特許第6005780号(P6005780)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6005780ネイルアートの除去方法及び形成方法ならびに指先保護剤
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6005780
(24)【登録日】2016年9月16日
(45)【発行日】2016年10月12日
(54)【発明の名称】ネイルアートの除去方法及び形成方法ならびに指先保護剤
(51)【国際特許分類】
   A61K 8/73 20060101AFI20160929BHJP
   A61Q 3/02 20060101ALI20160929BHJP
【FI】
   A61K8/73
   A61Q3/02
【請求項の数】6
【全頁数】8
(21)【出願番号】特願2015-40419(P2015-40419)
(22)【出願日】2015年3月2日
(65)【公開番号】特開2016-160220(P2016-160220A)
(43)【公開日】2016年9月5日
【審査請求日】2015年6月10日
(73)【特許権者】
【識別番号】515037483
【氏名又は名称】株式会社AGT&T
(74)【代理人】
【識別番号】100099508
【弁理士】
【氏名又は名称】加藤 久
(74)【代理人】
【識別番号】100093285
【弁理士】
【氏名又は名称】久保山 隆
(74)【代理人】
【識別番号】100182567
【弁理士】
【氏名又は名称】遠坂 啓太
(74)【代理人】
【識別番号】100195327
【弁理士】
【氏名又は名称】森 博
(72)【発明者】
【氏名】瀧 孝雄
【審査官】 松元 麻紀子
(56)【参考文献】
【文献】 国際公開第2012/099224(WO,A1)
【文献】 特開2008−247803(JP,A)
【文献】 特開2002−087936(JP,A)
【文献】 国際公開第2011/007885(WO,A1)
【文献】 特開2003−300858(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
A61K 8/73
A61Q 3/02
CAplus/REGISTRY(STN)
JSTPlus/JMEDPlus/JST7580(JDreamIII)
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
有機溶媒を用いてネイルアートを除去するネイルアート除去方法において、
ネイルアートを施された指先に、アグリカンを1.0重量%以上5重量%以下含有するアグリカン含有組成物を塗工し乾燥させることでアグリカンを含む指先保護層を形成させた後、有機溶媒によネイルアートを除去することを特徴とするネイルアート除去方法。
【請求項2】
前記ネイルアートが、光硬化型のネイルジェルを用いて形成されたネイルアートである請求項1記載のネイルアート除去方法。
【請求項3】
前記アグリカン含有組成物が、アグリカンを含有してなる水溶液である請求項1または2記載のネイルアート除去方法。
【請求項4】
光硬化型のネイルジェルを用いてネイルアートを施すネイルアート形成方法において、
ネイルアートを施す指先に、0.2重量%以上1.0重量%以下アグリカンを含有するアグリカン含有組成物を塗工し乾燥させることでアグリカンを含む指先保護層を形成させる工程を有することを特徴とするネイルアート形成方法。
【請求項5】
アグリカンを0.2重量%以上5重量%以下含有してなることを特徴とするネイルアートにおける指先保護剤。
【請求項6】
アグリカンを0.重量%以上5重量%以下含有してなる水溶液を用いることを特徴とする請求項5記載の指先保護剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ネイルアートの除去方法および形成方法に関する。また、これらのネイルアートの除去方法や形成方法に使用される指先保護剤に関する。
【背景技術】
【0002】
20世紀初期に塗料型のマニキュアが開発されてから、近年では広く美容の目的などでネイルアートが普及している。現代のネイルアートの代表的な手法の一つとして、ネイルジェルを用いたものが挙げられる。これは、メタクリル酸エステルモノマーや・アクリル酸オリゴマー、光重合開始剤(フォトイニシエーター)などを含有する光硬化型のネイルジェルに、紫外線(UV)などを照射し光重合させることで得られる重合体を、爪の上に塗工層(いわゆるトップコート)として設けるものである。すなわち、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)等を原料として用いたいわゆるネイルジェルを爪に塗工し、適宜、ジェル上に装飾用のストーンやシール、ビーズなどを載せ、その後、UV照射等することで硬化させる方法である。