによって、２次粒子の表面を覆う導電性物質の被覆層を形成する。被覆層で覆われた２次粒子の粉末と、セラミックの粉末とを、混合することによって、複合部２００の材料粉末を準備する。なお、複合部２００の材料粉末には、さらに、アルカリ金属を含む物質（例えば、アルカリ金属の酸化物）が添加され得る。なお、アルカリ金属は、周期律表第１族元素のうちの金属元素であり、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）、フランシウム（Ｆｒ）が挙げられる。また、メッキに代えて、２次粒子の粉末の表面にバインダを塗布し、導電性物質の粒子を２次粒子の表面に付着させることによって、被覆層を形成してもよい。そして、被覆層に覆われた２次粒子の粉末と、セラミックの粉末とを、混合することによって、複合部２００の材料粉末を準備してもよい。

【0044】

次に、絶縁体１０（図１）の貫通孔１２の後端方向Ｄｆｒ側の開口（以下、「後開口１４」と呼ぶ）から、中心電極２０を挿入する。図１で説明したように、中心電極２０は、絶縁体１０の縮内径部１６によって支持されることによって、貫通孔１２内の所定位置に配置される。

【0045】

次に、第１シール部６０、複合部２００、第２シール部８０のそれそれの材料粉末の投入と投入された粉末材料の成形とが、部材６０、２００、８０の順番に、行われる。粉末材料の投入は、貫通孔１２の後開口１４から、行われる。投入された粉末材料の成形は、後開口１４から挿入した棒を用いて、行われる。材料粉末は、対応する部材の形状と略同じ形状に、成形される。

【0046】

次に、絶縁体１０を、各材料粉末に含まれるガラス成分の軟化点よりも高い所定温度まで加熱し、所定温度に加熱した状態で、貫通孔１２の後開口１４から、端子金具４０を貫通孔１２に挿入する。この結果、各材料粉末が圧縮および焼結されて、シール部６０、８０と、複合部２００と、のそれぞれが形成される。

【0047】

次に、絶縁体１０の外周に主体金具５０を組み付け、主体金具５０に、接地電極３０を固定する。次に、接地電極３０を屈曲して、スパークプラグを完成させる。

【0048】

Ｂ．評価試験：
図１のスパークプラグ１００の複数種類のサンプルを用いた評価試験について説明する。以下に示す表１〜表５は、各サンプルのそれぞれの構成と、評価試験の結果と、を示している。

【0049】

【表1】

【0050】

【表2】

【0051】

【表3】

【0052】

【表4】

【0053】

【表5】

【0054】

この評価試験では、Ａ−１番からＡ−５３番と、Ｂ−１番からＢ−３１番と、の８４種類のサンプルが評価された。後述する複数のパラメータと複数の試験結果との関係を特定するために、同じ条件下で製造された複数のサンプルが、同じ種類のサンプルとして用いられた。表１〜表５は、サンプルの番号と、サンプルの複合部２００の構成と、評価試験の結果と、を示している。サンプルの構成としては、磁性領域８３０の構成と、導電物（導電領域８２０）の組成と、鉄の含有率差と、Ｓｉ、Ｂ、Ｐのうちセラミック領域８１０に含まれる元素と、複合部２００に含まれるアルカリ金属の元素とその含有率と、が示されている。磁性領域８３０の構成としては、磁性領域８３０に含まれる鉄含有酸化物の組成と、１次粒径（１次粒子の平均粒径）と、気孔率（２次粒子（磁性粒領域８３５）の気孔率）と、２次粒径（２次粒子の平均粒径）と、が示されている。評価試験の結果としては、ノイズ評価試験の結果と、振動試験の結果とが、示されている。

【0055】

鉄含有酸化物の組成は、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）分析とＸ線回折（ＸＲＤ：X-ray diffraction）とＥＰＭＡ（Electron Probe Micro Analyser）によって、特定された。なお、表中には、鉄含有酸化物の組成のみが示されている。実際には、磁性領域８３０には、製造工程で混入する微量（例えば、１ｐｐｍ程度）の種々の不純物が含まれ得る。

【0056】

１次粒径（１次粒子の平均粒径）は、以下のようにして算出した。サンプルの複合部２００を、図２で説明したように、中心軸ＣＬを含む平面で切断し、複合部２００の断面を、鏡面研磨し、その後に、熱エッチング処理を行った。熱エッチング処理の代わりに、化学エッチング処理を行ってもよい。このように処理された複合部２００の断面を、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察した。ここで、ＳＥＭの加速電圧は、１５ｋＶに設定され、作動距離（working distance）は、１０ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲内に設定された。そして、ＳＥＭ画像を以下に説明する方法に従って解析することによって、１次粒子の平均粒径が算出された。

【0057】

図３は、平均粒径の算出方法を示す説明図である。上記の断面に関して、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２００μｍ×２００μｍの矩形領域の画像を１０視野で撮影した。図３（Ａ）は、ＳＥＭ画像で観察される結晶粒子の様子を示す模式図である。ＳＥＭ画像は、画像解析ソフト（Ｓｏｆｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ ＧｍｂＨ社製のＡｎａｌｙｓｉｓ Ｆｉｖｅ）を用いて２値化した。２値化の閾値は、以下のように設定した。
（１）ＳＥＭ画像のうちの二次電子像及び反射電子像を確認し、反射電子像における濃色の境界（結晶粒界に相当する）にラインを引き、結晶粒界の位置を明確にした。
（２）反射電子像の画像を改善するため、結晶粒界のエッジを保ちながら反射電子像の画像を滑らかにした。
（３）反射電子像の画像から、横軸に明るさ、縦軸に頻度をとったグラフを作成した。得られるグラフは二山状のグラフになるため、二つの山の中間点の明るさを２値化の閾値に設定した。

【0058】

ＳＥＭ画像における１次粒子の領域と他の領域との区別は、ＥＰＭＡにより行った。そして、１次粒子のみなし粒径Ｄａ（ｉ）を、下記のインターセプト法により求めた。

【0059】

インターセプト法では、まず、ＳＥＭ画像の２つの対角線ＤＧ１，ＤＧ２（図３（Ａ））の少なくとも一方と交差する１次粒子を選択した。そして、選択された個々の１次粒子ＣＧ（図３（Ｂ））について、その最大径Ｄｍａｘを求めてこれを長径Ｄ１とした。最大径Ｄｍａｘは、その１次粒子ＣＧの外径をあらゆる方向で測定したときの最大値である。そして、この長径Ｄ１の中点を通り長径Ｄ１と直交する直線上における１次粒子ＣＧの外径を短径Ｄ２とした。また、長径Ｄ１と短径Ｄ２の平均値（Ｄ１＋Ｄ２）／２を、対象粒子ＣＧのみなし粒径Ｄａ（ｉ）とした。ここで、「（ｉ）」は、ｉ番目の１次粒子ＣＧの値であることを意味している。平均粒径Ｄａｖｅは、対角線ＤＧ１，ＤＧ２の少なくとも一方と交差するｎ個の１次粒子ＣＧのみなし粒径Ｄａ（ｉ）の平均値である。インターセプト法で得られる平均粒径Ｄａｖｅの値は、ＳＥＭ画像によって多少の差が発生するため、１０枚のＳＥＭ画像における平均値を使用した。

