特許 6000336 ＨＤＤ用ガラス基板用のガラスブロックまたはガラスブランクスの製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6000336

(24)【登録日】2016年9月9日

(45)【発行日】2016年9月28日

(54)【発明の名称】ＨＤＤ用ガラス基板用のガラスブロックまたはガラスブランクスの製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C03B 3/02 20060101AFI20160915BHJP

   C03B 5/167 20060101ALI20160915BHJP

   C03B 5/43 20060101ALI20160915BHJP

   G11B 5/84 20060101ALI20160915BHJP

   G11B 5/73 20060101ALI20160915BHJP

【ＦＩ】

   C03B3/02

   C03B5/167

   C03B5/43

   G11B5/84 Z

   G11B5/73

【請求項の数】6

【全頁数】10

(21)【出願番号】特願2014-507329(P2014-507329)

(86)(22)【出願日】2012年12月14日

(86)【国際出願番号】JP2012082490

(87)【国際公開番号】WO2013145460

(87)【国際公開日】20131003

【審査請求日】2015年12月11日

(31)【優先権主張番号】特願2012-73872(P2012-73872)

(32)【優先日】2012年3月28日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000113263

【氏名又は名称】ＨＯＹＡ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001195

【氏名又は名称】特許業務法人深見特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】梶田 大士

【審査官】 宮崎 大輔

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００９−１６１４２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−１６９０８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００２−２４９３２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２０２４４４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−２５１８５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−２９７２３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０８−２０８２３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６３−０５５１２３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０３Ｂ３／００−５／４４

Ｇ１１Ｂ５／８４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ＨＤＤ用ガラス基板用のガラスブロックまたはガラスブランクスの製造方法であって、
白金を含む材料により形成され、溶融されたガラス融液を保持する溶融炉を加熱するステップと、
ガラス原料を１００℃以上に加熱するステップと、
加熱された前記ガラス原料を前記溶融炉に保持された前記ガラス融液中に投入するステップと、を備える、ＨＤＤ用ガラス基板用のガラスブロックまたはガラスブランクスの製造方法。

【請求項2】

前記ガラス原料を加熱するステップにおいて、前記ガラス原料を３００℃以上に加熱する、請求項１に記載のＨＤＤ用ガラス基板用のガラスブロックまたはガラスブランクスの製造方法。

【請求項3】

前記ガラス原料を加熱するステップにおいて、前記ガラス原料を溶融させる、請求項１または請求項２に記載のＨＤＤ用ガラス基板用のガラスブロックまたはガラスブランクスの製造方法。

【請求項4】

請求項１から請求項３のいずれかに記載のガラスブロックまたはガラスブランクスの製造方法によって製造されたＨＤＤ用ガラス基板用のガラスブロックまたはガラスブランクスを成形することによってＨＤＤ用ガラス基板を製造する、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。

【請求項5】

前記ＨＤＤ用ガラス基板の中に、球換算粒子径が１μｍ以上の白金が混入する個数は、ガラス３ｃｃ当たり１個以下である、請求項４に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。

【請求項6】

前記ＨＤＤ用ガラス基板は、熱アシスト記録方式のＨＤＤ用のガラス基板である、請求項５に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）用のガラス基板用のガラスブロックまたはガラスブランクスの製造方法およびＨＤＤ用ガラス基板の製造方法に関し、特に、磁気ヘッドの浮上量が３ｎｍ以下であるＨＤＤに用いられるガラス基板用のガラスブロックもしくはガラスブランクスまたはガラス基板の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、ＨＤＤの記憶容量の飛躍的な増大に伴い、媒体の１ビットあたりの記録面積を小さくすることが必要不可欠となっている。媒体の記録面積の減少に比例して記録用の磁性粒子サイズも微細化しなければならず、微小領域でのリード／ライト機能を向上するために、磁気ヘッドと媒体との距離がさらに小さくなっている。その結果、媒体に記録されたデータにアクセスする際のリード／ライトエラー、磁気ヘッドが媒体表面に衝突するヘッドクラッシュなどの問題が発生しやすくなっている。そのため、表面平滑性のさらに高いガラス基板を製造することが求められている。