また、このようなネイルジェル等を用いたネイルアートを除去するにあたっては、ネイルジェル等による塗工層を、アセトンなどの有機溶媒が含まれるいわゆるリムーバーや除光液を用いて、取り除いている。これらのネイルジェルに含まれるHEMA等の架橋剤や、リムーバー等に含まれるアセトン、また、ネイルジェルを硬化させる際に照射するUV等により、爪や指先の皮膚に損傷が生じることが問題となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特許第4981184号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、HEMAやアセトン等のように、ネイルアートの形成時あるいは、ネイルアートの除去時に用いられる製品に含まれた薬品によって発生する指先の損傷を防止する方法および、そのためのネイルケア製品として用いられる指先保護剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、下記の発明が上記目的に合致することを見出し、本発明に至った。
【0006】
すなわち、本発明は、以下の発明に係るものである。
<1> 有機溶媒を用いてネイルアートを除去するネイルアート除去方法において、ネイルアートを施された指先に、アグリカンを含有するアグリカン含有組成物を塗工し乾燥させることでアグリカンを含む指先保護層を形成させた後、有機溶媒によるネイルアートを除去することを特徴とするネイルアート除去方法。
<2> 前記ネイルアートが、光硬化型のネイルジェルを用いて形成されたネイルアートである前記<1>記載のネイルアート除去方法。
<3> 前記アグリカン含有組成物が、アグリカンを含有してなる水溶液である前記<1>または<2>記載のネイルアート除去方法。
<4> 光硬化型のネイルジェルを用いてネイルアートを施すネイルアート形成方法において、ネイルアートを施す指先に、アグリカンを含有するアグリカン含有組成物を塗工し乾燥させることでアグリカンを含む指先保護層を形成させる工程を有することを特徴とするネイルアート形成方法。
<5> アグリカンを含有してなることを特徴とするネイルアートにおける指先保護剤。
<6> アグリカンを0.1重量%以上5重量%以下含有してなる水溶液を用いることを特徴とする前記<5>記載の指先保護剤。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、ネイルアートの形成時や、除去時に爪や指先に与える損傷を低減し、健康な爪、指の状態を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1】アグリカンの構造の概要を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を変更しない限り、以下の内容に限定されない。
【0010】
本発明は、有機溶媒を用いてネイルアートを除去するネイルアート除去方法において、ネイルアートを施された指先に、アグリカンを含有するアグリカン含有組成物を塗工し乾燥させることでアグリカンを含む指先保護層を形成させた後、有機溶媒によるネイルアートを除去することを特徴とするネイルアート除去方法に関する。また、光硬化型のネイルジェルを用いてネイルアートを施すネイルアート形成方法において、ネイルアートを施す指先に、アグリカンを含有するアグリカン含有組成物を塗工し乾燥させることでアグリカンを含む指先保護層を形成させる工程を有することを特徴とするネイルアート形成方法に関する。
【0011】
本発明は、ネイルアート除去方法や、ネイルアート形成方法として達成することができ、これらにおいて、アグリカンを含有するアグリカン溶液のようなアグリカン含有組成物を指先に塗工し乾燥することで、指先にアグリカンを含む指先保護層を形成させる工程を有することを特徴とする。なお、本発明において、「指先」とは、ネイルアートを行う対象となる爪そのものと、その爪の周りの皮膚を併せて指先と呼ぶ。
【0012】
アグリカン(aggrecan)は分子量約2500kDaの軟骨組織に存在する代表的な大型のケラタン硫酸/コンドロイチン硫酸プロテオグリカンで、軟骨以外にも脳、大動脈、腱などの比較的限局した組織分布を示している。アグリカンのコアタンパク質は分子量210―250kDaでヒアルロン酸結合能を持ち、リンクタンパク(link protein)とともにヒアルロン酸と巨大な複合体を形成する。そして、そのコアタンパク質に結合した数多く(約100本以上程度)のグリコサミノグリカン鎖によって、高度に水和したゲル体を形成する。このアグリカンの模式図を、図1に示す。このアグリカンは、サケの頭部から分離するなどの方法で製造されている。例えば、サケの頭部を食酢(酢酸)に浸漬させて、抽出することでアグリカンを入手することができる。
【0013】
