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東京エレクトロン株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第44位 650件
（
2019年：第58位 660件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第59位 353件
（
2019年：第58位 415件）
（ランキング更新日：2020年10月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6774803 | 液滴吐出装置及び吐出検査方法 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6774814 | 化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6775036 | 成膜システム、成膜方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6775084 | 処理条件設定方法、記憶媒体及び基板処理システム | 2020年10月28日 | |
| 特許 6775322 | ＴｉＯＮ膜の成膜方法 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6775349 | 不揮発性記憶装置の製造方法 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6775450 | ステージクリーニング方法およびステージクリーニング部材、ならびに検査システム | 2020年10月28日 | |
| 特許 6776208 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6776367 | 金属配線層形成方法、金属配線層形成装置および記憶媒体 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6777055 | 基板処理装置 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6777704 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6770825 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6770832 | 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム | 2020年10月21日 | |
| 特許 6770848 | 被処理体を処理する方法 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6770868 | プラズマ処理装置のインピーダンス整合のための方法 | 2020年10月21日 |
359 件中 1-15 件を表示
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6774803 6774814 6775036 6775084 6775322 6775349 6775450 6776208 6776367 6777055 6777704 6770825 6770832 6770848 6770868
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