【0060】

２次粒径（２次粒子の平均粒径）は、以下のようにして算出した。図２で説明した複合部２００の断面上の２ｍｍ×３ｍｍの対象領域８００を含む領域を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて撮影した。そして、１次粒径の算出と同様の方法に従って、ＳＥＭ画像の２値化を行い、２次粒子の領域と他の領域とを区別した。ここで、導電領域８２０に囲まれている１つの連続な領域が、１つの２次粒子（すなわち、磁性粒領域８３５）として、特定された。そして、２ｍｍ×３ｍｍの対象領域８００内の複数の２次粒子のそれぞれの面積を算出した。算出された面積を用いて、複数の２次粒子（すなわち、磁性粒領域８３５）のそれぞれの近似径Ｄｃ（図２）が算出された。２次粒径は、複数の２次粒子の近似径Ｄｃの平均値である。

【0061】

気孔率は、２次粒子の面積（気孔８３２（図２）の面積を含む）に対する気孔８３２の面積の割合である。２次粒子の面積は、２次粒径の算出で説明した方法で算出された。気孔８３２の面積は、１次粒径の算出で説明した方法に従って、断面上の磁性粒領域８３５内の気孔８３２の領域（すなわち、複数の１次粒子の隙間の領域）を特定し、特定された気孔８３２の領域の面積を算出した。気孔率としては、断面上の２００μｍ×２００μｍの領域に含まれる複数の２次粒子の気孔率の平均値を、採用した。

【0062】

導電物（導電領域８２０の組成）は、複合部２００の材料に含まれる導電性物質を示している。なお、導電物の組成は、微小Ｘ線回折法などの分析によって、特定されてもよい。

【0063】

鉄の含有率差は、２次粒子の内部分と縁部分との間の鉄の含有率の差である。図２の右下部には、内部分と縁部分との説明図が示されている。図中には、複合部２００の断面上の１つの２次粒子（磁性粒領域８３５）の拡大図が示されている。内部分８３５ｉは、複合部２００の断面上において、２次粒子の内部のうち、２次粒子の表面８３５ｓからの距離が第１距離ｄｔｉ以上である部分である。ここで、ｄｔｉ＝１００μｍとする。縁部分８３５ｏは、複合部２００の断面上において、２次粒子の内部のうち、２次粒子の表面８３５ｓからの距離が第２距離ｄｔｏ以下である部分である。ここで、ｄｔｏ＝５０μｍとする。磁性粒領域８３５の表面８３５ｓは、磁性粒領域８３５と被覆領域８２５との境界、すなわち、磁性領域８３０と導電領域８２０との境界である。

【0064】

鉄の含有率差は、図２で説明した複合部２００の断面上において、内部分８３５ｉにおける鉄の含有率と、縁部分８３５ｏにおける鉄の含有率と、の間の差の絶対値である。鉄の含有率は、鉄成分の量を鉄の酸化物（ここでは、Ｆｅ_２Ｏ_３）に換算して得られる含有率である。鉄成分の量の割合は、ＥＰＭＡによって特定された。含有率の単位は、重量パーセントである。表中の鉄の含有率差は、１０個の２次粒子から得られる１０個の含有率差の平均値である。１つの２次粒子の含有率の差としては、内部分８３５ｉの内の５個の位置から得られる５個の含有率の平均値と、縁部分８３５ｏの内の５個の位置から得られる５個の含有率の平均値と、の差の絶対値を採用した。

【0065】

表中の「Ｓｉ（珪素）、Ｂ（ホウ素）、Ｐ（リン）」の欄は、Ｓｉ、Ｂ、Ｐのうちのセラミック領域８１０に含まれる元素を示している。セラミック領域８１０がＳｉ、Ｂ、Ｐのいずれも含んでいない場合、「Ｓｉ、Ｂ、Ｐ」の欄には、「Ｘ」印が記されている。Ｓｉ、Ｂ、Ｐのうちセラミック領域８１０に含まれる元素は、セラミック領域８１０の粉末材料の成分から、特定された。この代わりに、ＥＰＭＡなどの分析によってセラミック領域８１０に含まれる元素を特定してもよい。

【0066】

表中の「アルカリ」の「元素」の欄は、複合部２００に含まれるアルカリ金属の元素を示している。複合部２００がアルカリ金属を含んでいない場合、元素の欄は、空欄である。複合部２００に含まれるアルカリ金属の元素は、複合部２００の材料に含まれるアルカリ金属の成分から、特定された。なお、ＩＣＰ分析、Ｘ線回折、ＥＰＭＡなどの分析によって複合部２００に含まれるアルカリ金属の元素を特定してもよい。

【0067】

表中の「アルカリ」の「含有率」の欄は、複合部２００におけるアルカリ金属の含有率を示している。この含有率は、アルカリ金属の量をアルカリ金属の酸化物（Ｊ_２Ｏ（Ｊは、アルカリ金属元素））に換算して得られる含有率である。この含有率の単位は、重量パーセントである。複合部２００が、複数種類のアルカリ金属を含む場合、表中の含有率は、各アルカリ金属の含有率の合計値である。なお、複合部２００における各アルカリ金属の量の割合は、ＩＣＰ分析によって特定された。

【0068】

ノイズ評価試験では、ＪＡＳＯ Ｄ００２−２（日本自動車技術会伝送規格Ｄ−００２−２）の「自動車−電波雑音特性−第２部：防止器の測定方法 電流法」に従って、ノイズの強度が測定された。具体的には、スパークプラグのサンプルのギャップｇの距離を０．９ｍｍ±０．０１ｍｍに調整し、１３ｋＶから１６ｋＶの範囲内の電圧をサンプルに印加して放電させた。そして、放電時に、電流プローブを用いて端子金具４０を流れる電流を測定し、測定された値を、比較のためにｄＢに換算した。ノイズとしては、３０ＭＨｚ、１００ＭＨｚ、３００ＭＨｚの３種類の周波数のノイズが測定された。表中の数値は、所定の基準に対するノイズの強度を示しており、５回の測定の平均値である。数値が大きいほど、ノイズが強い。表中の「ノイズバラツキ」は、１００ＭＨｚのノイズを１０個のサンプルについて測定した場合の、最大値と最小値との差分である。この差分（すなわち、バラツキ）が小さいほど、ノイズ抑制の効果が安定している。

