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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】5997047
(24)【登録日】2016年9月2日
(45)【発行日】2016年9月28日
(54)【発明の名称】マイクロ構造化表面を有するアンチグレアフィルム
(51)【国際特許分類】
G02B 5/02 20060101AFI20160915BHJP
【ＦＩ】
G02B5/02 C
【請求項の数】9
【全頁数】52
(21)【出願番号】特願2012-514015(P2012-514015)
(86)(22)【出願日】2010年5月28日
(65)【公表番号】特表2012-529079(P2012-529079A)
(43)【公表日】2012年11月15日
(86)【国際出願番号】US2010036547
(87)【国際公開番号】WO2010141345
(87)【国際公開日】20101209
【審査請求日】2013年5月9日
(31)【優先権主張番号】61/183,154
(32)【優先日】2009年6月2日
(33)【優先権主張国】US
(31)【優先権主張番号】61/332,231
(32)【優先日】2010年5月7日
(33)【優先権主張国】US
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】505005049
【氏名又は名称】スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
(74)【代理人】
【識別番号】100099759
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 篤
(74)【代理人】
【識別番号】100077517
【弁理士】
【氏名又は名称】石田 敬
(74)【代理人】
【識別番号】100087413
【弁理士】
【氏名又は名称】古賀 哲次
(74)【代理人】
【識別番号】100146466
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 正俊
(74)【代理人】
【識別番号】100202418
【弁理士】
【氏名又は名称】河原 肇
(74)【代理人】
【識別番号】100173107
【弁理士】
【氏名又は名称】胡田 尚則
(74)【代理人】
【識別番号】100128495
【弁理士】
【氏名又は名称】出野 知
(72)【発明者】
【氏名】クリストファー ビー．ウォーカー，ジュニア
(72)【発明者】
【氏名】クリストファー ピー． ティボウ
(72)【発明者】
【氏名】トライ ディー．ファム
(72)【発明者】
【氏名】スティーブン エイチ．コング
(72)【発明者】
【氏名】ジョセフ ティー．アロンソン
(72)【発明者】
【氏名】カイル ジェイ．リンドストローム
(72)【発明者】
【氏名】マイケル ケー．ガーラック
(72)【発明者】
【氏名】ミッシェル エル．トイ
(72)【発明者】
【氏名】タウン エル．マッケンジー
(72)【発明者】
【氏名】アンソニー エム．レンストローム
(72)【発明者】
【氏名】スラー ジェンドウビ
(72)【発明者】
【氏名】ミッチェル エー．エフ．ジョンソン
(72)【発明者】
【氏名】スコット アール．ケイトー
(72)【発明者】
【氏名】ロバート エー．ヤペル
(72)【発明者】
【氏名】ジョセフ エー．ジガル
(72)【発明者】
【氏名】スティーブン ジェイ．マクマン
(72)【発明者】
【氏名】スティーブン ディー．ソロモンソン
(72)【発明者】
【氏名】ルー フェイ
(72)【発明者】
【氏名】ゲイリー ティー．ボイド
【審査官】
居島 一仁
(56)【参考文献】
【文献】
特開２００４−３４８１５６（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２００２−３６５４１０（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２００７−１０８７２４（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２００９−０８６４１０（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）
Ｇ０２Ｂ５／０２
Ｂ３２Ｂ１／００−４３／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数のマイクロ構造を含むマイクロ構造化表面層を有するマットフィルムであって、前記マイクロ構造において、少なくとも３０％のマイクロ構造が少なくとも０．７度の傾斜規模を有し、少なくとも２５％のマイクロ構造が１．３度未満の傾斜規模を有するように、下記式で定義される補集合的累積傾斜規模分布を有し、
（式中、特定の角度θでのＦｃｃは、θ以上の傾斜の割合であり、ＮＧ（θ）は、度による傾斜分布であり、θは下記式
で定義され、∇H(x, y)は下記式
で定義される。）
５０％より多くのマイクロ構造は埋め込まれたマット粒子を含まず、前記マイクロ構造化表面層のピークは少なくとも１０マイクロメートルかつ３０マイクロメートル未満の平均等価円直径を有する、マットフィルム。
【数1】
【数2】
【数3】
５０％より多くのマイクロ構造は埋め込まれたマット粒子を含まず、前記マイクロ構造化表面層のピークは少なくとも１０マイクロメートルかつ３０マイクロメートル未満の平均等価円直径を有する、マットフィルム。
【請求項2】
前記マイクロ構造の１５％未満が、４．１度以上の傾斜規模を有する、請求項１に記載のマットフィルム。
【請求項3】
前記マイクロ構造の５％未満が、４．１度以上の傾斜規模を有する、請求項１に記載のマットフィルム。
【請求項4】
前記マットフィルムが７０〜９０％の光学的透明度を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマットフィルム。
【請求項5】
前記マットフィルムが１〜１０％の曇り度を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマットフィルム。
【請求項6】
前記マイクロ構造化表面層が、１．６０を越える屈折率を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマットフィルム。
【請求項7】
前記マイクロ構造化表面層が、１．６０未満の屈折率を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマットフィルム。
【請求項8】
前記マイクロ構造がマット粒子を含まない、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマットフィルム。
【請求項9】
前記マイクロ構造化表面層が、少なくとも０．０５マイクロメートルかつ０．１４マイクロメートル以下の平均表面粗さを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマットフィルム。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【0001】
様々なマットフィルム（アンチグレアフィルムとも表現）が記載されている。マットフィルムは、交互に配置された高及び低屈折率層を有して製造され得る。そのようなマットフィルムは、低光沢を反射防止と組み合わせて有し得る。しかしながら、交互に配置された高及び低屈折率層の不在下では、それらのフィルムはアンチグレアを有するが反射防止を有さないであろう。
【0002】
米国特許第２００７／０２８６９９４号の段落００３９に記載されているように、マット反射防止フィルムは、典型的には、等価な光沢フィルムと比較して低い透過率と高いヘイズ値とを有する。例えば、ヘイズ値は、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に従って測定した場合、概して少なくとも５％、６％、７％、８％、９％又は１０％である。更に、光沢表面が、ＡＳＴＭ Ｄ ２４５７−０３によって６０°において測定した場合、典型的には少なくとも１３０の光沢を有するのに対して、マット表面は１２０未満の光沢を有する。
【0003】
マットフィルムを得るためのいくつかの手法が存在する。
【0004】
例えば米国特許第６，７７８，２４０号に記載されているように、マット粒子を加えることによりマットコーティングを調製することができる。
【0005】
更に、マットな反射防止フィルムは、高及び低屈折率層をマットフィルム基材上に提供することによっても調製することができる。
【0006】
更なる別の手法では、アンチグレア又は反射防止フィルムの表面を粗面化し又はテクスチャリングして、マット表面を提供することができる。米国特許第５，８２０，９５７号によれば、「反射防止フィルムのテクスチャリングされた表面は、多数のテクスチャリング材料、表面又は方法のいずれかにより付与することができる。テクスチャリング材料又は表面の非限定的な例としては、マット仕上げを有するフィルム若しくはライナー、マイクロエンボス加工フィルム、所望のテクスチャリングパターン若しくは鋳型を含むマイクロ複製工具、スリーブ若しくはベルト、金属若しくはゴムロール等のロール、又はゴム被覆ロールが挙げられる」。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、マイクロ構造化表面を有するアンチグレアフィルムに関する。
【課題を解決するための手段】
【0008】
いくつかの実施形態において、マイクロ構造化表面は、少なくとも３０％が、少なくとも０．７度の傾斜規模を有し、かつ少なくとも２５％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、補集合的累積傾斜規模分布（complement cumulative slope magnitude distribution）を有する複数のマイクロ構造を含む。
【0009】
別の実施形態では、アンチグレアフィルムは、９０％未満の透明度と、少なくとも０．０５マイクロメートル〜０．１４マイクロメートル以下の平均表面粗さ（Ｒａ）と、により特徴付けられる。
【0010】
別の実施形態では、アンチグレアフィルムは、９０％未満の透明度と、少なくとも０．５０マイクロメートル〜１．２０マイクロメートル以下の平均最大表面高さ（Ｒｚ）と、により特徴付けられる。
【0011】
別の実施形態では、アンチグレアフィルムは、９０％以下の透明度により特徴付けられ、マイクロ構造化層は、少なくとも５マイクロメートル〜３０マイクロメートル以下の平均等価直径を有する山を含む。
【0012】
いくつかの実施形態において、アンチグレアフィルムのマイクロ構造の５０％以下は、埋め込まれたマット粒子を含む。好ましい実施形態では、アンチグレアフィルムは、埋め込まれたマット粒子を含まない。
【0013】
アンチグレアフィルムは、一般に、少なくとも７０％の透明度と、１０％以下の曇り度と、を有する。
【0014】
いくつかの実施形態において、マイクロ構造の少なくとも３０％、少なくとも３５％、又は少なくとも４０％は、１．３度未満の傾斜規模を有する。
【0015】
いくつかの実施形態において、マイクロ構造の１５％未満、又は１０％未満、又は５％未満は、４．１度以上の傾斜規模を有する。更に、マイクロ構造の少なくとも７０％は、典型的には少なくとも０．３度の傾斜規模を有する。
【0016】
低「スパークル」を有するいくつかの実施形態では、マイクロ構造は、少なくとも５マイクロメートル又は少なくとも１０マイクロメートルの平均等価円直径（ＥＣＤ）を有する山を含む。更に、山の平均ＥＣＤは、一般に３０マイクロメートル未満又は２５マイクロメートル未満である。いくつかの実施形態において、マイクロ構造は、少なくとも５マイクロメートル又は少なくとも１０マイクロメートルの平均長さを有する山を含む。更に、マイクロ構造の山の平均幅は、典型的には少なくとも５マイクロメートルである。いくつかの実施形態において、山の平均幅は、１５マイクロメートル未満である。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】マットフィルムの概略側面図。
【図2A】マイクロ構造の陥没部の概略側面図。
【図2B】マイクロ構造の突出部の概略側面図。
【図3A】規則的に配置されたマイクロ構造の概略上面図。
【図3B】不規則に配置されたマイクロ構造の概略上面図。
【図4】マイクロ構造の概略側面図。
【図5】埋め込まれたマット粒子を含むマイクロ構造部分を有する光学フィルムの概略側面図。