本発明の方法においては、このアグリカンを含有するアグリカン含有組成物を用いることを特徴とする。ここで、本発明においてアグリカン含有組成物は、前記したアグリカンを用いたものであり、指先に塗工しやすいように溶液やクリーム、ペースト、スプレー剤等の塗工に適した基礎製剤と混合して適宜調製したものや、さらに、防腐剤、香料のような追加成分や補助剤等の他の成分と混合したものに加え、アグリカンそのものを単独で使用する場合も含めてアグリカン含有組成物と称す。このアグリカン含有組成物を、例えば、アグリカンの溶液として使用する場合、溶液の溶媒としては、ヒトの皮膚や爪に無害なものであれば特に制限はないが、アグリカンは高い親水性を示すことから、例えば水や、水を主たる溶媒として適宜アルコール等を混合したものなどを用いることができる。
【0014】
また、アグリカン溶液におけるアグリカンの濃度は、そのアグリカン溶液の塗工方法に適したものとして調製されるが、例えば0.01重量%〜10重量%程度であり、0.1重量%〜5重量%であることが好ましく、0.2重量%〜3重量%がより好ましい。本発明のネイルアート除去工程においては、リムーバーや除光液等に含まれる有機溶媒に数分程度以上の長時間曝されることもあるため、爪を含めた指先に十分な厚さのアグリカンによる保護層を設けやすいようにアグリカン濃度が1.0重量%〜5重量%である溶液を用いたほうが良い。一方、ネイルアート形成工程においてはアグリカンによる保護層が厚くなりすぎると、ネイルジェルの塗工性に影響を与える可能性があるため、アグリカン濃度が0.2重量%〜1.0重量%の薄い濃度の溶液を用いて、薄い保護層を設けたほうがよい。
【0015】
また、このアグリカン含有組成物には、皮膚との親和性が高い各種成分である、セラミド系成分やコラーゲン、ヒアルロン酸、グリカン、マンナン等を適宜加えて調製してもよい。また、調整されたアグリカン含有組成物は適宜、滅菌等して使用される。
【0016】
本発明の方法においては、アグリカンを含有するアグリカン溶液などのアグリカン含有組成物を指先に塗工し乾燥することで、指先にアグリカンを含む指先保護層を形成させる。この塗工方法としては、指先にアグリカン溶液をスプレー状に噴霧したり、刷毛等を用いてアグリカン溶液を塗るなどの方法で、溶液の膜を指先に設けることができればよい。
【0017】
また、例えば、アグリカン溶液を塗工することで設けられた溶液の膜は、常温でしばらく置くことで自然乾燥したり、適宜、ドライヤー等により熱風乾燥することで、溶液中の溶媒が揮発し、アグリカンのコーティング層が形成され、これが指先を保護するアグリカンを含む指先保護層となる。この指先に形成される指先保護層は、例えば、アグリカン濃度が3%程度のアグリカン溶液の場合、そのアグリカン溶液を、両手の指10本に対しておよそ0.5〜1.0cc程度をスプレーや刷毛で塗工する程度の塗工で形成されるような保護層で十分に有効な効果を示す。
【0018】
本発明は、光硬化型のネイルジェルを用いてネイルアートを施すネイルアート形成方法として達成することができる。このネイルアートの形成においては、メタクリル酸エステルモノマーや・アクリル酸オリゴマー、光重合開始剤(フォトイニシエーター)などを含有する光硬化型のネイルジェルに、紫外線(UV)などを照射し光重合させることで得られる重合体を、爪の上に塗工層(いわゆるトップコート)として設けることが行われている。より具体的には、HEMA(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)のように官能基を有するアクリル系モノマー等やこれらと反応するオリゴマー、UVなどの光に反応し、重合開始剤として機能する光重合開始剤等を含むネイルジェルを爪に塗り、ここに、UV照射器によりUV(紫外線)を照射することでネイルジェルの層(いわゆるトップコート)を硬化させる工程を経てネイルアートが行われている。
【0019】
このネイルアートの形成を行うにあたり、光硬化型のネイルジェルを爪に塗る前に、予め前述したアグリカン溶液を塗り、アグリカンを含む指先保護層を設けておくことで、HEMA等のモノマーや、紫外線による損傷を防止することができる。また、このアグリカンを含む指先保護層を設ける工程は、サンディングや甘皮処理、ベースコート、カラーコート等の、光硬化型のネイルジェルによるトップコートを設ける前の工程のいずれかの段階で行っても良いし、トップコート後に行っても良い。特に、爪への浸透、保護効果を考えるとトップコート前に行っておいたほうが良い。
【0020】
本発明は、ネイルアートの除去方法として達成することができる。このネイルアートの除去においては、有機溶媒を用いてネイルアートを除去されている。より具体的には、いわゆるリムーバーや除光液と呼ばれるような、ネイルアートを除去するために、ネイルアートのコーティング層を溶解等させ剥がすものが用いられているが、これらは、爪や、指先の皮膚の脂質層を破壊したりする。ここで、前述したアグリカンを含む指先保護層を予め設けた状態で、これらの有機溶媒を用いるネイルアートの除去を行えば、有機溶媒による皮膚の損傷を抑えることができる。さらに、ネイルアート除去後に、アグリカンを含有するアグリカン溶液を、再度塗工すれば、より有機溶媒や架橋剤等による損傷を抑えることができ、また指先の爪や皮膚の細胞回復を促進し、抗炎症効果も奏することができる。