【0069】

振動試験は、ＪＩＳ Ｂ ８０３１の７．４項の「耐衝撃試験」に準じて行われた。本評価試験では、サンプルを耐衝撃性試験装置に取り付け、衝呈を２２ｍｍとして毎分４００回の割合で６０分間衝撃を加えた。そして、衝撃試験後に、中心電極２０と端子金具４０との間の電気的な導通を確認した。このような試験を、２０個のサンプルについて、行った。表中のＮＧ率（単位は、％）は、２０個のサンプルのうち、導通を確認できなかったサンプル（すなわち、断線したサンプル）の割合を示している。ＮＧ率が小さいほど、耐衝撃性能が良い。

【0070】

Ｂ−１．各サンプルの構成について：
表１、表２、表３に示すように、Ａ−１番からＡ−５３番において、鉄含有酸化物の組成は、以下の組成のいずれかであった。
［第１種鉄含有酸化物］ＭｎＦｅ_２Ｏ_４、ＮｉＦｅ_２Ｏ_４、ＣｕＦｅ_２Ｏ_４、ＺｎＦｅ_２Ｏ_４、ＣｏＦｅ_２Ｏ_４、ＦｅＦｅ_２Ｏ_４、ＭｇＦｅ_２Ｏ_４、Ｃｕ_０．５Ｆｅ_２．５Ｏ_４、Ｍｇ_０．８Ｆｅ_２．２Ｏ_４、Ｍｎ_０．６Ｚｎ_０．３Ｆｅ_２．１Ｏ_４、Ｃｏ_１．５Ｆｅ_１．５Ｏ_４、Ｎｉ_０．２５Ｚｎ_０．７５Ｆｅ_２Ｏ_４、Ｎｉ_０．７Ｚｎ_０．８Ｆｅ_１．５Ｏ_４、Ｎｉ_０．８Ｚｎ_０．２Ｆｅ_２Ｏ_４、Ｎｉ_０．３Ｚｎ_０．７Ｆｅ_２Ｏ_４、Ｎｉ_０．８Ｚｎ_０．７Ｆｅ_１．５Ｏ_４、Ｎｉ_０．３Ｚｎ_０．２Ｆｅ_２．５Ｏ_４、Ｎｉ_０．４Ｚｎ_０．４Ｆｅ_２．２Ｏ_４、Ｎｉ_０．５Ｚｎ_０．４Ｆｅ_２．１Ｏ_４、Ｎｉ_０．６Ｚｎ_０．３Ｆｅ_２．１Ｏ_４
［第２種鉄含有酸化物］Ｙ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｄｙ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｌｕ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｙｂ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｔｍ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｅｒ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｈｏ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｔｂ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｇｄ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｓｍ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２
上記のような第１種鉄含有酸化物は、スピネルフェライトと呼ばれる場合がある。また、上記のような第２種鉄含有酸化物は、ガーネットフェライトと呼ばれる場合がある。

【0071】

第１種鉄含有酸化物の組成を「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」で表す場合、Ａ−１番からＡ−５３番においては、「Ｍ」は、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｇのうちの１種または２種であった。また、値「Ａ」は、−０．５、−０．２、−０．１、０、＋０．５のいずれかであった。値「Ａ」の分布範囲は、−０．５以上、０．５以下であった。

【0072】

第２種鉄含有酸化物の組成を「Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２」で表す場合、Ａ−１番からＡ−５３番においては、「Ｑ」は、Ｙ、Ｄｙ、Ｌｕ、Ｙｂ、Ｔｍ、Ｅｒ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｇｄ、Ｓｍのうちのいずれか１種であった。

【0073】

Ａ−１８番からＡ−２３番の組成は、第１種鉄含有酸化物の組成であり、酸素（Ｏ）以外の複数の元素のうち少なくとも２個の元素のそれぞれの比率が、整数ではない組成であった。Ａ−２４番からＡ−３５番の組成は、ＮｉＦｅ_２Ｏ_４であった。Ａ−３６番からＡ−４０番の組成は、ＮｉとＺｎとＦｅを含む第１種鉄含有酸化物の組成であった。

【0074】

以上のように、鉄含有酸化物の組成としては、「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」で表される種々の第１種鉄含有酸化物と、「Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２」で表される種々の第２種鉄含有酸化物と、が用いられた。

【0075】

Ａ−１番からＡ−５３番の他のパラメータの分布範囲は、以下の通りであった。
０．５μｍ ≦１次粒径 ≦１００μｍ
０．８％ ≦気孔率 ≦５．０％
０．５ｍｍ ≦２次粒径 ≦２．０ｍｍ
０．５ｗｔ％≦鉄の含有率差≦８．１ｗｔ％
導電領域８２０の組成は、Ｎｉ、Ｃ、Ｃｕ、ＬａＭｎＯ_３、ＴｉＣ、インコネル（「ＩＮＣＯＮＥＬ」は、登録商標）、パーマロイのいずれかであった。

【0076】

表４、表５に示すように、Ｂ−１番からＢ−３１番において、鉄含有酸化物の組成は、以下の組成のいずれかであった。
［酸化鉄］ＦｅＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３
［第１種鉄含有酸化物］ＭｇＦｅ_２Ｏ_４、Ｍｇ_０．７Ｚｎ_０．２Ｆｅ_２．１Ｏ_４、ＭｎＦｅ_２Ｏ_４、ＣｕＦｅ_２Ｏ_４、Ｃｕ_０．８Ｚｎ_０．３Ｆｅ_１．９Ｏ_４、Ｍｇ_０．８Ｚｎ_０．８Ｆｅ_１．４Ｏ_４、Ｍｇ_０．８Ｚｎ_０．１Ｆｅ_２．１Ｏ_４、ＣｏＦｅ_２Ｏ_４、Ｎｉ_０．８Ｚｎ_０．８Ｆｅ_１．４Ｏ_４、Ｃｏ_０．６Ｚｎ_０．４Ｆｅ_２Ｏ_４、Ｎｉ_０．８Ｚｎ_０．３Ｆｅ_１．９Ｏ_４、Ｎｉ_０．９Ｚｎ_０．８Ｆｅ_１．３Ｏ_４
［第２種鉄含有酸化物］Ｙ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２、Ｄｙ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２
［第３種鉄含有酸化物］ＢａＦｅ_１２Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_１２Ｏ_１９、ＰｂＦｅ_１２Ｏ_１９
上記のような第３種鉄含有酸化物は、六方晶フェライトと呼ばれる場合がある。