【図6】切削工具システムの概略側面図。
【図7A】様々なカッターの概略側面図。
【図7B】様々なカッターの概略側面図。
【図7C】様々なカッターの概略側面図。
【図7D】様々なカッターの概略側面図。
【図8A】例示的なマイクロ構造化表面（即ち、マイクロ構造化高屈折率層Ｈ１）の２次元表面プロファイル。
【図9A】別の例示的なマイクロ構造化表面（即ち、マイクロ構造化高屈折率層Ｈ４）の２次元表面プロファイル。
【図10A】様々なマイクロ構造化表面のパーセント補集合的累積傾斜規模分布を示すグラフ。
【図10B】様々なマイクロ構造化表面のパーセント補集合的累積傾斜規模分布を示すグラフ。
【図11】様々な例示的なマイクロ構造化表面の補集合的累積傾斜規模を示すグラフ。
【図12】曲率を計算する方法。
【発明を実施するための形態】
【0018】
本明細書には、マット（即ち、アンチグレア）フィルムが記載される。図１を参照すると、マットフィルム１００はマイクロ構造化（例えば、視認）表面層６０を含み、前記表面層６０は、典型的には光透過性（例えば、フィルム）基材５０上に配置されている。基材５０及びマットフィルムは、一般に少なくとも８５％又は９０％、いくつかの実施形態では少なくとも９１％、９２％、９３％又はそれ以上の透過率を有する。
【0019】
透明基材は、フィルムであってもよい。フィルム基材の厚さは、一般に、意図される使用に依存する。大部分の用途について、基材の厚さは好ましくは約０．５ｍｍ未満、より好ましくは約０．０２〜約０．２ｍｍである。代替的に、透明フィルム基材は、光学（例えば、照射）ディスプレイであってもよく、前記ディスプレイを介して試験、画像又は他の情報が表示され得る。透明基材は、ガラス等の多種多様な非ポリマー材料、又はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、（例えばビスフェノールＡ）ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリ（メチルメタクリレート）、及び例えば二軸配向ポリプロピレンのようなポリオレフィン等の様々な熱可塑性及び架橋ポリマー材料のいずれかを含むか、又はそれからなってもよく、これらは様々な光学デバイスで一般に使用されている。
【0020】
耐久性マットフィルムは、典型的には比較的厚いマイクロ構造化マット（例えば、視認）表面層を含む。マイクロ構造化マット層は、典型的には少なくとも０．５マイクロメートル、好ましくは少なくとも１マイクロメートル、より好ましくは少なくとも２又は３マイクロメートルの平均厚さ（「ｔ」）を有する。マイクロ構造化マット層は、典型的には１５マイクロメートル以下、より典型的には４又は５マイクロメートル以下の厚さを有する。しかしながら、マットフィルムの耐久性が必要でない場合、マイクロ構造化マット層の厚さは、より薄くてもよい。
【0021】
いくつかの実施形態において、マイクロ構造は、陥没部であってもよい。例えば、図２Ａは、陥没したマイクロ構造３２０、又はマイクロ構造キャビティを含むマイクロ構造化（例えば、マット）層３１０の概略側面図を示す。マイクロ構造化表面を形成する工具表面は、一般に、複数の陥没部を含む。マットフィルムのマイクロ構造は、典型的には突出部である。例えば、図２Ｂは、突出したマイクロ構造３４０を含むマイクロ構造化層３３０の概略側面図である。図８Ａ〜９Ｄは、複数のマイクロ構造化突出部を含む様々なマイクロ構造化表面を示す。
【0022】
いくつかの実施形態において、マイクロ構造は規則的なパターンを形成し得る。例えば、図３Ａは、主表面４１５に規則的なパターンを形成するマイクロ構造４１０の概略上面図である。しかしながら、典型的にはマイクロ構造は不規則なパターンを形成する。例えば、図３Ｂは、不規則なパターンを形成するマイクロ構造４２０の概略上面図である。ある場合には、マイクロ構造は無作為に見える擬無作為パターンを形成し得る。
【0023】
（例えば、個別の）マイクロ構造は、傾斜により特徴付けることができる。図４は、マイクロ構造化（例えば、マット）層１４０の一部分の概略側面図である。詳細には、図４は、主表面１２０のマイクロ構造１６０と、対向主表面１４２と、を示す。マイクロ構造１６０は、マイクロ構造の表面全域に傾斜分布を有する。例えば、マイクロ構造は、位置５１０に傾斜θを有し、θは、接線５３０と、マット層の主表面１４２との間の角度である。
【0024】
一般に、マットフィルムのマイクロ構造は、典型的には高さ分布を有し得る。いくつかの実施形態において、（実施例に記載した試験方法に従って測定した）マイクロ構造の平均高さは、約５マイクロメートル以下、又は約４マイクロメートル以下、又は約３マイクロメートル以下、又は約２マイクロメートル以下、又は約１マイクロメートル以下である。平均高さは、典型的には少なくとも０．１又は０．２マイクロメートルである。
【0025】
いくつかの実施形態において、マイクロ構造は実質的にマット粒子（例えば、無機酸化物又はポリスチレン）を含まない。しかしながら、マット粒子の不在下でも、マイクロ構造７０は、図１に示すように、典型的には（例えば、ジルコニア又はシリカ）ナノ粒子３０を含む。
【0026】
ナノ粒子のサイズは、可視光線の顕著な光散乱を防止するように選択される。光学特性又は材料特性を最適化するため、及び全般的な組成物コストを低下させるために、数種類の無機酸化物粒子の混合物を用いることが望ましい場合がある。表面改質コロイド状ナノ粒子は、少なくとも１ｎｍ又は５ｎｍの（例えば非会合の）一次粒径又は会合粒径を有する無機酸化物粒子であり得る。一次粒径又は会合粒径は一般に、１００ｎｍ未満、７５ｎｍ未満、又は５０ｎｍ未満である。典型的には、一次粒径又は会合粒径は、４０ｎｍ、３０ｎｍ、又は２０ｎｍ未満である。ナノ粒子は、非会合性であることが好ましい。それらの測定値は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）に基づき得る。表面改質コロイド状ナノ粒子は、実質的に完全に凝縮可能である。
【0027】
完全凝縮ナノ粒子（シリカを例外として）は、典型的には、５５％を超える、好ましくは６０％を超える、より好ましくは７０％を超える結晶化度（単離金属酸化物粒子として測定した場合）を有する。例えば、結晶化度は、約８６％まで以上の範囲にすることができる。結晶化度は、Ｘ線回折法によって割り出すことができる。凝縮結晶性のナノ粒子（例えばジルコニアナノ粒子）は屈折率が高く、非晶質ナノ粒子は典型的には屈折率がより低い。
【0028】
ナノ粒子のサイズが相当小さいため、それらのナノ粒子はマイクロ構造を形成しない。正しくは、マイクロ構造は、複数のナノ粒子を含む。
【0029】
別の実施形態では、マイクロ構造の一部分は、埋め込まれたマット粒子を含み得る。
【0030】
マット粒子は、典型的には、約０．２５マイクロメートル（２５０ナノメートル）を越える、又は約０．５マイクロメートルを越える、又は約０．７５マイクロメートルを越える、又は約１マイクロメートルを越える、又は約１．２５マイクロメートルを越える、又は約１．５マイクロメートルを越える、又は約１．７５マイクロメートルを越える、又は約２マイクロメートルを越える、平均サイズを有する。より小さいマット粒子は、比較的薄いマイクロ構造化層を含むマットフィルムには一般的である。しかしながら、マイクロ構造化層がより厚い実施形態では、マット粒子は、５マイクロメートル又は１０マイクロメートル迄の平均サイズを有し得る。マット粒子の濃度は、少なくとも１又は２重量％〜約５、６、７、８、９又は１０重量％以上の範囲であり得る。
【0031】
図５は、基材８５０上に配置されたマット層８６０を含む光学フィルム８００の概略側面図である。マット層８６０は、基材８５０に付着された第１の主表面８１０と、重合バインダー８４０中に分散された複数のマット粒子８３０及び／又はマット粒子凝集体とを含む。マイクロ構造８７０のうちの相当部分、例えば少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％には、マット粒子８３０又はマット粒子凝集体８８０が存在しない。したがって、それらのマイクロ構造は（例えば、埋め込まれた）マット粒子を含まない。（例えば、シリカ又はＣａＣＯ３）マット粒子の存在は、以下に記載するように、それらのマット粒子の存在が所望の反射防止、透明度、及び曇り度特性を提供するのに不十分であったとしても、改善された耐久性を提供し得ることが推定される。しかしながら、マット粒子のサイズが比較的大きいため、コーティング組成物中に均一に分散されたマット粒子を維持することは困難であり得る。このことは、適用されたマット粒子の濃度に変動を生じる場合があり（特にウェブコーティングの場合）、これは次にマット特性に変動を生じる。
【0032】
マイクロ構造の少なくとも一部分が埋め込みマット粒子又は凝集マット粒子を含む実施形態では、マット粒子の平均サイズは、典型的にはマイクロ構造の平均サイズよりも十分小さく（例えば、少なくとも約２以上の因数により）、したがって図５に示すように、マット粒子がマイクロ構造化層の重合性樹脂組成物で包囲される。
【0033】
マット層が埋め込みマット粒子を含む場合、マット層は、典型的には粒子の平均サイズよりも少なくとも約０．５マイクロメートル、又は少なくとも約１マイクロメートル、又は少なくとも約１．５マイクロメートル、又は少なくとも約２マイクロメートル、又は少なくとも約２．５マイクロメートル、又は少なくとも約３マイクロメートル大きい平均厚さ「ｔ」を有する。
【0034】
マイクロ構造化表面は、任意の好適な製作方法により作製することができる。マイクロ構造は、典型的には、米国特許第５，１７５，０３０号（Ｌｕら）及び第５，１８３，５９７号（Ｌｕ）に記載されているように、重合性樹脂組成物を工具表面と接触させて成型及び硬化させることにより、工具からのマイクロ複製により製作される。工具は、任意の利用可能な製作方法、例えばエングレービング又はダイヤモンド切削を用いることにより製作することができる。例示的なダイヤモンド切削システム及び方法は、例えば、その開示が参照により本明細書に組み込まれる、国際出願公開第ＷＯ ００／４８０３７号、並びに米国特許第７，３５０，４４２号及び同第７，３２８，６３８号に記載されているような高速工具サーボ（fast tool servo）（ＦＴＳ）を含み及び使用し得る。
【0035】
図６は、マイクロ複製されてマイクロ構造１６０及びマット層１４０を製造し得る工具の切削に使用され得る切削工具システム１０００の概略側面図である。切削工具システム１０００は、ねじ切り旋盤プロセスを使用し、ドライバー１０３０によって中心軸１０２０を中心として回転し及び／又は中心軸１０２０に沿って移動し得るロール１０１０と、ロール材料を切削するためのカッター１０４と、を含む。カッターは、サーボ１０５０上に取り付けされ、ドライバー１０６０によってｘ方向に沿ってロール内へ及び／又はロールに沿って移動され得る。一般に、カッター１０４０はロール及び中心軸１０２０に対して垂直に取り付けられ、ロールが中心軸を中心として回転している間、ロール１０１０のエングレービング可能な材料内に押し進められる。次いで、カッターは中心軸に平行に押し進められて、ねじ切りを生成する。カッター１０４０を、高周波でかつ少ない変位で同時に作動させて、マイクロ複製された際にマイクロ構造１６０を生じる構造をロール内に生成し得る。
【0036】
サーボ１０５０は高速工具サーボ（ＦＴＳ）であり、カッター１０４０の位置を迅速に調整する、度々ＰＺＴスタックと称されるソリッド・ステート圧電（ＰＺＴ）装置を含む。ＦＴＳ １０５０は、カッター１０４０のｘ、ｙ及び／若しくはｚ方向、又は軸外の方向における非常に正確かつ非常に高速な移動を可能にする。サーボ１０５０は、静止位置に対して制御動作を生成できる任意の高品質変位サーボであってもよい。ある場合には、サーボ１０５０は、０〜約２０マイクロメートルの範囲の変位を、約０．１マイクロメートル又はそれより良好な分解能にて確実にかつ反復して提供し得る。
【0037】
ドライバー１０６０は、カッター１０４０をｘ方向に沿って中心軸１０２０に平行に移動し得る。ある場合に、ドライバー１０６０の変位分解能は約０．１マイクロメートルよりも良好であり、又は約０．０１マイクロメートルよりも良好である。ドライバー１０３０により生成される回転動作がドライバー１０６０により生成される並行移動と同期化されて、得られるマイクロ構造１６０の形状を正確に制御する。
【0038】
ロール１０１０のエングレービング可能な材料は、カッター１０４０によってエングレービングされることが可能な任意の材料であってもよい。例示的なロール材料としては、銅、様々なポリマー、及び様々なガラス材料が挙げられる。
【0039】