【実施例】
【0021】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を変更しない限り以下の実施例に限定されるものではない。
【0022】
[材料]
・アグリカン精製物:株式会社グライコスモ研究所製アグリカンをアグリカン精製物として使用した。
[アグリカン溶液の調製]
・アグリカン溶液(1):アグリカン精製物を水に溶解させて、濃度0.3重量%のアグリカン溶液(1)を調製した。
・アグリカン溶液(2):アグリカン精製物を水に溶解させて、濃度3.0重量%のアグリカン溶液(2)を調製した。
【0023】
[ネイルアートの形成工程]
各被験者の爪に、UV硬化性のジェルネイルである「フルーリア トップジェル」(株式会社ニッシン(京都府)製)を用いて、ネイルアートを形成した。色や試用期間、デザイン等は被験者の要望に応じて適宜変更した。このフルーリア トップジェルには、2−ヒドロキシエチルメタクリレートなどが含まれている。
光(UV)硬化型のネイルジェルに含まれるUV硬化性樹脂等の硬化にあたっては、UVライトである、TAT「UVライト」を用いた。
[ネイルアートの除去工程]
ネイルアートの除去にあたっては、爪に光(UV)硬化性のジェルネイルを用いたネイルアートを施した被験者を対象に、ORANGE「ピュアアセトン」のリムーバーを、その推奨用法により使用した。
【0024】
[実施例1、比較例1]
「ネイルアート形成工程での使用」
ネイルアートに用いられるネイルジェル、UV照射およびアセトンにより皮膚の炎症や荒れを発症したことがある被験者3人を対象に、ネイルアートの形成工程のサンディング等の後でありベースコート前に、本発明にかかるアグリカン溶液(1)を、両手の指計10本に対して、約0.5〜1.0ccをスプレーして塗工して、余分なアグリカン塗工層は水で拭き取った後に、ネイルアートを形成した群を実施例1とした。
一方、同じ被験者3人を対象に、アグリカン溶液(1)を用いずに、通常のネイルアート形成工程でネイルアートを形成した群を比較例1とした。
【0025】
[実施例2、比較例2]
「ネイルアート除去工程での使用」
ネイルアートに用いられるネイルジェル、UV照射およびアセトンにより皮膚の炎症や荒れを発症したことがある被験者3人を対象に、ネイルアートの除去工程において、リムーバー塗工前に、本発明にかかるアグリカン溶液(2)を両手の指計10本に対して、約0.5〜1.0ccをスプレーして塗工して、ネイルアートを除去した群を実施例2とした。
一方、同じ被験者3人を対象に、アグリカン溶液(2)を用いずに、通常のネイルアートの除去工程でネイルアートを形成した群を比較例2とした。
【0026】
[実施例3、比較例3]
[ネイルアートの除去と形成]
既に爪に施していたネイルアートを除去し、すぐに新たなネイルアートを形成しようとするネイルアートに用いられるネイルジェル、UV照射およびアセトンにより皮膚の炎症や荒れを発症したことがある被験者3人を対象に、まず、ネイルアートの除去工程において、リムーバー塗工前に、本発明にかかるアグリカン溶液(2)を両手の指計10本に対して、約0.5〜1.0ccをスプレーして塗工して、ネイルアートを除去した。その後、ネイルアートの形成工程のサンディングおよび甘皮処理の後でありベースコート前に、本発明にかかるアグリカン溶液(1)を、両手の指計10本に対して、約0.5〜1.0ccをスプレーして塗工して、ネイルアートを形成した群を実施例3とした。
一方、同じ被験者3人を対象に、アグリカン溶液(1)および(2)を用いずに、通常のネイルアート除去と形成を行った群を比較例3とした。
【0027】
実施例1〜3および比較例1〜3の各被験者の爪を中心とした指先の状況を評価した。その結果、本発明のアグリカン溶液(1)や(2)を用いた処置を行わない比較例1〜3にあたる従来のネイルアート形成や除去においては、指先や爪の荒れが目立ち、ほぼ荒れが無い状態に回復するまで2〜3週程度要した。一方、本発明に係るアグリカン溶液(1)や(2)を用いた実施例1〜3にあたるネイルアート形成や除去によって、回復に数週かかるような指先や爪の荒れが生じず、2〜3日程度で回復した。
【産業上の利用可能性】
【0028】
本発明のネイルアートの除去方法およびネイルアートの形成方法によれば、ネイルアートを施す前後における爪やその周辺の皮膚等の損傷を抑えることができ、よりネイルアートを簡易に行うことができる。また、本発明のネイルアートの指先保護剤は、これらの工程に用いることができるものである。
図1