【0077】

Ｂ−２．１次粒子の粒径について：
Ａ−１番からＡ−３５番（表１、表２）の１次粒径の分布範囲は、０．５μｍ以上、１００μｍ以下の範囲であった。このようなＡ−１番からＡ−３５番は、全ての周波数において７０ｄＢ以下という十分に小さいノイズ強度を実現できた。なお、Ａ−１番からＡ−３５番の他のパラメータの分布範囲は、以下の通りであった。
０．８％ ≦気孔率 ≦５．０％
５．１ｗｔ％≦鉄の含有率差 ≦８．１ｗｔ％
ノイズのバラツキ≦１３ｄＢ
ＮＧ率 ≦３０％
導電領域８２０の組成は、Ｎｉ、インコネル、Ｃｕ、ＬａＭｎＯ_３、Ｃ、ＴｉＣのいずれかであった。また、複合部２００は、Ｓｉ、Ｂ、Ｐ、アルカリ金属のいずれも含んでいなかった。

【0078】

表４のＢ−１番の１次粒径は、Ａ−１番からＡ−３５番の１次粒径よりも小さい０．４μｍである。Ｂ−１番のノイズ強度は、８４ｄＢ（３０ＭＨｚ）、８１ｄＢ（１００ＭＨｚ）、７９ｄＢ（３００ＭＨｚ）であり、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。表４に示すように、Ｂ−１番の他の構成は、Ａ−１番からＡ−３５番の構成と同様であったので、両者の間のノイズ強度の違いは、１次粒径の影響であると推定される。１次粒径が小さい場合、１次粒子の磁区構造が単磁区構造になり易い。単磁区構造の磁性体では、磁壁移動によるエネルギーロスがなくなるので、ノイズ減衰の効果が弱くなる。

【0079】

また、表４、表５に示すように、１次粒径がＡ−１番からＡ−３５番の１次粒径よりも小さいサンプルは、Ｂ−１番に加えて、Ｂ−１０番、Ｂ−１２番、Ｂ−１４番、Ｂ−２３番、Ｂ−２４番、Ｂ−２６番、Ｂ−３０番を含んでいた（１次粒径が０．４μｍ以下）。そして、これらのサンプルのノイズ強度も、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。このように、複数種類のサンプルが、１次粒径がＡ−１番からＡ−３５番の１次粒径よりも小さい場合にノイズが強くなることを、示した。

【0080】

表４のＢ−２番の１次粒径は、Ａ−１番からＡ−３５番の１次粒径よりも大きい１１０μｍであった。Ｂ−２番のノイズ強度は、８０ｄＢ（３０ＭＨｚ）、７９ｄＢ（１００ＭＨｚ）、７９ｄＢ（３００ＭＨｚ）であり、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。表４にも示すように、Ｂ−２番の他の構成は、Ａ−１番からＡ−３５番の構成と同様であったので、両者の間のノイズ強度の違いは、１次粒径の影響であると推定される。１次粒径が大きい場合にノイズが強くなる理由は、１次粒径が大きいことによって気孔率が大きくなり、この結果、部分的な放電が生じやすくなるからだと、推定される。

【0081】

また、表４、表５に示すように、１次粒径がＡ−１番からＡ−３５番の１次粒径よりも大きいサンプルは、Ｂ−２番に加えて、Ｂ−１１番、Ｂ−１３番、Ｂ−１５番、Ｂ−２２番、Ｂ−２５番、Ｂ−２７番、Ｂ−３１番を含んでいた（１次粒径が１００μｍを超える）。そして、これらのサンプルのノイズ強度も、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。このように、複数種類のサンプルが、１次粒径がＡ−１番からＡ−３５番の１次粒径よりも大きい場合にノイズが強くなることを、示した。

【0082】

良好なノイズ強度を実現したＡ−１番からＡ−３５番の１次粒径は、０．５、１０、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、４５、４６、５０、１００（μｍ）であった。１次粒径の好ましい範囲（下限以上、上限以下の範囲）を、上記の１９個の値を用いて定めてもよい。具体的には、上記の１９個の値のうちの任意の値を、１次粒径の好ましい範囲の下限として採用してもよい。また、これらの値のうちの下限以上の任意の値を、上限として採用してもよい。例えば、１次粒径の好ましい範囲として、０．５μｍ以上、１００μｍ以下の範囲を採用してもよい。なお、１次粒径を調整する方法としては、任意の方法を採用可能であり、例えば、鉄含有酸化物の材料粉末の粒径を調整する方法を採用可能である。

【0083】

Ｂ−３．気孔率について：
Ａ−１番からＡ−３５番（表１、表２）の気孔率の分布範囲は、０．８％以上、５．０％以下の範囲であった。一方、表４、表５のＢ−３番、Ｂ−１６番、Ｂ−１７番、Ｂ−１８番、Ｂ−１９番の気孔率は、Ａ−１番からＡ−３５番の気孔率よりも大きく、５．０％を超えていた。大きい気孔率を有する５種類のサンプルのノイズ強度は、全ての周波数で８１ｄＢ以上であり、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。表４、表５に示すように、Ｂ−３番、Ｂ−１６番、Ｂ−１７番、Ｂ−１８番、Ｂ−１９番の他の構成は、Ａ−１番からＡ−３５番の構成と同様であったので、両者の間のノイズ強度の違いは、気孔率の影響であると推定される。気孔率が大きい場合にノイズが強くなる理由は、部分的な放電が生じやすいからだと、推定される。

【0084】

良好なノイズ強度を実現したＡ−１番からＡ−３５番の気孔率は、０．８、１．５、２．０、２．１、２．５、３．３、３．４、３．５、３．６、３．７、３．８、３．９、４．０、４．５、５．０（％）であった。気孔率の好ましい範囲（下限以上、上限以下の範囲）を、上記の１５個の値を用いて定めてもよい。具体的には、上記の１５個の値のうちの任意の値を、気孔率の好ましい範囲の下限として採用してもよい。また、これらの値のうちの下限以上の任意の値を、上限として採用してもよい。例えば、気孔率の好ましい範囲として、０．８％以上、５．０％以下の範囲を採用してもよい。なお、気孔率が小さいほど、部分放電は生じにくいので、気孔率がゼロ％であってもよい。従って、気孔率の好ましい範囲として、ゼロ％以上、５．０％以下の範囲を採用してもよい。なお、気孔率を調整する方法としては、任意の方法を採用可能であり、例えば、１次粒径を調整する方法（１次粒径が大きいほど、気孔率が大きくなる）、複合部２００の成形時に材料粉末に印加される力を調整する方法（力が強いほど、気孔率が小さくなる）などを、採用可能である。

