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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第54位 24件
(2020年:第43位 773件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第32位 28件
(2020年:第54位 436件)
(ランキング更新日:2021年1月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6811059 | 基板処理装置 | 2021年 1月13日 | |
特許 6811097 | 基板処理装置 | 2021年 1月13日 | |
特許 6811144 | プラズマ処理装置の静電チャックを運用する方法 | 2021年 1月13日 | |
特許 6811146 | ガス供給系を検査する方法 | 2021年 1月13日 | |
特許 6811147 | ガス供給系を検査する方法 | 2021年 1月13日 | |
特許 6811202 | エッチングする方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 1月13日 | |
特許 6811247 | 洗浄組成物、洗浄方法、及び半導体の製造方法 | 2021年 1月13日 | |
特許 6812224 | 基板処理装置及び載置台 | 2021年 1月13日 | |
特許 6812264 | 真空処理装置、及びメンテナンス装置 | 2021年 1月13日 | |
特許 6812284 | エッチング方法及び記録媒体 | 2021年 1月13日 | |
特許 6812880 | 基板処理方法及び記憶媒体。 | 2021年 1月13日 | |
特許 6813816 | 接合システムおよび接合方法 | 2021年 1月13日 | |
特許 6807162 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2021年 1月 6日 | |
特許 6807217 | ステージ及び基板処理装置 | 2021年 1月 6日 | |
特許 6807246 | 基板処理装置、および、処理システム | 2021年 1月 6日 |
30 件中 1-15 件を表示
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6811059 6811097 6811144 6811146 6811147 6811202 6811247 6812224 6812264 6812284 6812880 6813816 6807162 6807217 6807246
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