カッター１０４０は、任意の種類のカッターであってもよく、用途にて望ましい任意の形状を有してもよい。例えば、図７Ａは、半径「Ｒ」の弓形切削チップ１１１５を有するカッター１１１０の概略側面図である。ある場合には、切削チップ１１１５の半径Ｒは、少なくとも約１００マイクロメートル、又は少なくとも約１５０マイクロメートル、又は少なくとも約２００マイクロメートルである。いくつかの実施形態において、切削チップの半径Ｒは、又は少なくとも約３００マイクロメートル、又は少なくとも約４００マイクロメートル、又は少なくとも約５００マイクロメートル、又は少なくとも約１０００マイクロメートル、又は少なくとも約１５００マイクロメートル、又は少なくとも約２０００マイクロメートル、又は少なくとも約２５００マイクロメートル、又は少なくとも約３０００マイクロメートルである。
【0040】
代替的に、工具のマイクロ構造化表面は、図７Ｂに示すようなＶ形切削チップ１１２５を有するカッター１１２０、図７Ｃに示すような、部分的に直線状の切削チップ１１３５を有するカッター１１３０、又は７Ｄに示すような湾曲切削チップ１１４５を有するカッター１１４０を使用して、形成されてもよい。１つの実施形態では、少なくとも約１７８度以上の頂角βを有するＶ形切削チップを使用した。
【0041】
再び図６を参照すると、ロール材料を切削する間の、中心軸１０２０に沿ったロール１０１０の回転とｘ方向に沿ったカッター１０４の移動とが、中心軸に沿ってピッチＰ１を有するねじ経路をロールの周囲に画定する。カッターがロール表面に垂直な方向に沿って移動してロール材料を切削するにつれて、カッターによって切削される材料の幅が、カッターの内外への移動又は突入と共に変化する。例えば図７Ａを参照すると、カッターによる最大侵入深さは、カッターにより切削される最大幅Ｐ２に対応する。一般に、比Ｐ２／Ｐ１は約２〜約４の範囲内にある。
【0042】
いくつかのマイクロ構造化高屈折率層は、高屈折率のマット層を作製するための９個の異なるパターン化工具をマイクロ複製して作製された。高屈折率マット層のマイクロ構造化表面は、工具表面の正確な複製物であったため、マイクロ構造化高屈折率層に関する今後の説明は、逆工具表面の説明でもある。マイクロ構造化表面Ｈ５及びＨ５Ａは同一の工具を使用したため、次に記載するように、実質的に同一の補集合的累積傾斜規模分布Ｆｃｃ（θ）及び山の寸法特性を有する。マイクロ構造化表面Ｈ１０Ａ及びＨ１０Ｂも同一の工具を使用したため、実質的に同一の補集合的累積傾斜規模分布Ｆｃｃ（θ）及び山の寸法特性を呈する。マイクロ構造化表面Ｈ２Ａ、Ｈ２Ｂ及びＨ２Ｃも、同一の工具を使用した。したがって、Ｈ２Ｂ及びＨ２Ｃは、Ｈ２Ａと実質的に同一の補集合的累積傾斜規模分布及び山の寸法特性を有する。
【0043】
例示的なマイクロ構造化高屈折率層の表面プロファイルのいくつかの例を、図８Ａ〜９Ｄに示す。
【0044】
約２００マイクロメートル×２５０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル×６００マイクロメートルの面積に亘る面積を有する、製作されたサンプルの表面の代表的な部分を、原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）、共焦点顕微鏡法又は位相シフト干渉法により、実施例に記載した試験方法に従って特徴付けた。
【0045】
傾斜分布のＦｃｃ（θ）補集合的累積傾斜規模分布は、以下の等式により定義される。
【0046】
【数1】
【0047】
特定の角度（θ）におけるＦｃｃは、θ以上の傾斜の割合である。
【0048】
マイクロ構造化された（例えば、高屈折率層の）マイクロ構造のＦｃｃ（θ）を、以下の表１に示す。
【0049】
【表1】
【0050】
＊Ｈ１１は、ＳｉＯ２粒子を含む市販のマットＡＲフィルムである。
【0051】
図１０Ａは、他のサンプル、サンプルＡに関するパーセント累積傾斜分布を示す。図１０Ａから明らかなように、サンプルＡの表面の約１００％が約３．５度未満の傾斜規模を有した。更に、解析された表面の約５２％が約１度未満の傾斜規模を有し、解析された表面の約７２％が約１．５度未満の傾斜規模を有した。
【0052】
サンプルＡと類似した、Ｂ、Ｃ及びＤと標識した３つの追加のサンプルを特徴付けた。４つの全サンプルＡ〜Ｄはマイクロ構造１６０と同様のマイクロ構造を有し、工具システム１０００と同様の切削工具システムを使用して、カッター１１２０と同様のカッターを使用してパターン化ロールを作製し、続いてパターン化工具をマイクロ複製してマット層１４０と同様のマット層を作製することにより、作製された。サンプルＢは、約９５．２％の光透過率、約３．２８％の光学的曇り度及び約７８％の光学的透明度を有し、サンプルＣは、約９４．９％の光透過率、約２．１２％の光学的曇り度及び約８６．１％の光学的透明度を有し、サンプルＤは、約９４．６％の光透過率、約１．７１％の光学的曇り度及び約８４．８％の光学的透明度を有した。加えて、Ｒ１〜Ｒ６と標識した６個の比較サンプルを特徴付けた。
【0053】
サンプルＡ〜Ｄのマイクロ構造のＦｃｃ（θ）は、以下の通りであった。
【0054】
【表2】
【0055】
本明細書に開示した光学的透明度値は、ＢＹＫ−Ｇａｒｄｉｎｅｒ製のＨａｚｅ−Ｇａｒｄ Ｐｌｕｓヘイズメーターを使用して測定した。表１に示したように、重合（例えば、高屈折率）ハードコートマイクロ構造化表面の光学的透明度は、概して少なくとも約６０％又は６５％である。いくつかの実施形態において、光学的透明度は、少なくとも７５％又は８０％である。いくつかの実施形態において、透明度は、９０％又は８９％又は８８％又は８７％又は８６％又は８５％以下である。
【0056】
光学的曇り度は、典型的には、法線方向から２．５度を越えて逸脱する透過光の、総透過光に対する比として定義される。本明細書に開示した光学的曇り度値も、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に記載されている手順に従って、Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ Ｐｌｕｓヘイズメーター（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｉｎｅｒ，Ｓｉｌｖｅｒ Ｓｐｒｉｎｇｓ，Ｍｄ．から入手可能）を使用して測定した。上記の表１に示したように、重合（例えば、高屈折率）ハードコートマイクロ構造化表面の光学的曇り度は、２０％未満、好ましくは１５％未満であった。好ましい実施形態では、光学的曇り度は、約１％又は２％又は３％〜約１０％の範囲である。いくつかの実施形態では、光学的曇り度は、約１％又は２％又は３％〜約５％の範囲である。
【0057】
傾斜規模の列に報告した各値は、それらの傾斜規模以上を有するマイクロ構造の総百分率（即ち、マイクロ構造化表面の総百分率）である。例えば、マイクロ構造化表面Ｈ６の場合、マイクロ構造の９７．３％が０．１度以上の傾斜規模を有し、マイクロ構造の８９．８％が０．３度以上の傾斜規模を有し、マイクロ構造の６２．６％が０．７度以上の傾斜規模を有し、マイクロ構造の２２．４％が１．３度以上の傾斜規模を有し、マイクロ構造（測定した範囲の）の０（なし）が４．１度以上の傾斜規模を有した。逆に、マイクロ構造の６２．６％が０．７度以上の傾斜規模を有したため、１００％−６２．６％＝３７．４％が、０．７度未満の傾斜規模を有した。更に、マイクロ構造の２２．４％が１．３度大きい傾斜規模を有したため、１００％−２２．４％＝７７．６％が、１．３度未満の傾斜規模を有した。
【0058】
表１並びに図１０Ａ、１０Ｂ及び図１１に示すように、それぞれのマイクロ構造化表面のマイクロ構造の少なくとも９０％以上が、少なくとも０．１度以上の傾斜規模を有した。更に、マイクロ構造の少なくとも７５％が、少なくとも０．３度の傾斜規模を有した。
【0059】
前部（例えば、視認）表面マット層としての使用に好適な、高い透明度及び低い曇り度を有する好ましいマイクロ構造化表面は、Ｈ１とは異なる補集合的累積傾斜分布特性を有した。Ｈ１の場合、マイクロ構造の少なくとも９７．３％が、少なくとも０．７度の傾斜規模を有した。２．７％のみが０．７度未満の傾斜規模を有した。他のマイクロ構造化表面では、マイクロ構造の少なくとも２５％又は３０％又は３５％又は４０％、いくつかの実施形態では、少なくとも４５％又は５０％又は５５％又は６０％又は６５％又は７０％又は７５％が少なくとも０．７度の傾斜規模を有した。したがって、少なくとも２５％又は３０％又は３５％又は４０％又は４５％又は５０％又は５５％又は６０％又は６５％又は７０％が、０．７度未満の傾斜規模を有した。
【0060】
代替的に、又はそれに加えて、好ましいマイクロ構造化表面は、Ｈ１がマイクロ構造の少なくとも９１．１％が少なくとも１．３度の傾斜規模を有した点で、Ｈ１と区別されることができた。８．９％のみが１．３度未満の傾斜規模を有した。他のマイクロ構造化表面では、マイクロ構造の少なくとも２５％が、１．３度未満の傾斜規模を有した。いくつかの実施形態において、マイクロ構造の少なくとも３０％又は３５％又は４０％又は４５％が、少なくとも１．３度の傾斜規模を有したしたがって、マイクロ構造の５５％又は６０％又は６５％が、１．３度未満の傾斜規模を有した。別の実施形態では、マイクロ構造の少なくとも５％又は１０％又は１５％又は２０％が、少なくとも１．３度の傾斜規模を有した。したがって、マイクロ構造の８０％又は８５％又は９０％又は９５％が、１．３度未満の傾斜規模を有した。
【0061】
代替的に、又はそれに加えて、Ｈ１ではマイクロ構造の少なくとも約２８．７％が少なくとも４．１度の傾斜規模を有した一方、好ましいマイクロ構造化表面では、マイクロ構造の２０％又は１５％又は１０％未満が４．１度以上の傾斜規模を有した点で、マットなマイクロ構造化表面はＨ１から区別され得る。したがって、８０％又は８５％又は９０％が４．１度未満の傾斜規模を有した。１つの実施形態では、マイクロ構造の５〜１０％が４．１度以上の傾斜規模を有した。殆どの実施形態では、マイクロ構造の５％又は４％又は３％又は２％又は１％未満が４．１度以上の傾斜規模を有した。
【0062】
マイクロ構造化表面は、下記の実施例に記載する試験方法に従って特徴付けた際、複数の山を含む。山の寸法的特徴は、以下の表２に報告する。
【0063】
【表3】
【0064】
これらの寸法的特徴は、マット表面とＬＣＤ画素との相互作用を原因とする、マット表面を介して表示される画像の視覚的劣化である「スパークル」に関連することが見出された。スパークルの外観は、ＬＣＤ画像上に「粒状性」を重ね合わせて、透過された像の透明度を損なう複数の特定の色の輝点として説明することができる。スパークルのレベル又は量は、マイクロ複製された構造と、ＬＣＤの画素との相対的なサイズの相違に依存する（即ち、スパークルの量はディスプレイ依存性である）。一般に、マイクロ複製構造は、スパークルを排除するためにＬＣＤ画素サイズよりも遙かに小さい必要がある。スパークルの量は、商標名「Ａｐｐｌｅ ｉＰｏｄ Ｔｏｕｃｈ」で入手可能な、白色状態のＬＣＤディスプレイ（顕微鏡で測定して約１５９μｍの画素ピッチを有する）上で、一組の物理的許容基準（異なるレベルのスパークルを有するサンプル）との視覚的比較によって評価される。等級は１〜４の範囲であり、１が最少、４が最多のスパークル量である。
【0065】
比較例Ｈ１は少量のスパークルを有したが、このマイクロ構造化（例えば、高屈折率）層は、表１に報告したように、低い透明度及び高い曇り度を有した。
【0066】
比較例Ｈ１１は、実質的に全部の山がマット粒子によって形成されている市販のマットフィルムである。したがって、平均等価円直径（ＥＣＤ）、平均長さ及び平均幅は、ほぼ同一である。他の実施例（即ち、Ｈ１を除く）は、比較例Ｈ１１とは実質的に異なる山寸法特性を有するマットフィルムによって低スパークルが獲得できることを示す。例えば、他の全部の例示的なマイクロ構造化表面の山は、比較例Ｈ１１よりも実質的に高い、少なくとも５マイクロメートル、典型的には少なくとも１０マイクロメートルの平均ＥＣＤを有した。更に、Ｈ３及びＨ７よりも低いスパークルを有する他の実施例は、３０マイクロメートル未満又は２５マイクロメートル未満の平均ＥＣＤ（即ち、山）を有した。他の例示的なマイクロ構造化表面の山は、５マイクロメートルを越える（即ち、Ｈ１１よりも長い）、典型的には１０マイクロメートルを越える、平均長さを有した。例示的なマイクロ構造化表面の山の平均幅も、少なくとも５マイクロメートルである。低スパークルの実施例の山は、約２０マイクロメートル以下の平均長さ、いくつかの実施形態では、１０又は１５マイクロメートル以下の平均長さを有した。幅対長さの比（即ち、Ｗ／Ｌ）は、典型的には少なくとも１．０、又は０．９、又は０．８である。いくつかの実施形態において、Ｗ／Ｌは、少なくとも０．６である。別の実施形態では、Ｗ／Ｌは、０．５又は０．４未満、典型的には少なくとも０．１又は０．１５未満である。最近傍（即ち、ＮＮ）は、典型的には少なくとも１０又は１５マイクロメートルでありかつ１００マイクロメートル以下である。いくつかの実施形態において、ＮＮは、１５マイクロメートル〜約２０マイクロメートル又は２５マイクロメートルの範囲である。Ｗ／Ｌが０．５未満である実施形態を除いて、より高いスパークルの実施形態は、典型的には少なくとも約３０又は４０マイクロメートルのＮＮを有する。