【0085】

Ｂ−４．２次粒子の粒径について：
Ａ−１番からＡ−３５番（表１、表２）の２次粒径は、０．５、１．５、２（ｍｍ）のいずれかであった。一方、表４のＢ−４番の２次粒径は、Ａ−１番からＡ−３５番の２次粒径よりも小さい０．１ｍｍであった。Ｂ−４番のノイズ強度は、８０ｄＢ（３０ＭＨｚ）、８０ｄＢ（１００ＭＨｚ）、７６ｄＢ（３００ＭＨｚ）であり、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。表４に示すように、Ｂ−４番の他の構成は、Ａ−１番からＡ−３５番の構成と同様であったので、両者の間のノイズ強度の違いは、２次粒径の影響であると推定される。２次粒径が小さい場合にノイズが強くなる理由は、以下のように推定される。２次粒径が小さい場合には、複合部２００内により多くの２次粒子が充填される。従って、２次粒子（磁性粒領域８３５）の表面を覆う導電領域８２０を通る導電経路が増えるので、電流は、複合部２００内を分散して流れる。この結果、電流密度が小さくなり、磁性粒領域８３５によるノイズ減衰の効果が小さくなる、と推定される。

【0086】

また、表４、表５に示すように、２次粒径がＡ−１番からＡ−３５番の２次粒径よりも小さいサンプルは、Ｂ−４番に加えて、Ｂ−１２番、Ｂ−１６番、Ｂ−２０番、Ｂ−２３番、Ｂ−２６番、Ｂ−２８番、Ｂ−３０番を含んでいた（２次粒径が０．４ｍｍ以下）。そして、これらのサンプルのノイズ強度も、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。このように、複数種類のサンプルが、２次粒径がＡ−１番からＡ−３５番の２次粒径よりも小さい場合にノイズが強くなることを、示した。

【0087】

表４のＢ−５番の２次粒径は、Ａ−１番からＡ−３５番の２次粒径よりも大きい２．１ｍｍであった。Ｂ−５番のノイズ強度は、７０ｄＢ（３０ＭＨｚ）、６８ｄＢ（１００ＭＨｚ）、６９ｄＢ（３００ＭＨｚ）であり、Ａ−１番からＡ−３５番のノイズ強度と同程度であった。このように、２次粒径が２ｍｍよりも大きい場合であっても、良好なノイズ強度を実現できた。

【0088】

なお、２次粒径が大きい場合には、軸孔１２（図１）内に複合部２００の材料粉末を充填する場合の充填性が低下する。例えば、図２に示す複数の複合粒領域８４０の間の隙間の一部に、セラミック領域８１０の材料が充填されない場合があり得る。従って、スパークプラグの生産性を向上するという観点からは、２次粒径が小さいことが好ましく、例えば、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの最大の２次粒径である２ｍｍ以下であることが好ましい。

【0089】

良好なノイズ強度を実現したＡ−１番からＡ−３５番の２次粒径は、０．５、１．５、２（ｍｍ）であった。２次粒径の好ましい範囲（下限以上、上限以下の範囲）を、上記の３個の値を用いて定めてもよい。具体的には、上記の３個の値のうちの任意の値を、２次粒径の好ましい範囲の下限として採用してもよい。また、これらの値のうちの下限以上の任意の値を、上限として採用してもよい。例えば、２次粒径の好ましい範囲として、０．５ｍｍ以上、２ｍｍ以下の範囲を採用してもよい。なお、２次粒径を調整する方法としては、任意の方法を採用可能であり、例えば、鉄含有酸化物の材料粉末の粒径を調整する方法（材料粉末の粒径が大きいほど、２次粒径が大きくなる）、鉄含有酸化物の材料粉末とバインダとの混合時間を調整する方法（混合時間が長いと、２次粒径が大きくなる）などを、採用可能である。

【0090】

Ｂ−５．鉄含有酸化物の組成について：
上述したように、良好なノイズ強度を実現したＡ−１番からＡ−３５番の鉄含有酸化物の組成は、「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」または「Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２」で表される種々の鉄含有酸化物であった。ここで、「Ｍ」は、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｇのうちの１種または２種であった。値「Ａ」は、−０．５以上、０．５以下であった。「Ｑ」は、Ｙ、Ｄｙ、Ｌｕ、Ｙｂ、Ｔｍ、Ｅｒ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｇｄ、Ｓｍのうちのいずれか１種であった。

【0091】

また、表３のＡ−３６番からＡ−４０番は、鉄含有酸化物の組成として、他の種々のＮｉとＺｎとＦｅを含む酸化物を採用したサンプルである。表３に示すように、Ａ−３６番からＡ−４０番は、全ての周波数において５５ｄＢ以下という小さいノイズ強度を実現できた。

【0092】

表３に示すように、Ａ−３６番からＡ−４０番の他の構成は、Ａ−１番からＡ−３５番の構成と同様であったので、両者の間のノイズ強度の違いは、鉄含有酸化物の組成の違いによると推定される。具体的には、Ａ−３６番からＡ−４０番の鉄含有酸化物の組成は、Ｎｉ_０．８Ｚｎ_０．２Ｆｅ_２Ｏ_４、Ｎｉ_０．３Ｚｎ_０．７Ｆｅ_２Ｏ_４、Ｎｉ_０．８Ｚｎ_０．７Ｆｅ_１．５Ｏ_４、Ｎｉ_０．３Ｚｎ_０．２Ｆｅ_２．５Ｏ_４、Ｎｉ_０．４Ｚｎ_０．４Ｆｅ_２．２Ｏ_４であった。これらの組成を「Ｎｉ_ｘＺｎ_ＹＦｅ_ＺＯ_４」で表す場合、「Ｘ、Ｙ、Ｚ」の組み合わせは、「０．８、０．２、２」、「０．３、０．７、２」、「０．８、０．７、１．５」、「０．３、０．２、２．５」、「０．４、０．４、２．２」であった。ＸとＹとＺのそれぞれの分布範囲は、以下の通りであった。
０．３≦Ｘ≦０．８
０．２≦Ｙ≦０．７
１．５≦Ｚ≦２．５
（ただし、Ｘ＋Ｙ＋Ｚ＝３）