【0003】

磁気ヘッドと媒体との距離を小さくしたときリード／ライトエラーやヘッドクラッシュが増加する原因を追究したところ、従来は特に大きな問題となっていなかったガラス基板の表面の異物が原因であることが明らかになってきた。その異物を成分分析したところ、白金であることが判明し、ガラスの溶融工程における溶融炉であるるつぼより溶出した白金であることがわかってきた。

【0004】

そこで従来、るつぼ内でのガラス材料中への白金の混入を抑制する技術が提案されている（たとえば、特開２００６−１６９０８５号公報（特許文献１）参照）。特開２００６−１６９０８５号公報（特許文献１）では、溶融ガラスに接触するるつぼの表面粗さを低減することで、ガラスと白金との接触抵抗を低減して、白金の混入を防ぐ技術が提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００６−１６９０８５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、白金または白金合金製の部材の表面を平滑にする処理には手間がかかる。さらに、るつぼを使用するにつれて表面粗さが悪化するため、白金製るつぼの表面粗さを低減した状態を長期に亘って維持することは現実的に不可能である。すなわち、特開２００６−１６９０８５号公報（特許文献１）に記載の技術では、るつぼの使用開始当時は白金の混入を低減する効果が得られるものの、使用開始後すぐに溶融ガラス材料への白金の混入が増加してしまう問題があった。

【0007】

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、ガラス基板中への白金の混入量を抑制し高密度のＨＤＤ用ガラス基板を製造できる、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明に係る一の局面のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法は、磁気ヘッドの浮上量が３ｎｍ以下であるＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、白金を含む材料により形成され、溶融されたガラス融液を保持する溶融炉を加熱するステップと、ガラス原料を溶融炉に保持されたガラス融液中に投入するステップと、を備え、ガラス基板の成形後において球換算粒子径が１μｍ以上の白金がガラス中へ混入する個数は、ガラス３ｃｃ当たり１個以下である。ここで、球換算粒子径とは、個々の白金粒子の体積と同じ体積を有する球の直径として定義される。

【0009】

本発明に係る他の局面のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法は、磁気ヘッドの浮上量が３ｎｍ以下であるＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、白金を含む材料により形成され、溶融されたガラス融液を保持する溶融炉を加熱するステップと、ガラス原料を１００℃以上に加熱するステップと、加熱されたガラス原料を溶融炉に保持されたガラス融液中に投入するステップと、を備える。

【0010】

上記製造方法において好ましくは、ガラス原料を加熱するステップにおいて、ガラス原料を３００℃以上に加熱する。

【0011】

上記製造方法において好ましくは、ガラス原料を加熱するステップにおいて、ガラス原料を溶融させる。

【0012】

本発明に係るＨＤＤ用ガラス基板は、上記のいずれかの局面に従った製造方法によって製造された、熱アシスト記録方式のＨＤＤ用ガラス基板である。

【発明の効果】

【0013】

本発明のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によると、白金の混入量を抑制できるので、高密度のＨＤＤ用ガラス基板を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】実施の形態におけるＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板を備えるＨＤＤを示す斜視図である。

【図2】実施の形態におけるＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板を示す平面図である。

【図3】図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った矢視断面図である。

【図4】実施の形態におけるＨＤＤ用ガラス基板の製造方法の各工程を示すフローチャートである。

【図5】図４中に示すガラス溶融工程の詳細を示すフローチャートである。

【図6】溶融炉の断面図である。

【図7】実施例および比較例の実験条件および実験結果を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

本発明に基づいた実施の形態および実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および各実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および各実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。

【0016】

（ハードディスクドライブ３０）
図１を参照して、まず、情報記録装置の一例であるハードディスクドライブ３０について説明する。図１は、ハードディスクドライブ３０を示す斜視図である。ハードディスクドライブ３０は、情報記録媒体１０を備える。情報記録媒体１０は、実施の形態におけるＨＤＤ用ガラス基板（以下、単にガラス基板ともいう）の製造方法によって製造されたガラス基板１を用いて、作製される。