【0067】
典型的なマイクロ構造化層及びマットフィルムに関しては、マイクロ構造は実質的に表面全体を覆う。しかしながら、理論に束縛されるものではないが、少なくとも０．７度の傾斜規模を有するマイクロ構造は、所望のマット特性を提供すると考えられる。したがって、少なくとも０．７度の傾斜規模を有するマイクロ構造は、主表面の少なくとも約２５％、又は少なくとも約３０％、又は少なくとも約３５％、又は少なくとも約４０％、又は少なくとも約４５％、又は少なくとも約５０％、又は少なくとも約５５％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約６５％、又は少なくとも約７０％を覆い得るが、尚、所望の高い透明度及び低い曇り度を提供すると推定される。
【0068】
マイクロ構造化表面の複数の山は、平均高さ、平均粗さ（Ｒａ）、及び平均最大表面高さ（Ｒｚ）に関連して特徴付けることもできる。
【0069】
【表4】
【0070】
平均表面粗さ（即ち、Ｒａ）は、典型的には０．２０マイクロメートル未満である。高い透明度を十分な曇り度と共に有する好ましい実施形態は、０．１８又は０．１７又は０．１６又は０．１５マイクロメートル以下のＲａを有する。いくつかの実施形態において、Ｒａは０．１４又は０．１３又は０．１２又は０．１１又は０．１０マイクロメートル未満である。Ｒａは、典型的には少なくとも０．０４又は０．０５マイクロメートルである。
【0071】
平均最大表面高さ（即ち、Ｒｚ）は、典型的には３マイクロメートル未満又は２．５マイクロメートル未満である。高い透明度を十分な曇り度と共に有する好ましい実施形態は、１．２０マイクロメートル以下のＲｚを呈する。いくつかの実施形態において、Ｒｚは、１．１０又は１．００又は０．９０又は０．８０マイクロメートル未満である。Ｒｚは、典型的には少なくとも０．４０又は０．５０マイクロメートルである。
【0072】
マットフィルムのマイクロ構造化層は、典型的には、重合性樹脂の反応生成物等の高分子材料を含む。重合性樹脂は、好ましくは表面改質ナノ粒子を含む。様々なフリーラジカル重合性モノマー、オリゴマー、ポリマー、及びこれらの混合物を高屈折率層の有機材料中に用いることができる。
【0073】
いくつかの実施形態において、マットフィルムのマイクロ構造化層は、高い屈折率、即ち少なくとも１．６０以上の屈折率を有する。いくつかの実施形態において、屈折率は、少なくとも１．６２又は少なくとも１．６３又は少なくとも１．６４又は少なくとも１．６５である。
【0074】
例えば、単独又は組み合せの形のジルコニア（「ＺｒＯ２」）、チタニア（「ＴｉＯ２」）、酸化アンチモン、アルミナ、酸化スズを含む様々な高屈折率粒子が知られている。混合金属酸化物が使用されてもよい。高屈折率層中で使用するためのジルコニアは、「Ｎａｌｃｏ ＯＯＳＳＯＯ８」の商標名でＮａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から、及び「Ｂｕｈｌｅｒ ｚｉｒｃｏｎｉａ Ｚ−ＷＯ ｓｏｌ」の商標名でＢｕｈｌｅｒ ＡＧ Ｕｚｗｉｌ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄから、入手可能である。ジルコニアナノ粒子はまた、米国特許第７，２４１，４３７号及び同第６，３７６，５９０号に記載されているように調製されてもよい。マット層の最大屈折率は、架橋有機材料中に分散された高屈折率無機（例えば、ジルコニア）ナノ粒子を有するコーティングについては、典型的には約１．７５以下である。
【0075】
別の実施形態では、マットフィルムのマイクロ構造化層は、１．６０未満の屈折率を有する。例えば、マイクロ構造化層は、約１．４０〜約１．６０の範囲の屈折率を有し得る。いくつかの実施形態において、マイクロ構造化層の屈折率は、少なくとも約１．４７、１．４８又は１．４９である。
【0076】
１．６０未満の屈折率を有するマイクロ構造化層は、典型的には、１つ以上のフリーラジカル重合性材料を含む重合性組成物の反応生成物と、典型的には低屈折率（例えば、１．５０未満）を有する、表面改質無機ナノ粒子と、を含む。
【0077】
従来のハードコート組成物中で使用するための様々なフリーラジカル重合性モノマー及びオリゴマーが記載されており、前記モノマー及びオリゴマーには、例えば（ａ）１，３−ブチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノアクリレートモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、アルコキシル化脂肪族ジアクリレート、アルコキシル化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、アルコキシル化ヘキサンジオールジアクリレート、アルコキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジアクリレート、カプロラクトン変性ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシル化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシル化（３）ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシル化（３０）ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシル化（４）ビスフェノールＡジアクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート等のジ（メタ）アクリル含有化合物；（ｂ）グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリアクリレート（例えば、エトキシル化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化（９）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化（２０）トリメチロールプロパントリアクリレート）、プロポキシル化トリアクリレート（例えば、プロポキシル化（３）グリセリルトリアクリレート、プロポキシル化（５．５）グリセリルトリアクリレート、プロポキシル化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシル化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート）、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート等のトリ（メタ）アクリル含有化合物；（ｃ）ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、エトキシル化（４）ペンタエリトリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート等の高官能性（メタ）アクリル含有化合物；（ｄ）例えば、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート類、エポキシアクリレート等のオリゴマー（メタ）アクリル化合物；前述したもののポリアクリルアミド類似体；及びそれらの組み合わせが挙げられる。このような化合物は、例えば、Ｅｘｔｏｎ，ＰｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａのＳａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ；Ｓｍｙｒｎａ，ＧｅｏｒｇｉａのＵＣＢ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ；及びＭｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷｉｓｃｏｎｓｉｎのＡｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ等の供給業者から広く入手可能である。追加の有用な（メタ）アクリレート材料には、例えば、米国特許第４，２６２，０７２号（Ｗｅｎｄｌｉｎｇら）に記載されているようなヒダントイン部分含有ポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。中屈折率組成物中に使用されるシリカは、Ｎａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｎａｐｅｒｖｉｌｌｅ，Ｉｌｌ．から、製品１０４０、１０４２、１０５０、１０６０、２３２７及び２３２９等、商標名「Ｎａｌｃｏ Ｃｏｌｌｏｄｉａｌ Ｓｉｌｉｃａｓ」で市販されている。好適なヒュームドシリカには、例えば、ＤｅＧｕｓｓａ（Ｈａｎａｕ，Ｇｅｒｍａｎｙ）から、商標名「ＡｅｒｏｓｉｌシリーズＯＸ−５０」並びに製品番号−１３０、−１５０及び−２００で市販されている製品が挙げられる。ヒュームドシリカはまた、Ｃａｂｏｔ Ｃｏｒｐ．，Ｔｕｓｃｏｌａ，Ｉｌｌ．から商標名「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ ２０９５」、「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ Ａ１０５」及び「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＩＬ Ｍ５」で市販されている。
【0078】
マイクロ構造化マット層中の（例えば、無機）ナノ粒子の濃度は、典型的には少なくとも２５重量％又は３０重量％である。中屈折率層は、典型的には５０重量％又は４０重量％以下の無機酸化物ナノ粒子を含む。高屈折率層中の無機ナノ粒子の濃度は、典型的には少なくとも４０重量％でありかつ約６０重量％又は７０重量％以下である。
【0079】
無機ナノ粒子は、好ましくは表面処理剤で処理される。シリカに対してはシランが好ましく、ケイ酸質充填剤に対しては他のものが好ましい。ジルコニアのような金属オキシドに対しては、シラン及びカルボン酸が好ましい。様々な表面処理が知られており、そのいくつかは、米国特許第２００７／０２８６９９４号に記載されている。
【0080】
１つの実施形態において、マイクロ複製層は、約１対１の比の、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を含む架橋モノマー（ＳＲ４４４）と表面改質シリカとを含有する組成物から調製される。別の実施形態では、マイクロ複製層は、シリカナノ粒子を含まない組成物から調製される。そのような組成物は、脂肪族ウレタンアクリレート（ＣＮ９８９３）及びヘキサンジオールアクリレート（ＳＲ２３８）を含有する。
【0081】
高屈折率（例えば、ジルコニア）ナノ粒子は、参照により本明細書に組み込まれる国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０６５３５２号に記載されているように、カルボン酸末端基及びＣ３〜Ｃ８エステル繰り返し単位又は少なくとも１つのＣ６〜Ｃ１６エステル単位を含む化合物を含有する表面処理剤で表面処理されてもよい。
【0082】
この化合物は、典型的には、次の一般式を有する。
【0083】
【化1】
ｎの平均は、１．１〜６であり、
Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基、アリールアルキル基、又はアリール基であり、所望により１つ以上の酸素原子又はエステル基によって置換され、
Ｌ２は、Ｃ３〜Ｃ８のアルキル基、アリールアルキル基、又はアリール基であり、所望により１つ以上の酸素原子によって置換され、
Ｙは、
【0084】
【化2】
Ｚは、Ｃ２〜Ｃ８のアルキル基、エーテル基、エステル基、アルコキシ基、（メタ）アクリレート基、又はこれらの組み合わせを含む、末端基である。
【0085】
