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東京エレクトロン株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第42位 462件
（
2019年：第58位 660件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第63位 246件
（
2019年：第58位 415件）
（ランキング更新日：2020年8月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6733516 | 半導体装置の製造方法 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6735549 | 基板処理装置、基板処理方法及びリング状部材 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6735686 | 基板処理装置及び基板の冷却方法 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6735688 | ガス導入部材 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6735718 | 基板処理装置、基板処理方法およびプログラム | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6735905 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6736386 | 基板液処理装置、基板液処理方法および記録媒体 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6736799 | 接合装置のパラメータ調整方法および接合システム | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6736989 | 処理液供給装置、機器ユニット、処理液供給方法及び記憶媒体 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6737094 | 基板加熱装置、基板加熱方法及び記憶媒体 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6737139 | ガスインジェクタ、及び縦型熱処理装置 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6737215 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6730941 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6731293 | 光学膜形成方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び光学膜形成装置 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6731341 | 製造プロセスを学習及び／又は最適化するためのシステム並びに方法 | 2020年 7月29日 |
249 件中 1-15 件を表示
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6733516 6735549 6735686 6735688 6735718 6735905 6736386 6736799 6736989 6737094 6737139 6737215 6730941 6731293 6731341
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