【0093】

一般的に、「Ｎｉ_ｘＺｎ_ＹＦｅ_ＺＯ_４」で表される複数種類の酸化物は、ＮｉとＺｎとＦｅとの比率が近い場合に、同様のノイズ抑制の効果を奏すると、推定される。従って、Ｘ、Ｙ、Ｚのそれぞれが、上記の対応する分布範囲内であれば、Ａ−３６番からＡ−４０番と同様に、小さいノイズ強度を実現できると推定される。

【0094】

このように、鉄含有酸化物の組成としては、「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」と「Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２」とを用いて上述した組成が好ましく、「Ｎｉ_ｘＺｎ_ＹＦｅ_ＺＯ_４」を用いて上述した組成が、さらに好ましい。

【0095】

表４のＢ−６番からＢ−９番は、鉄含有酸化物の組成として、さらに他の組成を採用したサンプルである。具体的には、各サンプルの組成は、Ｍｇ_０．８Ｚｎ_０．８Ｆｅ_１．４Ｏ_４、ＦｅＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＢａＦｅ_１２Ｏ_１９であった。これらのサンプルのノイズ強度は、任意の周波数で８７ｄＢ以上であり、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。これらのサンプルの組成は、「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」と「Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２」と「Ｎｉ_ｘＺｎ_ＹＦｅ_ＺＯ_４」とを用いて上述した好ましい組成とは異なっていた。例えば、Ｂ−６番の組成（Ｍｇ_０．８Ｚｎ_０．８Ｆｅ_１．４Ｏ_４）は、「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」で表すと、「Ｍ」は「Ｍｇ」であるが、値「Ａ」は、上記の好ましい範囲（−０．５以上、０．５以下）の上限である０．５よりも大きな０．６である。このように、値「Ａ」が上記の好ましい外である場合には、磁性領域８３０に、磁性体の相に加えて、別の相が形成された。この結果、ノイズ減衰の効果が低下する、と推定される。

【0096】

また、Ｂ−１４番、Ｂ−１５番、Ｂ−１８番からＢ−２１番、Ｂ−２４番からＢ−３１番の鉄含有酸化物の組成も、上記の好ましい組成とは異なっており、それらのサンプルのノイズ強度は、任意の周波数で８６ｄＢ以上であり、Ａ−１番からＡ−３５番のうちの任意のサンプルの同じ周波数のノイズ強度よりも大きかった。

【0097】

このように、上記の好ましい組成は、他の組成を用いる場合と比べて、良好なノイズ強度を実現できた。なお、鉄含有酸化物の組成を調整する方法としては、任意の方法を採用可能であり、例えば、鉄含有酸化物の材料粉末の組成を調整する方法を採用可能である。

【0098】

Ｂ−６．鉄の含有率差について：
Ａ−４１番からＡ−４５番（表３）の鉄の含有率差の分布範囲は、１．６ｗｔ％以上、５．０ｗｔ％以下であり、Ａ−１番からＡ−３５番の鉄の含有率差よりも小さかった。そして、Ａ−４１番からＡ−４５番は、３ｄＢ以下というＡ−１番からＡ−３５番と比べて小さいノイズバラツキを実現できた。

【0099】

表３に示すように、Ａ−４１番からＡ−４５番の他の構成は、Ａ−１番からＡ−３５番の構成と同様であったので、両者の間のノイズバラツキの違いは、鉄の含有率差の影響であると推定される。鉄の含有率差が小さい場合にノイズバラツキが小さくなる理由は、以下のように推定される。鉄の含有率差が小さい、すなわち、２次粒子（磁性粒領域８３５（図２））の内部での鉄の分布の偏りが小さい場合には、２次粒子の内部での磁性体の偏りが小さい。従って、２次粒子を覆う被覆領域８２５を通る複数の導電経路の間で、磁性体によるノイズ減衰の効果の差が抑制される。この結果、ノイズバラツキが小さくなる、と推定される。

【0100】

良好なノイズバラツキを実現したＡ−４１番からＡ−４５番の鉄の含有率差は、１．６、２．４、３．５、４．１、５．０（ｗｔ％）であった。鉄の含有率差の好ましい範囲（下限以上、上限以下の範囲）を、上記の５個の値を用いて定めてもよい。具体的には、上記の５個の値のうちの任意の値を、鉄の含有率差の好ましい範囲の下限として採用してもよい。また、これらの値のうちの下限以上の任意の値を、上限として採用してもよい。例えば、鉄の含有率差の好ましい範囲として、１．６ｗｔ％以上、５．０ｗｔ％以下の範囲を採用してもよい。なお、鉄の含有率差が小さいほど、複数の導電経路の間で磁性体によるノイズ減衰の効果の差が小さくなると推定され、そして、ノイズバラツキが小さくなると推定される。従って、鉄の含有率差が小さいことが好ましく、鉄の含有率差がゼロｗｔ％であってもよい。鉄の含有率差の好ましい範囲として、ゼロｗｔ％以上、５．０ｗｔ％以下の範囲を採用してもよい。なお、Ａ−４１番からＡ−４５番では、導電領域８２０の組成として、Ｎｉとパーマロイ（Ａ−４４番）とが評価された。これらの導電性物質に限らず、Ａ−３１番からＡ−３５番が示すように、他の種々の導電性物質（例えば、インコネル、Ｃｕ、ＬａＭｎＯ_３、Ｃ、ＴｉＣ）を採用可能と、推定される。

【0101】

なお、表３に示すように、Ａ−４６番からＡ−５３番も、３ｄＢ以下のノイズバラツキを実現した。これらのサンプルの鉄の含有率差は、０．５、０．９、１．５、１．９（ｗｔ％）のいずれかであった。このように、複数種類のサンプルが、鉄の含有率差が上記の好ましい範囲内である場合にノイズバラツキが小さくなることを示した。

【0102】

なお、鉄の含有率差を調整する方法としては、任意の方法を採用可能である。例えば、１次粒径を小さくすることによって、鉄の含有率差を小さくできる。また、２次粒子の形成を、少しずつゆっくり進行させることによって、鉄の含有率差を小さくできる。

【0103】

Ｂ−７．Ｓｉ、Ｂ、Ｐ、アルカリ金属について：
表３のＡ−４６番からＡ−５３番は、複合部２００に、Ｓｉ、Ｂ、Ｐのいずれかと、アルカリ金属と、が含まれるサンプルである。各サンプルに含まれる元素の組み合わせは、以下の通りである。
Ａ−４６番：Ｓｉ ：Ｎａ
Ａ−４７番：Ｓｉ、Ｐ ：Ｍｇ、Ｃａ
Ａ−４８番：Ｓｉ、Ｂ ：Ｃａ、Ｋ
Ａ−４９番：Ｓｉ、Ｂ、Ｐ：Ｋ
Ａ−５０番：Ｓｉ ：Ｎａ
Ａ−５１番：Ｓｉ、Ｐ ：Ｍｇ、Ｃａ
Ａ−５２番：Ｓｉ、Ｂ ：Ｃａ、Ｋ
Ａ−５３番：Ｓｉ、Ｂ、Ｐ：Ｋ
これらのサンプルは、５％以下というＡ−１番からＡ−３５番と比べて小さいＮＧ率を実現できた。また、これらのサンプルは、全ての周波数において６７ｄＢ以下のノイズ強度を実現できた。