いくつかの実施形態では、Ｌ２はＣ６〜Ｃ８のアルキル基を含み、ｎの平均は１．５〜２．５である。Ｚは、好ましくは、Ｃ２〜Ｃ８のアルキル基を含む。Ｚは、（メタ）アクリレート末端基を含むことが好ましい。
【0086】
カルボン酸末端基、及びＣ３〜Ｃ８のエステル繰り返し単位を含む表面改質剤は、ヒドロキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレート等のヒドロキシポリカプロラクトンを、脂肪族無水物又は芳香族無水物と反応させることから誘導することができる。このヒドロキシポリカプロラクトン化合物は、典型的には、分子の分布を有する重合混合物として入手可能である。分子の少なくとも一部分は、Ｃ３〜Ｃ８のエステル繰り返し単位を有し、即ち、ｎは少なくとも２である。しかしながら、この混合物はまた、ｎが１である分子も含むため、ヒドロキシポリカプロラクトン化合物混合物に関するｎの平均は、１．１、１．２、１．３、１．４、又は１．５となり得る。いくつかの実施形態では、ｎの平均は、２．０、２．１、２．２、２．３、２．４、又は２．５である。
【0087】
好適なヒドロキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレート化合物は、Ｃｏｇｎｉｓより商標名「Ｐｅｍｃｕｒｅ １２Ａ」で、及びＳａｒｔｏｍｅｒより商標名「ＳＲ４９５」（３４４ｇ／モルの分子量を有すると報告されている）で市販されている。
【0088】
好適な脂肪族無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水スベリン酸、及び無水グルタル酸が挙げられる。いくつかの実施形態では、脂肪族無水物は、無水コハク酸であることが好ましい。
【0089】
芳香族無水物は、比較的高い屈折率を有する（例えば、少なくとも１．５０の屈折率）。芳香族無水物から誘導されたもののような表面処理化合物を含有させることにより、重合性樹脂組成物全体の屈折率を上昇させることができる。好適な芳香族無水物としては、例えば、無水フタル酸が挙げられる。
【0090】
代替的に、又はそれに加えて、表面処理剤は、前述したような脂肪族又は芳香族無水物と、ヒドロキシル（例えば、Ｃ２〜Ｃ８）アルキル（メタ）アクリレートとの反応により調製された（メタ）アクリレート官能性化合物を含有してもよい。
【0091】
この種類の表面改質剤の例は、コハク酸モノ−（２−アクリロイルオキシ−エチル）エステル、マレイン酸モノ−（２−アクリロイルオキシ−エチル）エステル、及びグルタル酸モノ−（２−アクリロイルオキシ−エチル）エステル、マレイン酸モノ−（４−アクリロイルオキシ−ブチル）エステル、コハク酸モノ−（４−アクリロイルオキシ−ブチル）エステル、及びグルタル酸モノ−（４−アクリロイルオキシ−ブチル）エステルである。これらの化学種は、参考として本明細書に組み込まれる、国際公開第２００８／１２１４６５号に示されている。
【0092】
マイクロ構造化層の重合性組成物は、典型的には、少なくとも５重量％又は１０重量％の架橋剤（即ち、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を有するモノマー）を含有する。低屈折率組成物中の架橋剤の濃度は、一般に約３０重量％又は２５重量％又は２０重量％以下である。高屈折率組成物中の架橋剤の濃度は、一般に約１５重量％以下である。
【0093】
適切な架橋剤モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅｘｔｏｎ，Ｐａ．から商標名「ＳＲ３５１」で市販）、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅｘｔｏｎ，Ｐａ．から商標名「ＳＲ４５４」で市販）、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ４４４」で市販）、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ３９９」で市販）、エトキシル化ペンタエリトリトールテトラアクリレート、エトキシル化ペンタエリトリトールトリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ４９４」で市販）ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ３６８」で市販）が挙げられる。いくつかの態様では、ヒダントイン部分含有マルチ−（メタ）アクリレート化合物、例えば米国特許第４，２６２，０７２号（Ｗｅｎｄｌｉｎｇ ｅｔ ａｌ．）に記載されているものが、用いられている。
【0094】
高屈折率重合性組成物は、典型的には、２つの（メタ）アクリレート基を有する少なくとも１種の芳香族（メタ）アクリレートモノマー（即ち、ジ（メタ）アクリレートモノマー）を含有する。
【0095】
いくつかの実施形態において、ジ（メタ）アクリレートモノマーは、ビスフェノールＡから誘導される。１つの例示的なビスフェノールＡエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒより、商標名「ＳＲ６０２」（２０℃で６１０ｃｐｓの粘度と、２℃のガラス転移温度（Ｔｇ）とを有すると報告されている）で市販されている。別の例示的なビスフェノールＡエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒより、商標名「ＳＲ６０１」（２０℃で、１０８０ｃｐｓの粘度と、６０℃のＴｇを有すると報告されている）で市販されている。米国特許第７，２８２，２７２号に記載されているもの等、様々な他のビスフェノールＡモノマーが当技術分野にて記載されている。
【0096】
別の実施形態では、高屈折率層及びＡＲフィルムは、ビスフェノールＡから誘導されたモノマーを含まない。
【0097】
好適な１種の二官能性芳香族（メタ）アクリレートモノマーは、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第２００８／０２２１２９１号に記載されているビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーである。ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、以下の一般式を有し得る。
【0098】
【化3】
【0099】
式中、それぞれのＲ１は独立してＨ又はメチルであり、それぞれのＲ２は独立してＢｒであり、
ｍは０〜４の範囲であり、
それぞれのＱは独立してＯ又はＳであり、
ｎは０〜１０の範囲であり、
Ｌは１つ以上のヒドロキシル基により所望により置換されたＣ２〜Ｃ１２アルキル基であり、
ｚは芳香環であり、
ｔは独立して０又は１である。
【0100】
−Ｑ［Ｌ−Ｏ］ｎ Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ２基の少なくとも一方、好ましくは両方は、モノマーが２５℃で液体であるようにオルト又はメタ位にて置換されている。
【0101】
このようなビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、単独で、又は、参照により本明細書に組み込まれる国際公開第ＷＯ２００８／１１２４５２号に記載されているもの等のトリフェニルトリ（メタ）アクリレートモノマーと組み合わせて使用されてもよい。国際公開第ＷＯ２００８／１１２４５２号は、高屈折率層に好適な成分としても推定されるトリフェニルモノ（メタ）アクリレート及びジ（メタ）アクリレートも記載している。
【0102】
いくつかの実施形態において、二官能性芳香族（メタ）アクリレートモノマーは、４５０ｇ／モル未満の分子量を有し、かつ少なくとも１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、１．５５、１．５６、１．５７又は１．５８の屈折率を有する芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーと組み合わされる。そのような反応性希釈剤は、典型的には、フェニル、ビフェニル、又はナフチル基を含む。更に、このような反応性希釈剤は、ハロゲン化されてもよく、又は非ハロゲン化（例えば非臭素化）されてもよい。ビフェニルモノ（メタ）アクリレートモノマー等の反応性希釈剤を含有させることにより、有機成分の屈折率の上昇、及び粘度の低減による重合性組成物の加工性の改善が、同時に可能になる。
【0103】
芳香族モノ（メタ）アクリレート反応性希釈剤の濃度は、典型的には１重量％又は２重量％〜約１０重量％の範囲である。いくつかの実施形態において、高屈折率層は、９、８、７、６又は５重量％以下の反応性希釈剤を含む。過剰の反応性希釈剤が使用された場合、高屈折率層及び反射防止フィルムは、低下された鉛筆硬度を呈し得る。例えば、単官能性の反応性希釈剤の合計が約７重量％以下の場合、鉛筆硬度は典型的には約３Ｈ〜４Ｈである。しかしながら、単官能性希釈剤の合計が７重量％を越える場合、鉛筆硬度は２Ｈ以下に低下し得る。
【0104】
好適な反応性希釈剤としては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、２−ナフチルチオエチルアクリレート、１−ナフチルチオエチルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチルアクリレート、２−ブロモフェノキシエチルアクリレート、１−ナフチルオキシエチルアクリレート、２−ナフチルオキシエチルアクリレート、フェノキシ−２−メチルエチルアクリレート、フェノキシエトキシエチルアクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２，４−ジブロモ−６−ｓｅｃ−ブチルフェニルアクリレート、２，４−ジブロモ−６−イソプロピルフェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェニルアクリレートが挙げられる。ペンタブロモベンジルアクリレート及びペンタブロモフェニルアクリレート等の、他の高屈折率モノマーもまた用いることができる。
【0105】
１つの好適な希釈剤は、フェノキシエチルアクリレート（ＰＥＡ）である。フェノキシエチルアクリレートは２つ以上の供給元から市販され、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ３３９」で、Ｅｔｅｒｎａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．Ｌｔｄ．から商標名「Ｅｔｅｒｍｅｒ ２１０」で、及びＴｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄから商標名「ＴＯ−１１６６」で市販されているものを含む。ベンジルアクリレートは、Ａｌｆａ Ａｅｓｅｒ Ｃｏｒｐ（Ｗａｒｄ Ｈｉｌｌ，ＭＡ）から市販されている。
【0106】
光学ディスプレイ又はフィルム上のマットコーティングの形成方法は、光透過可能な基材層を提供する工程と、この基材層上にマイクロ構造化層を提供する工程と、を含み得る。
【0107】
マイクロ構造化層は、例えば、Ｈバルブ又は他のランプを用いて、所望の波長で、好ましくは不活性雰囲気（酸素５０ｐｐｍ未満）内で紫外線に曝露することによって硬化させ得る。この反応メカニズムを通じて、フリーラジカル重合性物質を架橋させる。硬化したマイクロ構造化層を炉内で乾燥して、光開始剤の副生成物、又は、存在する場合、微量の溶媒を除去し得る。代替的に、より大量の溶媒を含有する重合性組成物をウェブ上に揚送し、乾燥した後、マイクロ複製及び硬化させてもよい。
【0108】
通常、基材は連続ウェブのロールの形状であるのが好都合だが、個々のシートにコーティングを塗布してよい。
【0109】
この基材は、基材と隣接層との間の接着を改善するために、例えば、空気又は窒素コロナ、プラズマ、火炎、又は化学線のような化学処理、コロナ処理により処理できる。所望であれば、中間層接着を増大させるため、任意の結合層又はプライマーを基材及び／又はハードコート層に適用することができる。代替的に、又はそれに加えて、プライマーを適用して干渉縞を低減し、又は静電気防止特性を提供してもよい。
【0110】
様々な恒久的な及び除去可能なグレード接着剤組成物が、フィルム基材の反対側に提供されてよい。感圧接着剤を使用する実施形態については、反射防止フィルム物品は典型的には除去可能な剥離ライナーを含む。ディスプレイ表面に適用する間に、反射防止フィルム物品がこのディスプレイ表面に接着することができるように剥離ライナーを取り外す。
【実施例】