【0017】

具体的には、ハードディスクドライブ３０は、情報記録媒体１０、筐体２０、ヘッドスライダー２１、サスペンション２２、アーム２３、垂直軸２４、ボイスコイル２５、ボイスコイルモーター２６、クランプ部材２７、および固定ネジ２８を備える。筐体２０の上面上には、スピンドルモーター（図示せず）が設置される。

【0018】

ガラス基板１に磁性体を塗布して形成された磁気ディスクなどの情報記録媒体１０は、クランプ部材２７および固定ネジ２８によって、上記のスピンドルモーターに回転可能に固定される。情報記録媒体１０は、このスピンドルモーターによって、たとえば数千ｒｐｍの回転数で回転駆動される。情報記録媒体１０は、ガラス基板１に磁気記録層が形成されることによって製造される。

【0019】

アーム２３は、垂直軸２４回りに揺動可能に取り付けられる。アーム２３の先端には、板バネ（片持ち梁）状に形成されたサスペンション２２が取り付けられる。サスペンション２２の先端には、ヘッドスライダー２１が情報記録媒体１０を挟み込むように取り付けられる。

【0020】

アーム２３のヘッドスライダー２１とは反対側には、ボイスコイル２５が取り付けられる。ボイスコイル２５は、筐体２０上に設けられたマグネット（図示せず）によって挟持される。ボイスコイル２５およびこのマグネットにより、ボイスコイルモーター２６が構成される。

【0021】

ボイスコイル２５には所定の電流が供給される。アーム２３は、ボイスコイル２５に流れる電流と上記マグネットの磁場とにより発生する電磁力の作用によって、垂直軸２４回りに揺動する。アーム２３の揺動によって、サスペンション２２およびヘッドスライダー２１も矢印ＡＲ１方向に揺動する。ヘッドスライダー２１は、情報記録媒体１０の表面上および裏面上を、情報記録媒体１０の半径方向に往復移動する。ヘッドスライダー２１に設けられた磁気ヘッド（図示せず）はシーク動作を行なう。

【0022】

当該シーク動作が行なわれる一方で、ヘッドスライダー２１は、情報記録媒体１０の回転に伴って発生する空気流により、浮揚力を受ける。当該浮揚力とサスペンション２２の弾性力（押圧力）とのバランスによって、ヘッドスライダー２１は情報記録媒体１０の表面に対して一定の浮上量で走行する。当該走行によって、ヘッドスライダー２１に設けられた磁気ヘッドは、情報記録媒体１０内の所定のトラックに対して情報（データ）の記録および再生を行なうことが可能となる。ガラス基板１が情報記録媒体１０を構成する部材の一部として搭載されるハードディスクドライブ３０は、以上のように構成される。

【0023】

ヘッドスライダー２１に設けられる磁気ヘッドが情報記録媒体１０の表面に対して浮上する浮上量は、フライングハイトと呼称される。本実施の形態のハードディスクドライブ３０では、フライングハイトは３ｎｍ以下である。すなわち、情報記録媒体１０の回転時における、情報記録媒体１０の厚み方向の情報記録媒体１０と磁気ヘッドとの間隔は、３ｎｍ以下である。

【0024】

このようにフライングハイトが小さい場合、リード／ライトエラーまたはヘッドクラッシュなどの問題の発生を回避するために、ガラス基板１には高度の表面平滑性が要求される。そこで、本実施の形態のガラス基板１は、後述する製造方法により製造される。これにより、従来と比較してガラス基板１の表面の異物を一層抑制でき、ハードディスクドライブ３０のリード／ライト特性を向上させて記録密度を向上させることが可能になっている。

【0025】

（ガラス基板１）
図２は、本実施の形態に基づくＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によって製造されるガラス基板１を示す平面図である。図３は、図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った矢視断面図である。

【0026】

図２および図３に示すように、情報記録媒体１０にその一部として用いられるガラス基板１（ＨＤＤ用ガラス基板）は、主表面２、主表面３、内周端面４、孔５、および外周端面６を有し、全体として円盤状に形成される。孔５は、一方の主表面２から他方の主表面３に向かって、ガラス基板１を貫通するように設けられる。主表面２と内周端面４との間、および、主表面３と内周端面４との間には、面取部７がそれぞれ形成される。主表面２と外周端面６との間、および、主表面３と外周端面６との間には、面取部８（チャンファー部）が形成される。

