特許6023787IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

概して、イオンエネルギー分析に関し、より詳細には、プラズマ処理システム内でのイオンエネルギー分布を測定するイオンエネルギーアナライザに関する。また本発明は、当該イオンエネルギーアナライザの製造及び使用方法にも関する。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

IEDが、数十年の間、様々なイオンエネルギーアナライザ(“IEA”)を用いるプラズマ処理において精力的に測定されてきたが、依然として改善の必要がある。たとえば大抵の既知のアナライザは、測定結果が基板を処理するときの一般的な条件の特徴を示さなくなる程度に処理プラズマを攪乱し、大きな電位で動作せず、かつ/あるいは、アナライザ内部での2次電子放出に起因する大きなノイズを示してしまう。 これらの困難を克服するために多くの試みがなされてきたが、依然として、及び他の問題を解決するための改善された、新規で、かつ実用的な解決策が必要とされている。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、従来技術のイオンエネルギーアナライザの及び他の問題点や課題を解決する。本発明は、実施例に関連付けて説明されるが、本発明はこれらの実施例に限定されないことに留意して欲しい。対照的に、本発明は、全ての代替型、修正型、及び均等型を本発明の技術的範囲に含む。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の一の実施例によるプラズマ処理システムの概略的断面図である。

【図2】本発明の一の実施例による、イオンエネルギーアナライザ(“IEA”)を含む、図1のプラズマ処理システムで用いられる診断用ウエハの概略的上面図である。

【図3】図2のIEAの斜視図である。

【図4】図2のIEAの概略的断面図である。

【図5A】チャージアップ前の図4のIEAの円5Aを表す図である。

【図5B】チャージアップ後のIEAを表す図5Aと同様の図である。

【図6】波形に従って操作される図2のIEAの選択グリッドの概略図である。イオンの軌跡も概略的に図示されている。

【図7】本発明の一の実施例による図2のIEAの操作方法を表すフローチャートである。

【図8】本発明の他の実施例によるIEAの斜視図である。

【図9】図8に図示されたIEAの分解斜視図である。

【図10】本発明の他の実施例によるIEAの斜視図である。

【図11】本発明の一の実施例による3層のIEAに出力を供給するように構成されるIEA制御装置を備えるIEAの概略図である。

【図12】本発明の一の実施例による3層のIEAに出力を供給するように構成されるIEA制御装置を備えるIEAの概略図である。

【図13】本発明の実施例による、上に複数の3層のIEAを有して、共通の走査グリッドを共有する診断用ウエハの実施例に出力を供給するように構成されるIEA制御装置の概略図である。

【図14】本発明の一の実施例による、2層のIEAの実施例に出力を供給するのに適したIEA制御装置を備えるIEAの概略図である。

【図14A】図14の2層のIEAの概略的断面図である。

【図15】本発明の一の実施例による、2層のIEAの実施例に出力を供給するのに適したIEA制御装置を備えるIEAの概略図である。

【図16】本発明の一の実施例による、複数の2層のIEAを上に有する診断用ウエハに出力を供給するのに適したIEA制御装置の概略図である。

【図17】本発明の他の実施例による、複数の2層のIEAを上に有する診断用ウエハに出力を供給するのに適したIEA制御装置の概略図である。

【図18】本発明の一の実施例による図1のプラズマ処理システムのフィードスルーシステムの斜視図である。

【図19】図18に図示されたフィードスルーシステムの一部の概略的上面図である。

【図20】本発明の実施例によるMEMSに基づくIEAの製造方法を表すフローチャートである。

【図21A】図20の方法の段階を表す概略図である。

【図21B】図20の方法の段階を表す概略図である。

【図21C】図20の方法の段階を表す概略図である。

【図21D】図20の方法の段階を表す概略図である。

【図21E】図20の方法の段階を表す概略図である。

【図21F】図20の方法の段階を表す概略図である。

【図21G】図20の方法の段階を表す概略図である。

【図21H】図20の方法の段階を表す概略図である。

【図22】本発明の一の実施例による、フィードスルーシステムを介してIEAとIEA制御装置とを電気的に結合する一の方法を表すフローチャートである。

【図23A】図22の方法の段階を表す概略図である。

【図23B】図22の方法の段階を表す概略図である。

【図23C】図22の方法の段階を表す概略図である。

【図23D】図22の方法の段階を表す概略図である。

【図24】本発明の他の実施例による、図1と同様の、診断用プラズマ処理システムの概略的断面図である。

【図25A】本発明の一の実施例による、図20で供されるIEAのグリッドの位置合わせに用いられる位置合わせ装置の斜視図である。

【図25B】本発明の一の実施例による、図20で供されるIEAのグリッドの位置合わせに用いられる位置合わせ装置の斜視図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

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