【0111】
マイクロ構造化表面の特徴付け以下の方法を用いて、原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）、共焦点レーザー走査顕微鏡法（ＣＳＬＭ）又は位相シフト干渉法（ＰＳＩ）により得た、山領域と、高さプロファイルにおける関心対象とを、約２００マイクロメートル×２５０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル×６００マイクロメートルの面積に亘る範囲の面積上で、１０倍の対物レンズを有するＷｙｋｏ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｐｒｏｆｉｌｅｒを使用することにより同定及び特徴付けた。この方法は、曲率上の閾値化と反復アルゴリズムとを使用して、選択を最適化する。単純な高さ閾値の代わりに曲率を使用することにより、谷内に存在する、関連した山を見つけ出すことが補助される。単一の連続したネットワークの選択を回避することが補助される場合がある。
【0112】
高さプロファイルの解析に先だって、メディアンフィルターを使用してノイズを低減する。次いで、高さプロファイルの各地点に関して、最急傾斜の方向に平行な曲率（傾斜ベクトルに沿って）を計算した。この方向に直交する曲率も計算した。曲率は３つの地点を用いて計算し、以下のセクションに記載する。これら２方向の少なくとも一方にて正の曲率を有する範囲を同定することにより、山領域を同定する。他方の方向における曲率は、過度に負であってはならない。これを達成するために、これら２つの曲率上に閾値化を用いることにより二値画像を形成した。二値画像にいくつかの標準的な画像処理関数を適用して、二値画像を浄化した。加えて、浅すぎる山領域を除去した。
【0113】
メディアンフィルターのサイズと、曲率計算に使用した地点間の距離は重要である。それらが小さすぎる場合、主な山は、山上の不完全性を原因として、より小さい領域に分割され得る。それらが大きすぎる場合、関連した山を同定し得ない。これらのサイズは、山領域のサイズ又は山間の谷領域の幅のいずれか小さい方に対応するよう設定された。しかしながら、領域サイズは、メディアンフィルターのサイズと、曲率計算用の地点間の距離とに依存する。したがって、良好な山同定をもたらす、いくつかの設定条件を満足する間隔を同定するのに反復プロセスを使用した。
【0114】
傾斜及び曲率の解析表面プロファイルデータは、表面の高さをｘ及びｙ位置の関数として与える。本発明者らは、このデータを関数Ｈ（ｘ，ｙ）として表す。画像のｘ方向は、画像の水平方向である。画像のｙ方向は、画像の垂直方向である。
【0115】
ＭＡＴＬＡＢを使用して、以下を計算した。
【0116】
１．傾斜ベクトル
【0117】
【数2】
【0118】
２．傾斜（度による）分布−ＮＧ（θ）
【0119】
【数3】
【0120】
３．ＦＣＣ（θ）−傾斜分布の補集合的累積分布
【0121】
【数4】
【0122】
ＦＣＣ（θ）は累積傾斜分布の補集合であり、θ以上の傾斜の割合を与える。
【0123】
４．ｇ−曲率、傾斜ベクトルの方向における曲率（逆マイクロメートル）５．ｔ−曲率、傾斜ベクトルを横断する方向における曲率（増加マイクロメートル）
曲率
図１２に示すように、傾斜計算に使用した２地点と中心地点とを使用して、１地点の曲率を計算した。この解析において、曲率は、これら３地点で形成された三角形が内接する円の半径で１を除算したものとして定義される。
【0124】
曲率＝±１／Ｒ＝±２＊ｓｉｎ（θ）／ｄ式中、θは、三角形の、斜辺の反対側の角度であり、ｄは斜辺の長さである。曲率は、湾曲が上方に凹の場合、負であり、下方に凹の場合、正であると定義される。
【0125】
曲率は、傾斜ベクトル方向に沿って（即ち、ｇ−曲率）及び傾斜ベクトルに横断する方向に沿って（即ち、ｔ−曲率）測定される。補間を用いて２つの終点を得る。
【0126】
山の区分曲率プロファイルを使用して、サンプル表面上の山に関するサイズ統計を得る。曲率プロファイルの閾値化を二値画像の生成に用いて、この二値画像は山の同定に使用される。ＭＡＴＬＡＢを使用して、各画素に以下の閾値化を適用して、山の同定のための二値画像を生成した。
【0127】
ｍａｘ（ｇ−曲率、ｔ−曲率）＞ｃ０ｍａｘｍｉｎ（ｇ−曲率、ｔ−曲率）＞ｃ０ｍｉｎ
式中、ｃ０ｍａｘ及びｃ０ｍｉｎは、曲率のカットオフ値である。典型的には、ｃ０ｍａｘ及びｃ０ｍｉｎは、以下のように指定される。
【0128】
【数5】
【0129】
ｑ０は、有意である最小の傾斜（度による）の推定値でなければならない。Ｎ０は、視野の最長寸法全域に亘って有することが望ましい、山領域の最小値の推定値でなければならない。ｆｏｖは、視野の最長寸法の長さである。
【0130】
画像処理ツールボックスを有するＭＡＴＬＡＢを使用して、高さプロファイルを解析し、山統計を生成した。以下の連続は、山領域の特徴付けに使用したＭＡＴＬＡＢコードの工程の概略を提供する。
【0131】
１．画素数が＞＝１００１＊１００１の場合、画素数を減少させる−ｎｓｋｉｐ＝ｆｉｘ（ｎａ＊ｎｂ／１００１／１００１）＋１を計算する
■ 元の画像は、サイズｎａ×ｎｂ画素を有する
−ｎｓｋｉｐ＞１の場合、（２＊ｆｉｘ（ｎｓｋｉｐ／２）＋１）×（２＊ｆｉｘ（ｎｓｋｉｐ／２）＋１）メディアン平均を実行する
■ ｆｉｘは、端数を切り捨てて一番近似の整数とする関数である。
【0132】
−全部のｎｓｋｉｐ画素を各方向に保つ新しい画像を形成する（例えば、ｎｓｋｉｐ＝３の場合、行及び列１、４、８、１１．．．を保つ）２．ｒ＝ｒｏｕｎｄ（Δｘ／ｐｉｘ）
−Δｘは、傾斜計算で使用するステップサイズである。
【0133】
−ｐｉｘは画素サイズである。
【0134】
−ｒは、画素の最近整数に四捨五入されたΔｘである。
【0135】
−Δｘの初期値は、ｆｆｏｖ＊ｆｏｖに等しいように選択される。
【0136】
■ ｆｆｏｖは、プログラムを実行する前にユーザによって選択されるパラメータである。
【0137】
３．ｒｏｕｎｄ（ｆＭＸ＊ｒ）×ｒｏｕｎｄ（ｆＭＹ＊ｒ）画素のウィンドウサイズを用いて、メディアン平均を実行する。
【0138】
−領域が配向されている場合、メディアン平均は、以下に定義する一般的な領域のアスペクト比（Ｗ／Ｌ）に近いアスペクト比を有するウィンドウにより行われる。ウィンドウのアスペクト比は、既定値ｒｍ＿ａｓｐｅｃｔ＿ｍｉｎを下回ってはならない。
【0139】
■ 領域が配向されている場合、高さプロファイリングは、この配向がｘ軸又はｙ軸に沿うよう整合されたサンプルを用いて行う必要があることに留意する。
【0140】
−この解析において、領域は、■ 領域の平均配向角度（領域面積で重み付けされた）が１５度未満、又は７５度を越える場合、配向されていると考慮される。
【0141】
１．配向角度は、領域に関連した楕円の長軸がｙ軸と形成する角度として定義される。
【0142】
■ この配向角度の標準偏差は、２５度未満である。
【0143】
■ カバレッジは１０％を越える。
【0144】
−これが第１のｒｏｕｎｄであるか又は領域が配向されていない場合、■ ｆＭＸ及びｆＭＹをｆＭに等しくセットし、
−配向がｙ軸に沿っている場合、
■ ｆＭＸ＝ｒｏｕｎｄ（ｆＭ＊ｒ＊ｓｑｒｔ（ａｓｐｅｃｔ））；
■ ｆＭＹ＝ｒｏｕｎｄ（ｆＭ＊ｒ／ｓｑｒｔ（ａｓｐｅｃｔ））；
−配向がｘ軸に沿っている場合、
■ ｆＭＸ＝ｒｏｕｎｄ（ｆＭ＊ｒ／ｓｑｒｔ（ａｓｐｅｃｔ））；
■ ｆＭＹ＝ｒｏｕｎｄ（ｆＭ＊ｒ＊ｓｑｒｔ（ａｓｐｅｃｔ））；
−ａｓｐｅｃｔ＝領域面積により重み付けされた平均アスペクト比
■ これがｒｍ＿ａｓｐｅｃｔ＿ｍｉｎ未満の場合、ｒｍ＿ａｓｐｅｃｔ＿ｍｉｎに等しくセットする。
【0145】
−ｆＭは、プログラムを実行する前に選択される固定パラメータである。
【0146】
４．傾きを除去する。
【0147】
−プロファイル全域にて、全方向における平均傾斜を効果的にゼロに等しくする。
【0148】
５．前述したように傾斜プロファイルを計算する。
【0149】
６．傾斜ベクトルに平行な方向（ｇ−曲率）及び傾斜ベクトルを横断する方向（ｔ−曲率）における曲率プロファイルを計算する。
【0150】
７．上述した曲率閾値化を用いて、二値画像を形成する。
【0151】
８．二値画像を収縮処理する。
【0152】
−画像が収縮処理された回数をｒｏｕｎｄ（ｒ＊ｆＥ）に等しくセットする。
【0153】
−ｆＥは、プログラムの開始前に選択される固定パラメータ（典型的には≦１）である。
【0154】
−これは細線によって接続されている個別領域を分離し、小さすぎる領域を排除することを補助する。
【0155】
９．画像を膨張処理する。
【0156】
−画像が膨張処理される回数は、典型的には、画像が収縮処理される回数と同一であるよう選択される。
【0157】
１０．画像を更に膨張処理する。
【0158】
−このｒｏｕｎｄでは、画像は収縮処理される前に膨張処理される。
【0159】
−行き止まり（cul-de-sacs）の除去、エッジの丸め、及び互いに非常に近接した領域の組み合わせを補助する。
【0160】
１１．画像を収縮処理する。
【0161】
−画像が収縮処理される回数は、典型的には、直前の工程で画像が膨張処理された回数と同一であるよう選択される。
【0162】
１２．画像のエッジに近すぎる領域を排除する。
【0163】
−一般的には、領域の任意の部分がエッジの（ｎｅｒｏｄｅ＋２）以内である場合、近すぎると判断され、ｎｅｒｏｄｅは、工程９にて画像が収縮処理された回数である。
【0164】
−これは、視野内に部分的にのみ存在する領域を排除する。
【0165】
１３．各領域内の任意の穴を満たす。
【0166】
１４．ＥＣＤ（等価円直径）＜２ｓｉｎ（ｑ０）Ｎ０／ｆｏｖを有する領域を排除する。
【0167】
−ｑ０及びＮ０は、曲率カットオフ計算に使用されるパラメータである。
【0168】
−これは、半径Ｒの半球と比較して小さい領域を排除する。
【0169】
−これらの領域は、領域内にｑ０未満の傾斜のバリエーションを有する可能性がある。
【0170】
−これに代わって考慮される他のフィルターは、カットオフ値未満の標準偏差を傾斜内に有する領域を排除することである。
【0171】
１５．次いで、ｒに関する新しい値を計算する。
【0172】
■ 同定された山の数がゼロと等しい場合、ｒを２減らし、端数を切り上げる。
【0173】
■ 工程４に進む−新しいｒ＝ｒｏｕｎｄ（ｆＷ＊Ｌ０）
■ ｆＷは、プログラムの開始前に選択される固定パラメータ（典型的には≦１）である。
【0174】
■ Ｌ０は、表Ａ１に定義されている長さである。
【0175】
−新しいｒがｒＭＩＮ未満の場合、ｒＭＩＮと等しくセットする。−新しいｒがｒＭＡＸを越える場合、ｒＭＡＸと等しくセットする。
−ｒが不変又は繰り返される場合、これが選択されるＲの値である。工程１７に進む。
【0176】
−カバレッジが因数Ｋｃ若しくはそれ以上低下した場合、又は領域の数が因数Ｋｎ若しくはそれ以上増加した場合、ｒの以前の値が選択される。工程１７に進む。
【0177】
−ｒの値が選択されない場合、工程４に進む。
【0178】
１６．選択されたｒに関して、同定された各領域に関して以下の寸法を計算する。
【0179】
−ＥＣＤ、Ｌ、Ｗ及びアスペクト比。
【0180】
１７．各寸法に関して平均及び標準偏差を計算する。
【0181】
１８．カバレッジ及びＮＮ（表Ａ２）を計算する。
【0182】
【表5】
【0183】
【表6】
【0184】
寸法は、２つの高さプロファイルを平均した。
【0185】
典型的なパラメータ設定は、以下の通りであった。
【0186】
【表7】
【0187】
これらのパラメータ設定は、主構造（副構造ではなく）が同定されることを確実にするよう調整され得る。
【0188】
高さ度数分布高さデータから最小の高さ値を減算したため、最小高さはゼロである。高さ度数分布は、ヒストグラムを形成することにより生成される。この分布の平均は、平均高さと称される。
【0189】
粗さの評価基準Ｒａ−測定されたアレイ全体に亘って計算された平均粗さ。
【0190】
【数6】
【0191】
式中、Ｚｊｋ＝ゼロ平均の除去後の各画素の高さ。
【0192】
Ｒｚは、評価範囲内の１０個の最大の山〜谷分離の平均最大表面高さである。
【0193】
【数7】
【0194】
式中、Ｈは山高さであり、Ｌは谷高さであり、Ｈ及びＬは、共通の基準面を有する。
【0195】
補集合的累積傾斜分布に関して報告されたそれぞれの値、山寸法、及び粗さは、２つの範囲の平均に基づいていた。典型的な１７”（４３．２ｃｍ）コンピュータディスプレイのような大きいフィルムの場合、典型的には、無作為に選択された５〜１０個の範囲の平均を使用した。
【0196】