【0027】

ガラス基板１の大きさは特に限定されず、たとえば３．５インチ、２．５インチ、１．８インチ、またはそれ以下の小径ディスクであってもよい。ガラス基板１の厚さは、２ｍｍ、１ｍｍ、０．８ｍｍ、０．６３５ｍｍ、またはそれ以下の薄型であってもよい。なおガラス基板１の厚さとは、ガラス基板１上の点対象となる任意の複数の点で測定した厚さの値の平均によって算出される値である。

【0028】

（ガラス基板の製造方法）
次に、本実施の形態におけるガラス基板１（ＨＤＤ用ガラス基板）の製造方法について説明する。図４は、実施の形態におけるＨＤＤ用ガラス基板の製造方法の各工程を示すフローチャートである。図４に示すように、本実施の形態のＨＤＤ用ガラス基板１の製造方法は、ガラス溶融工程（Ｓ１０）、成形工程（Ｓ２０）、研削・研磨工程（Ｓ３０）、洗浄工程（Ｓ４０）および成膜工程（Ｓ５０）を備える。

【0029】

まず、ガラス溶融工程（Ｓ１０）において、ガラス基板１の原料であるガラス原料が、１３００〜１５５０℃、たとえば１４００℃に加熱された溶融炉に投入されて溶融され、さらに清澄および撹拌均質化が行なわれる。次に、成形工程（Ｓ２０）において、溶融ガラスが予め加熱された鋳型に鋳込まれ、徐冷してガラスブロックとされる。続いて、ガラス転移点付近の温度で１〜３時間保持された後に、徐冷して歪み取りが行なわれる。得られたガラスブロックは、円盤形状にスライスされて、内周および外周を同心円としてコアドリルを用いて切り出される。または、溶融ガラスをプレス成形して円盤状に成形されてもよい。

【0030】

このようにして得られた円盤状のガラス基板は、次に研削・研磨工程（Ｓ３０）において、所定の形状まで研削され、その後表面平滑化のため粗研磨および精密研磨される。粗研磨の前、粗研磨と精密研磨との間、または精密研磨の後に、ガラス基板を硝酸カリウム（５０ｗｔ％）と硝酸ナトリウム（５０ｗｔ％）との混合溶液に浸漬させ、化学強化を行なってもよい。化学強化層は、いずれかの研磨過程においてガラス基板の主表面から除去されてもよいが、この場合でもガラス基板の内周側および外周側端面には引続き化学強化層が残存する。

【0031】

その後ガラス基板は、洗浄工程（Ｓ４０）において、水、酸およびアルカリの少なくとも１つの液で洗浄されて、最終的なＨＤＤ用ガラス基板とされる。さらに成膜工程（Ｓ５０）において、洗浄処理が完了したガラス素板の両主表面（またはいずれか一方の主表面）に対し、磁気記録層が形成される。磁気記録層は、たとえば、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系からなる保護層、およびＦ系からなる潤滑層が順次成膜されることによって、形成される。磁気記録層の形成によって、図１に示す情報記録媒体１０が得られる。

【0032】

（ガラス溶融工程の詳細）
図５は、図４中に示すガラス溶融工程（Ｓ１０）の詳細を示すフローチャートである。本実施の形態における、ガラス原料を溶融するためのガラス溶融工程（Ｓ１０）では、まず図５に示すステップ（Ｓ１１）において、溶融炉を加熱する。

【0033】

ステップ（Ｓ１１）と並行して、ステップ（Ｓ１２）においてガラス原料を準備する。ステップ（Ｓ１２）で準備されるガラス原料２００は、ガラス基板１を構成する各成分の原料として各々相当する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物などが所望の割合に秤量され粉末で充分に混合された調合原料であってもよい。またはガラス材料は、調合原料が一旦融かされ板状に形成された後に、取り扱い容易な大きさに割られたガラスカレットであってもよい。続いてステップ（Ｓ１３）においてガラス原料を加熱する。