【0104】

表３に示すように、Ａ−４６番からＡ−５３番の他の構成は、Ａ−１番からＡ−３５番の構成と同様であったので、両者の間のＮＧ率の違いは、複合部２００に含まれる元素の違いによると推定される。Ｓｉ、Ｂ、Ｐのいずれかと、アルカリ金属とが、複合部２００に含まれる場合、複合部２００の焼成時に低融点相が形成されるので、複合部２００が緻密化される。この結果、複合部２００の耐久性（具体的には、耐衝撃性能）が向上する。また、焼成された複合部２００内に微少な気孔が残ることが抑制される。この結果、微少な気孔に起因する容量成分が小さくなるので、ノイズ減衰の効果を向上できる。また、微少な気孔での部分的な放電が抑制されるので、ノイズを抑制できる。

【0105】

なお、耐衝撃性の向上は、Ｓｉ、Ｂ、Ｐのいずれかと、アルカリ金属との、上記の組み合わせに限らず、他の種々の組み合わせを採用可能と推定される。一般的には、セラミック領域８１０が、Ｓｉ、Ｂ、Ｐのうちの少なくとも１つを含み、複合部２００が、アルカリ金属成分の少なくとも１種を含むことが好ましい。

【0106】

Ｂ−８．アルカリ金属の含有率について：
Ａ−５０番からＡ−５３番（表３）のアルカリ金属の含有率は、０．５、２．１、４．６、６．５（ｗｔ％）のいずれかであった。これらの含有率は、Ａ−４６番、Ａ−４９番の含有率（０．１ｗｔ％、０．４ｗｔ％）よりも大きく、かつ、Ａ−４７番、Ａ−４８番の含有率（７．２ｗｔ％、８．６ｗｔ％）よりも小さかった。

【0107】

Ａ−５０番とＡ−４６番とを比較すると、アルカリ金属の含有率が０．５ｗｔ％から０．４ｗｔ％に減少することによって、ノイズ強度が以下のように増大した。すなわち、３０ＭＨｚでは、４８ｄＢから５５ｄＢに、１００ＭＨｚでは、４５ｄＢから５３ｄＢに、３００ＭＨｚでは、４１ｄＢから５０ｄＢからに、ノイズ強度が増大した。アルカリ金属の含有率が過度に小さい場合、焼成された複合部２００内に微少な気孔が残りやすいので、ノイズ減衰の効果が弱くなると推定される。

【0108】

Ａ−５３番とＡ−４８番とを比較すると、アルカリ金属の含有率が６．５ｗｔ％から８．６ｗｔ％に増大することによって、ノイズ強度が以下のように増大した。すなわち、３０ＭＨｚでは、５６ｄＢから６４ｄＢに、１００ＭＨｚでは、５４ｄＢから６２ｄＢに、３００ＭＨｚでは、５３ｄＢから６３ｄＢに、ノイズ強度が増大した。アルカリ金属の含有率が過度に大きい場合、複合部２００の焼成時にアルカリ金属と鉄含有酸化物とが反応相を形成するので、ノイズ減衰の効果が弱くなると推定される。

【0109】

アルカリ金属の含有率が０．５ｗｔ％以上、６．５ｗｔ％以下であるＡ−５０番からＡ−５３番においては、良好なノイズ強度を実現できた。このように、良好なノイズ強度を実現したＡ−５０番からＡ−５３番のアルカリ金属の含有率は、０．５、２．１、４．６、６．５（ｗｔ％）であった。アルカリ金属の含有率の好ましい範囲（下限以上、上限以下の範囲）を、上記の４個の値を用いて定めてもよい。具体的には、上記の４個の値のうちの任意の値を、含有率の好ましい範囲の下限として採用してもよい。また、これらの値のうちの下限以上の任意の値を、上限として採用してもよい。例えば、アルカリ金属の含有率の好ましい範囲として、０．５ｗｔ％以上、６．５ｗｔ％以下の範囲を採用してもよい。なお、アルカリ金属の含有率を調整する方法としては、任意の方法を採用可能であり、例えば、複合部２００の材料粉末に添加されるアルカリ金属を含む物質の量を調整する方法を採用可能である。

【0110】

以上、「１次粒径」と「気孔率」と「２次粒径」と「鉄含有酸化物の組成」と「鉄の含有率差」と「Ｓｉ、Ｂ、Ｐ、アルカリ金属」と「アルカリ金属の含有率」との好ましい構成について説明した。これらの７種類の好ましい構成は、互いに共存可能な構成である。従って、複合部２００の構成としては、これらの７種類の好ましい構成から任意に選択された１種類以上の好ましい構成を適用して得られる構成を、採用可能である。

【0111】

Ｃ．変形例：
（１）磁性領域８３０に含まれる鉄含有酸化物の組成が、「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」で表される場合、元素「Ｍ」と値「Ａ」との組み合わせとしては、上記のサンプルの組み合わせに代えて、他の種々の組み合わせを採用可能である。例えば、元素「Ｍ」としては、上記のサンプルの元素に限らず、Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Mg, Zn, Caのうちの少なくとも１種を採用可能と推定される。元素「Ｍ」として２種以上の元素が用いられる場合、それらの元素の合計比率が「１＋Ａ」であればよい。また値「Ａ」としては、−０．５以上、０．５以下の任意の値を採用可能である。

【0112】

（２）磁性領域８３０に含まれる鉄含有酸化物の組成が、「Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２」で表される場合、元素「Ｑ」としては、Y, Lu, Yb, Tm, Er, Ho, Dy, Tb, Gd, Smのうちの２種以上を採用してもよい。いずれの場合も、元素「Ｑ」に対応する全ての元素の合計比率が「３」であればよい。