高屈折率ハードコート組成物ビフェニルジアクリレート−２，２’−ジエトキシビフェニルジアクリレート（ＤＥＢＰＤＡ）の合成−温度プローブ、窒素パージ管、撹拌機及び加熱マントルを装備した１２０００ｍｌの４首樹脂頭部丸底フラスコに、２，２’−ビフェノール（１４１５ｇ、７．６モル、１．０当量）、フッ化カリウム（１１．８ｇ、０．２モル、０．０２７当量）、炭酸エチレン（１４１５ｇ、１６．１モル、２．１１当量）を加え、１５５℃に加熱した。４．５時間後、ＧＣ分析は、０％の出発物質、０％のモノエトキシル化及び９４％の生成物を示した。８０℃に冷却し、トルエン５．４リットルを加え、脱イオン水２．５リットルを加え、１５分間混合し、相分離させた。水を除去し、再び脱イオン水２．５リットルで洗浄し、相分離させ、水を除去し、溶液を蒸留して、残留水及びトルエンほぼ１．８リットルを除去した。溶液を５０℃に冷却し、シクロヘキサン１．８リットルを加え、ＣＩＢＡ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから商標名Ｐｒｏｓｔａｂ ５１９８で得た、通常４−ヒドロキシＴＥＭＰＯと称される４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシ（０．５２ｇ、０．００３モル、０．０００４４当量）、フェノチアジン（０．５２ｇ、０．００２６モル、０．０００３８当量）、アクリル酸（１０８９．４ｇ、１５．１２モル、２．２当量）、メタンスルホン酸（３６．３ｇ、０．３８モル、０．０５５当量）を加え、加熱還流した（ポット温度は、９２〜９５Ｃであった）。フラスコにディーン・スターク・トラップを装備して、水を収集した。１８時間後、ＧＣ分析は８％のモノアクリレート中間体を示した。追加のアクリル酸８ｇを加え、更に６時間、合計で２４時間還流を継続した。２４時間後、ＧＣ分析は３％のモノアクリレート中間体を示した。反応物を５０℃に冷却し、７％の炭酸ナトリウム２３５６ｍｌで処理し、３０分間撹拌し、相分離させ、水性物を除去し、ＤＩ水２３５６ｍｌで再び洗浄し、相分離させ、水性物を除去した。（桃色〜赤色）トルエン／シクロヘキサン溶液に４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ（０．５２ｇ、０．００３モル、０．０００４４当量）、フェノチアジン（０．５２ｇ、０．００２６モル、０．０００３８当量）、アルミニウムｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン（０．５２ｇ、０．００１２モル、０．０００１７当量）を加え、真空濃縮して、溶液をほぼ５０００ｍｌとした。セライトパッドで濾過し、濾液をエアパージにより５０℃にて１２ｔｏｒｒ（１．６０ｋＰａ）真空で３時間真空濃縮した。得られた黄色〜茶色油をロールフィルム蒸発器上で蒸留することにより更に精製する。蒸留の条件は、１５５℃でバレルを加熱、５０℃のコンデンサ、及び１〜５ｍｔｏｒｒ（０．１３〜０．６７ｋＰａ）であった。回収した収量は２４６７ｇ（理論値の８５％）であり、純度はほぼ９０％ ＤＥＢＰＤＡであった。
【0197】
トリフェニルトリアクリレート１，１，１−トリス（４−アクリロイルオキシエトキシフェニル）エタン（ＴＡＥＰＥ）の合成温度プローブ、撹拌機及び加熱マントルを装備した１０００ｍｌの３首丸底フラスコに１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（２００ｇ、０．６５モル、１．０当量）、フッ化カリウム（０．５ｇ、０．００８６モル、０．０１３当量）、炭酸エチレン（１７５ｇ、２．０モル、３．０５当量）を加え、１６５℃に加熱した。５時間後、ＧＣ分析は、０％の出発物質、０％のモノエトキシル化、２％のジエトキシル化、及び９５％の生成物を示した。１００℃に冷却し、トルエン７５０ｍｌを加え、３０００ｍｌの３首丸底フラスコに移動し、更にトルエン７５０ｍｌを加えた。溶液を５０℃に冷却し、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ（０．２ｇ、０．００１１６モル、０．００１７８当量）、アクリル酸（１５５ｇ、２．１５モル、３．３当量）、メタンスルホン酸（１０．２ｇ、０．１モル、０．１６２当量）を加え、加熱還流した。フラスコにディーン・スターク・トラップを装備して、水を収集した。６時間後、ＧＣ分析は、７％のジアクリレート中間体と、８５％の生成物とを示した。反応物を５０℃に冷却し、７％の炭酸ナトリウム４００ｍｌで処理し、３０分間撹拌し、相分離させ、水性物を除去し、２０％の塩化ナトリウム水４００ｍｌで再び洗浄し、相分離させ、水性物を除去した。有機物をメタノール４０００ｍｌで希釈し、３インチ（７．６ｃｍ）×５インチ（１２．７ｃｍ）直径のシリカゲルパッド（２５０〜４００メッシュ）で濾過し、濾液をエアパージにより５０℃にて１２ｔｏｒｒ（１．６０ｋＰａ）真空で３時間真空濃縮した。茶色油３３２ｇ（理論値の８５％）を回収し、純度はほぼ８５％ ＴＡＥＰＥであった。
【0198】
ジルコニアゾルの調製実施例で使用したＺｒＯ２ゾルは、以下の特性を有していた（米国特許第７，２４１，４３７号に記載の方法に従って測定）。
【0199】
【表8】
【0200】
％ Ｃ／Ｔ＝一次粒径ＨＥＡＳ／ＤＣＬＡ表面改質剤の調製
三首丸底フラスコに、温度プローブ、機械的撹拌器及びコンデンサを装備する。このフラスコに、以下の試薬を投入する：無水コハク酸８３．５ｇ、Ｐｒｏｓｔａｂ ５１９８阻害剤０．０４ｇ、トリエチルアミン０．５ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリレート８７．２ｇ、及びＳａｒｔｏｍｅｒによる、商標名「ＳＲ４９５」のヒドロキシ−ポリカプロラクトンアクリレート（ｎの平均は約２）２８．７ｇ。このフラスコを中程度の振盪により混合し、８０℃に加熱し、約６時間保持する。４０℃に冷却した後、１−メトキシ−２−プロパノール２００ｇを加え、このフラスコを１時間混合した。反応混合物は、赤外線及びガスクロマトグラフィー分析にしたがって、無水コハク酸と２−ヒドロキシエチルアクリレート（即ち、ＨＥＡＳ）との反応生成物と、無水コハク酸とヒドロキシ−ポリカプロラクトンアクリレート（即ち、ＤＣＬＡ）との反応生成物との８１．５／１８．５混合物であると決定された。
【0201】
ＨＥＡＳ表面改質剤−は、無水コハク酸と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応により生成された。
【0202】
ＨＩＨＣ １の調製ジルコニアゾル（１０００ｇ ＠ ４５．３％固体）及び１−メトキシ−２−プロパノール４７６．４ｇを、５Ｌの丸底フラスコに投入した。フラスコを真空蒸留用に構成し、撹拌機、温度プローブ、ｔｈｅｒｍ−ｏ−ｗａｔｃｈコントローラに取り付けた加熱マントルを装備した。ジルコニアゾル及びメトキシプロパノールを５０℃に加熱した。ＨＥＡＳ／ＤＣＬＡ表面改質剤（２３３．５ｇ ＠ １−メトキシ−２−プロパノール中５０％固体、重量比８１．５／１８．５のＨＥＡＳ／ＤＣＬＡ）、ＤＥＢＰＤＡ（１２０．５ｇ）、日本のＴｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄ．から市販されている２−フェニル−フェニルアクリレート（ＨＢＰＡ）（５０．２ｇ ＠酢酸エチル中４６％固体）、商標名「ＳＲ ３５１ ＬＶ」（８５．３ｇ）及び「ＰｒｏＳｔａｂ ５１９８」（０．１７ｇ）でＳａｒｔｏｍｅｒから入手可能な低粘度トリメチロールプロパントリアクリレートを、混合しながら個別にフラスコに投入した。Ｔｈｅｒｍ−ｏ−ｗａｔｃｈを８０℃及び８０％出力にセットした。バッチ温度が８０℃に到達する迄、水及び溶媒を真空蒸留により除去した。このプロセスを６回繰り返した後、真空蒸留用に構成し、かつ加熱マントル、温度プローブ／熱電対、温度コントローラ、撹拌機、及び水蒸気を液体組成物中に組み込むための鋼管を装備した１２Ｌの丸底フラスコ内で６個のバッチ全部を組み合わせた。液体組成物を８０℃に加熱し、この時点で８００ｍｌ／時間の水蒸気流を真空下で液体組成物中に導入した。蒸気流を用いた真空蒸留を６時間継続し、その後、蒸気流を停止した。バッチを８０℃で更に６０分間真空蒸留した。次いで、エアパージを用いて真空を中断した。光開始剤（１７．７ｇの「Ｄａｒｏｃｕｒｅ ４２６５」、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキシドと２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン）との５０：５０混合物を投入し、３０分間混合した。得られた生成物は、１．６２８８の屈折率を有する、アクリレートモノマー中のほぼ６８％の表面改質ジルコニア酸化物であった。
【0203】
ＨＩＨＣ ２の調製ジルコニアゾル（５０００ｇ ＠ ４５．３％固体）及び１−メトキシ−２−プロパノール２４３３ｇを１２Ｌの丸底フラスコに投入した。フラスコを真空蒸留用に構成し、加熱マントル、温度プローブ／熱電対、温度コントローラ、撹拌機、及び水蒸気を液体組成物中に組み込むための鋼管を装備した。ジルコニアゾル及びメトキシプロパノールを５０℃に加熱した。ＨＥＡＳ表面改質剤（１０５６ｇ ＠ １−メトキシ−２−プロパノール中５０％固体、ＤＥＢＰＤＡ（４５４．５ｇ）、ＨＢＰＡ（１９７ｇ ＠酢酸エチル中４６％固体）、ＳＲ ３５１ ＬＶ（３１７．１ｇ）及びＰｒｏＳｔａｂ ５１９８（０．６９ｇ）を混合しながら個別にフラスコに投入した。温度コントローラを８０℃にセットした。バッチ温度が８０℃に到達する迄、水及び溶媒を真空蒸留により除去し、この時点で８００ｍｌ／時間の水蒸気流を真空下で液体組成物中に導入した。蒸気流を用いた真空蒸留を６時間継続し、その後、蒸気流を停止し、バッチを８０℃で更に６０分間真空蒸留した。次いで、エアパージを用いて真空を中断した。光開始剤（Ｄａｒｏｃｕｒｅ ４２６５ ８７．３ｇ）を投入し、３０分間混合した。得られた生成物は、以下の性質を有する、アクリレートモノマー中のほぼ７３％の表面改質ジルコニア酸化物であった。
【0204】
高屈折率ハードコートコーティング組成物３〜９は、ＨＩＨＣ １及びＨＩＨＣ ２と同一の方法で調製した。高屈折率ハードコートのそれぞれの成分の（重量％固体）は、以下の通りであった。
【0205】
【表9】
【0206】
＊ ７３重量％の表面改質ＺｒＯ２は、約５８重量％のＺｒＯ２及び１５重量％の表面改質剤を含む。
【0207】
＊＊ ６０ｍｍの２ｄｅｇコーンを有するＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ ＡＲ２０００上で測定、２℃／分での８０℃〜４５℃の温度勾配、せん断速度１／ｓ。粘度単位は、パスカル秒である。
【0208】
【表10】
【0209】
ＳＲ６０１−ビスフェノール−Ａエトキシル化ジアクリレートモノマーの商標名は、Ｓａｒｔｏｍｅｒから市販されている通りである（２０℃で１０８０ｃｐｓの粘度、及び６０℃のＴｇを有すると報告されている）。
【0210】
Ｄａｒｏｃｕｒｅ １１７３−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン光開始剤、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから市販されている。
【0211】
ＳＲ３９９−Ｓａｒｔｏｍｅｒから市販されているジペンタエリトリトールペンタアクリレートの商標名。
【0212】
マイクロ構造化高屈折率ハードコートの調製。
【0213】
実施例Ｈ１、Ｈ２Ａ、Ｈ３、Ｈ２Ｂ、Ｈ２Ｃ−１６０°Ｆ（７１℃）でホットプレート上に配置することにより予熱された矩形のマイクロ複製工具（幅４インチ（１０．２ｃｍ）、長さ２４インチ（６１．０ｃｍ））を使用して、ハンドスプレッド（Handspread）コーティングを作製した。Ｎｏｒｔｈｂｒｏｏｋ，ＩＬ，ＵＳＡのＧｅｎｅｒａｌ Ｂｉｎｄｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ＧＢＣ）製の「Ｃａｔｅｎａ ３５」モデルラミネータを１６０°Ｆ（７１℃）に予熱した（速度５、積層圧「ヘビーゲージ（heavy gauge）」にセット）。高屈折率ハードコートを６０℃の炉内で予熱し、Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ ＵＶプロセッサのスイッチを入れ、ウォームアップした（６０ｆｐｍ（１８．３メートル／分）、１００％出力、６００ワット／インチ（２３６ワット／ｃｍ）Ｄバルブ、二色性反射体）。ポリエステルフィルムのサンプルを、工具の長さに切った（〜２フィード（６１．０ｃｍ））。高屈折率ハードコートを、プラスチックの使い捨てピペットを用いて工具の末端部に適用し、４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｏ３２１Ｅ１００Ｗ７６）の下塗りポリエステルをビーズ及び工具上に配置し、ポリエステルを有する工具をラミネータに通して、工具の陥没部が高屈折率ハードコート組成物で満たされるようにコーティングをざっと工具上に拡げた。サンプルをＵＶプロセッサベルト上に配置し、ＵＶ重合により硬化させた。得られた硬化コーティングは、ほぼ３〜６マイクロメートルの厚さを有した。