【0034】

加熱されたガラス原料は、ステップ（Ｓ１４）において溶融炉内に投入され、さらにステップ（Ｓ１５）において溶融炉内でガラス原料が溶融される。

【0035】

図６は、溶融炉１００の断面図である。溶融炉１００は、１０００℃以上の高温下において化学的安定性を持つ白金または白金合金により形成される。溶融炉１００は、白金を含む原料により形成されている。白金合金は、たとえば酸化物分散強化白金、Ｐｔ−Ｒｈ合金などであってもよい。溶融炉１００の内部に、ガラス融液を撹拌するための撹拌子が配置されてもよい。

【0036】

溶融炉１００には、図示しない加熱部が設けられている。たとえば溶融炉１００は、電気式のヒータが設けられた電気炉であってもよい。当該加熱部から伝達される熱を受けて、溶融炉１００の内部のガラス融液１１０は、上述した通りたとえば１４００℃に加熱されて液相の状態にある。ガラス融液１１０が貯留された溶融炉１００内に、新たに溶融されるべきガラス原料２００が投入される。投入されたガラス原料２００が溶融炉１００内で加熱され、ガラス原料２００は融解してガラス融液１１０になる。

【0037】

溶融炉１００に投入されるガラス原料２００の温度が低く室温程度である場合、１０００℃〜１５００℃程度のガラス融液１１０とガラス原料２００との温度差が大きいことになる。そのため、ガラス融液１１０にガラス原料２００が投入されると、ガラス融液１１０の温度が大きく変動し、ガラス原料２００の接触するガラス融液１１０の温度が低下する。ガラス融液１１０の温度変化に伴って、溶融炉１００自身の温度も大きく変動する。熱応力の作用により白金が伸縮を繰り返すと、溶融炉１００の内面にシワや変形が発生し、熱伸縮を繰り返す部分より白金の剥離が生じると考えられている。

【0038】

さらに、ガラス融液１１０と大気との界面、特に、エネルギー的に不安定であるガラス融液１１０と溶融炉１００と大気との界面において、酸化白金が蒸発し、酸化白金の蒸気が溶融炉１００の上方で凝縮し、その後落下してガラス融液１１０中で還元されて白金コロイドになると考えられている。

【0039】

溶融炉１００の内表面から剥離した白金、または、白金コロイドとなった白金が、ガラス融液１１０に混入すると、ガラス融液１１０を凝固させて得られるガラス基板１中への白金の混入（白金インクルージョン）が発生する。ガラス基板１に混入した白金はガラス基板１の表面の異物となり表面平滑性を悪化させる原因となるので、白金インクルージョンの抑制が重要視されている。

【0040】

そのため、本実施の形態では、溶融炉１００にガラス原料２００を投入するステップ（Ｓ１４）より前のステップ（Ｓ１３）において、ガラス原料２００に予め熱が加えられる。ガラス融液１１０の温度変動を十分に抑制するために、ガラス原料２００は、１００℃以上の温度に加熱されてから溶融炉１００に投入される。望ましくは、ガラス原料２００は予め３００℃以上にまで加熱される。より望ましくは、溶融炉１００に投入される前に溶融されたガラス原料２００が、溶融炉１００に投入される。

【0041】

このようにすれば、ガラス原料２００を溶融炉１００に投入した際のガラス融液１１０の温度変動を抑制できるので、溶融炉１００自体の温度変化を抑制できる。その結果、溶融炉１００に温度変動が発生して溶融炉１００が熱伸縮することを抑制でき、溶融炉１００の内面からの白金が剥離してガラス融液１１０中に融け出すことを抑制できる。したがって、ガラス融液１１０への白金の混入が抑制され、ガラス基板１での白金インクルージョンの発生を抑制することができる。具体的には、ガラス原料２００を１００℃以上の温度に加熱した後に溶融炉１００に投入することで、ガラス基板１の成形後において球換算粒子径が１μｍ以上の白金がガラス中へ混入する個数を、ガラス３ｃｃ当たり１個以下に抑えることができる。