【0113】

（３）磁性領域８３０に含まれる鉄含有酸化物は、「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」で表される上記の好ましい鉄含有酸化物と、「Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２」で表される上記の好ましい鉄含有酸化物と、の少なくとも一方を含むことが好ましい。さらに、磁性領域８３０に含まれる鉄含有酸化物は、Ｎｉ_ＸＺｎ_ＹＦｅ_ＺＯ_４（0.3≦X≦0.8、 0.2≦Y≦0.7、 1.5≦Z≦2.5、X+Y+Z=3）で表される鉄含有酸化物を含むことが、特に好ましい。なお、磁性領域８３０には、２種類以上の鉄含有酸化物が含まれてもよい。例えば、「Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３」で表される鉄含有酸化物と、「Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２」で表される鉄含有酸化物とが、磁性領域８３０に含まれていてもよい。

【0114】

（４）複合部２００の導電領域８２０を形成する導電性物質としては、良好なノイズ強度を実現したＡ−１番からＡ−５３番の導電性物質（例えば、Ｎｉ、インコネル、Ｃｕ、ＬａＭｎＯ_３、Ｃ、ＴｉＣ、パーマロイ）から任意に選択された導電性物質を採用可能と推定される。また、これらの導電性物質に限らず、他の種々の導電性物質を採用可能と推定される。例えば、導電領域８２０の材料としては、金属と、炭素と、炭素化合物と、ペロブスカイト型酸化物と、のうちの少なくとも１つを含む材料を採用してもよい。金属としては、例えば、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、インコネル、センダスト、パーマロイから任意に選択された１以上の金属を採用可能である。炭素化合物としては、例えば、Ｃｒ_３Ｃ_２、ＴｉＣから任意に選択された１以上の化合物を採用可能である。ペロブスカイト型酸化物としては、例えば、ＬａＭｎＯ_３、ＳｒＴｉＯ_３、ＳｒＣｒＯ_３から任意に選択された１以上の化合物を採用可能である。また、導電領域８２０を形成する導電性物質は、複数種類の導電性物質を含んでもよい。一般的には、電気抵抗率が５０Ω・ｍ以下の導電性物質を採用すれば、大電流が流れた場合の発熱による劣化を抑制できる。

【0115】

（５）複合部２００に含まれるセラミックは、導電性物質と磁性体（ここでは、鉄含有酸化物）とを支持している。このように導電性物質と磁性体とを支持するセラミックとしては、種々のセラミックを採用可能である。例えば、非晶質のセラミックを採用してもよい。非晶質のセラミックとしては、例えば、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、Ｐ_２Ｏ_５から任意に選択された１以上の成分を含むガラスを採用可能である。これに代えて、結晶性のセラミックを採用してもよい。結晶性のセラミックとしては、例えば、Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスなどの結晶化ガラス（ガラスセラミックとも呼ばれる）を採用してもよい。また、Ｓｉ、Ｂ、Ｐを含まないセラミックを採用してもよい。

【0116】

（６）複合部２００の製造方法としては、絶縁体１０の貫通孔１２の内に複合部２００の材料を配置して焼成する方法に代えて、他の任意の方法を採用可能である。例えば、成形型を用いて複合部２００の材料を円柱状に成形し、成形体を焼成することによって円柱状の焼成済の複合部２００を形成してもよい。そして、絶縁体１０の貫通孔１２内に接続部３００の材料を投入するときに、第１シール部６０の材料粉末と、複合部２００の材料粉末の代わりの焼成済の複合部２００と、第２シール部８０の材料粉末とを、貫通孔１２内に挿入すればよい。そして、絶縁体１０を加熱した状態で端子金具４０を後開口１４から貫通孔１２に挿入することによって、接続部（例えば、図１の接続部３００）を形成できる。

【0117】

（７）スパークプラグの構成としては、図１で説明した構成に限らず、種々の構成を採用可能である。例えば、第１チップ２９と第２チップ３９との少なくとも一方を省略してもよい。また、接地電極３０の先端部が、中心電極２０の外周面と対向して、ギャップを形成してもよい。

【0118】

以上、実施形態、変形例に基づき本発明について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれる。

【符号の説明】

【0119】

５...ガスケット、６...第１後端側パッキン、７...第２後端側パッキン、８...先端側パッキン、９...タルク、１０...絶縁体、１１...第２縮外径部、１２...貫通孔（軸孔）、１３...脚部、１４...後開口、１５...第１縮外径部、１６...縮内径部、１７...先端側胴部、１８...後端側胴部、１９...大径部、２０...中心電極、２１...外層、２２...芯部、２７...軸部、２８...フランジ部、２９...第１チップ、３０...接地電極、３１...先端部、３５...母材、３６...芯部、３７...軸部、３９...第２チップ、４０...端子金具、４１...キャップ装着部、４２...鍔部、４３...脚部、５０...主体金具、５１...工具係合部、５２...ネジ部、５３...加締部、５４...座部、５５...胴部、５６...縮内径部、５８...変形部、５９...貫通孔、６０...第１シール部、８０...第２シール部、１００...スパークプラグ、２００...複合部、３００...接続部、８００...対象領域、８１０...セラミック領域、８２０...導電領域、８２５...被覆領域、８３０...磁性領域、８３２...気孔、８３５...粒領域（磁性粒領域）、８３５ｃ...仮想円、８３５ｉ...内部分、８３５ｏ...縁部分、８３５ｓ...表面、８４０...複合粒領域、９００...断面、ｇ...ギャップ、ＳＰ...空間、ＣＬ...中心軸（軸線）、Ｄｆ...先端方向（前方向）、Ｄｆｒ...後端方向（後方向）、Ｄｃ...直径（近似径）、Ｄ１...長径、Ｄ２...短径、ＣＧ...対象粒子、Ｄａ...粒径、ＤＧ１、ＤＧ２...対角線

【要約】

【課題】 磁性体を用いて電波ノイズを抑制する。
【解決手段】
スパークプラグは、絶縁体の貫通孔内で、中心電極と端子金具とを接続する接続部を備える。接続部は、複合部を備える。複合部は、磁性物質である鉄含有酸化物の複数の１次粒子によって形成された複数の２次粒子と、複数の２次粒子のそれぞれを被覆する導電性物質と、を含む。鉄含有酸化物は、Ｍ_１＋ＡＯＦｅ_２−ＡＯ_３（-0.5≦A≦0.5。Ｍは、Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Mg, Zn, Caのうちの少なくとも１種）と、Ｑ_３Ｆｅ_５Ｏ_１２（Ｑは、Y, Lu, Yb, Tm, Er, Ho, Dy, Tb, Gd, Smのうちの少なくとも１種）と、の少なくとも一方を含む。複合部の軸線を含む断面において、１次粒子の平均粒径は、０．５μｍ以上、１００μｍ以下であり、２次粒子の平均粒径は、０．５ｍｍ以上、２ｍｍ以下であり、２次粒子の内部の気孔率は、５％以下である。
【選択図】 図１

【図1】

【図2】

【図3】