【0214】
【表11】
【0215】
ウェブコーターを使用して、４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）ＰＥＴ基材上に他の高屈折率ハードコートコーティング（幅１８インチ（４５．７ｃｍ））を適用した。Ｈ１０Ａ及びＨ１０Ｂを除く他の高屈折率ハードコートコーティングを、Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉから商標名「４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）ポリエステルフィルム０３２１ Ｅ１００Ｗ７６」で入手可能な下塗りＰＥＴに、工具温度１７０°Ｆ（７７℃）、ダイ温度１６０°Ｆ（７１℃）、及び高屈折率ハードコートコーティング温度１６０°Ｆ（７１℃）で適用した。高屈折率ハードコートコーティングＨ１０Ａ及びＨ１０Ｂは、０．７５ＭＪ／ｃｍ２にコロナ処理された、３Ｍから商標名「ＳｃｏｔｃｈＰａｒ」で入手可能な非下塗り４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）ポリエステルフィルムに、工具温度１８０°Ｆ（８２℃）、Ｈ１０Ａの場合ダイ温度１７０°Ｆ（７７℃）、Ｈ１０Ｂの場合１８０°Ｆ（８２℃）、及び高屈折率ハードコートコーティング温度１８０°Ｆ（８２℃）で適用した。コーティングに先だって、基材はまた、ほぼ１５０〜１８０°Ｆ（６６〜８２℃）にセットされたＩＲヒーターで加熱された。高屈折率ハードコートコーティングは、工具と、ニップされたフィルムとの間に樹脂の回転バンクを生成することにより流し塗布された。コーティングを、Ｄバルブ及び二色性反射体により５０〜１００％出力でＵＶ硬化させた。得られた硬化コーティングは、ほぼ３〜６マイクロメートルの厚さを有した。更なるプロセス条件は、以下の表に含まれる。
【0216】
【表12】
【0217】
＊ 概算の厚さマイクロ構造化高屈折率ハードコートサンプルの透明度、曇り度、及び補集合的累積傾斜分布を、以前に表１に記載したように特徴付けた。マイクロ構造化表面の山の寸法も、以前に表２に記載したように特徴付けた。
【0218】
中屈折率ハードコートからのマットフィルムの製作材料：
ＰＣＴ／ＵＳ２００７／０６８１９７号に記載されているような、Ａ１７４で表面改質されたＳｉＯ２
ＳＲ４４４ Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．製の多官能性アクリレート
ＳＲ９８９３ Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から入手可能なアクリレート官能性ウレタンオリゴマー
ＳＲ２３８ Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．製のヘキサンジオールアクリレート
Ｄａｒｏｃｕｒｅ ４２６５ Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から入手可能な光開始剤ブレンド
配合物１：１−メトキシ−２−プロパノール中のＡ１７４表面改質ＳｉＯ２を、ＳＲ４４４及びＤａｒｏｃｕｒ ４２６５と混合して、下記の表の組成物を提供した。均質になった際、溶媒を６８℃で回転蒸発により除去し（水流アスピレーター）、その後、真空ポンプを用いて６８℃で２０分間乾燥した。
【0219】
配合物２：ＳＲ９８９３を７０℃に加熱した後、ＳＲ２３８及びＤａｒｏｃｕｒｅ ４２６５とブレンドし、一晩機械的に混合した。
【0220】
中屈折率ハードコート配合物中に使用したそれぞれの成分の濃度（重量％固体）を、以下のように記載する。
【0221】
【表13】
【0222】
マイクロ構造化高屈折率ハードコートと同一の方法で、２つの異なる基材上にハンドスプレッドコーティングを調製した。
【0223】
基材１−Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ製の４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）ＰＥＴ Ｏ３２１Ｅ１００Ｗ７６基材２−３Ｍ製の４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）ＰＥＴ、商標名「ＳｃｏｔｃｈＰａｒ」
【0224】
【表14】
【0225】
本願発明の実施態様を、本願発明を限定する意図なく、以下に記載する。［項１］
複数のマイクロ構造を含むマイクロ構造化表面層を有するマットフィルムであって、前記マイクロ構造が、少なくとも３０％が、少なくとも０．７度の傾斜規模を有し、少なくとも２５％が、１．３度未満の傾斜規模を有するように、補完的累積傾斜規模分布を有し、前記マイクロ構造の５０％以下が、埋め込まれたマット粒子を含む、マットフィルム。
［項２］
前記マイクロ構造の少なくとも３０％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、項１に記載のマットフィルム。
［項３］
前記マイクロ構造の少なくとも３５％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、項１に記載のマットフィルム。
［項４］
前記マイクロ構造の少なくとも４０％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、項１に記載のマットフィルム。
［項５］
前記マイクロ構造の１５％未満が、４．１度以上の傾斜規模を有する、項１〜４のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項６］
前記マイクロ構造の５％未満が、４．１度以上の傾斜規模を有する、項１〜４のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項７］
前記マイクロ構造の少なくとも７５％が、少なくとも０．３度の傾斜規模を有する、項１〜６のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項８］
前記表面層が、少なくとも５マイクロメートルの平均等価円直径を有する山を含む、項１〜７のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項９］
前記平均等価円直径が少なくとも１０マイクロメートルである、項８に記載のマットフィルム。
［項１０］
前記平均等価円直径が３０マイクロメートル未満である、項８又は９に記載のマットフィルム。
［項１１］
前記平均等価円直径が２５マイクロメートル未満である、項８又は９に記載のマットフィルム。
［項１２］
前記マイクロ構造化表面が、少なくとも５マイクロメートルの平均長さを有する山を含む、項１〜７のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項１３］
前記山が、少なくとも１０マイクロメートルの平均長さを有する、項１２に記載のマットフィルム。
［項１４］
前記マイクロ構造化表面が、少なくとも５マイクロメートルの平均幅を有する山を含む、項１〜７のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項１５］
前記山が、少なくとも１５マイクロメートルの平均幅を有する、項１４に記載のマットフィルム。
［項１６］
前記フィルムが、０．１４マイクロメートル未満の平均粗さ（Ｒａ）を有する、項１〜１５のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項１７］
前記フィルムが、１．２０マイクロメートル未満の平均最大表面高さ（Ｒｚ）を有する、項１〜１６のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項１８］
マイクロ構造化層を含むマットフィルムであって、９０％以下の透明度と、少なくとも０．０５マイクロメートルでありかつ０．１４マイクロメートル以下の平均表面粗さと、を有し、前記マイクロ構造の５０％以下が、埋め込まれたマット粒子を含む、マットフィルム。
［項１９］
複数のマイクロ構造を含むマイクロ構造化層を有するマットフィルムであって、９０％以下の透明度と、少なくとも０．５０マイクロメートルでありかつ１．２０マイクロメートル以下の平均最大表面高さと、を有し、前記マイクロ構造の５０％以下が、埋め込まれたマット粒子を含む、マットフィルム。
［項２０］
複数のマイクロ構造を含むマイクロ構造化層を有するマットフィルムであって、９０％以下の透明度を有し、前記マイクロ構造化層が、少なくとも５マイクロメートルでありかつ３０マイクロメートル以下の平均等価直径を有する山を含み、前記マイクロ構造の５０％以下が、埋め込まれたマット粒子を含む、マットフィルム。
［項２１］
前記マットフィルムが少なくとも７０％の透明度を有する、項１〜２０のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項２２］
前記光学フィルムが１０％以下の曇り度を有する、項１〜２１に記載のマットフィルム。
［項２３］
前記マイクロ構造化層が、約１．６０を越える屈折率を有する重合性樹脂組成物の反応生成物を含む、項１〜２２のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項２４］
前記重合樹脂組成物が、少なくとも約１．６０の屈折率を有するナノ粒子を含有する、項２３に記載のマットフィルム。
［項２５］
前記ナノ粒子がジルコニアを含む、項２４に記載のマットフィルム。
［項２６］
前記ナノ粒子が、カルボン酸末端基を含む化合物で表面改質されている、項２３又は２４に記載のマットフィルム。
［項２７］
前記化合物が、Ｃ３〜Ｃ８エステル繰り返し単位又は少なくとも１つのＣ６〜Ｃ１６エステル単位を含む、項２６に記載のマットフィルム。
［項２８］
前記化合物が、
ｉ）少なくとも１種の脂肪族無水物と、
ｉｉ）少なくとも１種のヒドロキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレートと、の反応生成物を含む、項２７に記載のマットフィルム。
［項２９］
前記ナノ粒子が、脂肪族無水物と、ヒドロキシルＣ２〜Ｃ８アルキル（メタ）アクリレートとの反応により調製された化合物で表面改質されている、項２４〜２８のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項３０］
前記重合性樹脂組成物が、１種以上の芳香族ジ（メタ）アクリレートモノマーを約１０〜約２０重量％の範囲の量で含有する、項２３〜２９のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項３１］
前記重合性樹脂組成物が、約５〜約１５重量％の、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を有する架橋剤を含有する、項２３〜２９のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項３２］
前記重合性樹脂組成物が、約１０重量％迄の芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーを含有する、項２３〜２９のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項３３］
前記マイクロ構造化層が、約１．６０未満の屈折率を有する重合性樹脂組成物の反応生成物を含む、項１〜２２のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項３４］
前記マイクロ構造化層がシリカナノ粒子を含む、項３３に記載のマットフィルム。
［項３５］
前記マイクロ構造化層がウレタンアクリレートを含む、項３３に記載のマットフィルム。
［項３６］
前記マイクロ構造がマット粒子を含まない、項１〜３５のいずれか一項に記載のマットフィルム。
［項３７］
前記マイクロ構造化層がマイクロ複製されている、項１〜３６のいずれか一項に記載のマットフィルム。