【0042】

本実施の形態の、ガラス原料２００を加熱してから溶融炉１００に投入するガラス基板１の製造方法は、熱アシスト記録方式のＨＤＤ用のガラス基板１の製造に用いられると、さらに効果的である。熱アシスト記録向けのガラス基板１では成膜時に高温アニール処理が必要になるため、耐熱性の高いガラスが要求される。耐熱性の高いガラスでは、ガラスが液体としての挙動を示すために一層の高温を必要とするので、ガラス溶融工程においても高温加熱が必要になる。そのため、本実施の形態の製造方法は、耐熱性の高いガラスにおいて、さらに有効な製造方法となる。

【実施例】

【0043】

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0044】

＜実施例１−５および比較例＞
ガラス原料２００としてガラスカレットを準備し、ガラスカレットを加熱した。実施例１−５では、ガラスカレットをそれぞれ、１００℃、３００℃、５００℃、７００℃、１０００℃に加熱した。一方、比較例では、ガラスカレットを加熱せず２５℃の室温のままとした。その後、ガラスカレットを、溶融炉１００へ投入し溶融させた。溶融炉１００としては白金炉を使用し、各実施例および比較例に対してそれぞれ新品の溶融炉１００を準備した。溶融炉の温度は１４００℃とした。

【0045】

溶融したガラスを、清澄槽で泡抜きし、撹拌槽で脈理の低減のために均一化し、その後ノズルから送出させ、ガラスが一定量となったところで切断刃（ブレード）で切断することによりガラスゴブを得た。溶融炉１００へのガラスカレットの投入開始時点より６時間ごとにサンプリングしたガラスから、合計１０個のガラスゴブを作製した。得られたガラスゴブを研磨し、ガラス３ｃｃ中に含まれる球換算粒子径が１μｍ以上の白金の個数を光学顕微鏡で確認する検査を行なった。

【0046】

さらに、上記検査を行なったガラスゴブと同時刻に作製されたガラスゴブをプレス成形することによりガラスブランクスを作製し、ガラスブランクスを研削、研磨加工することでガラス基板１を製造した。そのガラス基板１の主表面２，３に磁気記録層を形成した情報記録媒体１０を、磁気ヘッドと情報記録媒体１０との距離が３ｎｍであるハードディスクドライブ３０に搭載し、１０分間動作させた際の読取りエラー回数の確認を行なった。エラー発生後は、発生箇所について走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて欠陥解析を行ない、白金起因のエラーの発生数をカウントした。

【0047】

図７は、実施例１−５および比較例の実験条件および実験結果を示す図である。図７に示すように、ガラスカレットを加熱せず室温のまま溶融炉１００に投入した比較例では、ガラスゴブを検査した結果、１０個のサンプルの全てにおいて、球換算粒子径が１μｍ以上の白金がガラス３ｃｃ当たり２個以上混入していた。一方、ガラスカレットを１００℃以上に加熱した実施例１−５ではいずれも、球換算粒子径が１μｍ以上の白金がガラス中へ混入する個数は、ガラス３ｃｃ当たり１個以下であった。ガラスカレットを３００℃以上に加熱した実施例２−５では、ガラス３ｃｃ中に、球換算粒子径が１μｍ以上の白金は観察されず、特に良好であった。

【0048】

ハードディスクドライブ３０の白金起因の読取りエラーの発生回数に関しては、比較例では１０個のサンプルの全てにおいて白金起因の読取りエラーが発生した。一方、実施例１−５では、１０個のサンプルにおいて、白金起因の読取りエラーは発生せず良好であった。

【0049】

図７に示す結果から、溶融炉１００に投入する前のガラス原料を１００℃以上に加熱することにより、白金がガラス中へ混入する個数を１個以下に抑制できることが明らかになった。その結果として、ハードディスクドライブ３０に用いられる情報記録媒体１０の表面の異物を低減でき、白金起因のエラーの発生数を低減でき、したがって情報記録媒体１０の記録密度をより大きくできることが明らかになった。

【0050】

以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。この発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

【符号の説明】

【0051】

１ ガラス基板、１０ 情報記録媒体、３０ ハードディスクドライブ、１００ 溶融炉、１１０ ガラス融液、２００ ガラス原料。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】