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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第38位 281件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第52位 140件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2021年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6858095 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6858656 | 給電部材及び基板処理装置 | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6858851 | サイクロン捕集器 | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6854187 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6854600 | プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、および基板載置台 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6854611 | 基板処理方法、基板処理装置及び基板処理システム | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6854628 | プラズマ溶射装置及び溶射制御方法 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6854696 | 接合装置および接合方法 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6854844 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6854884 | 塗布処理装置、塗布処理方法及び光学膜形成装置 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6855687 | 基板処理装置、基板処理方法及び基板処理装置のメンテナンス方法及び記憶媒体 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6850627 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6850636 | プラズマ処理装置 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6850645 | プラズマ処理装置 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6850701 | 処理液供給装置、塗布処理装置及び処理液供給装置の供給管の洗浄方法 | 2021年 3月31日 |
142 件中 1-15 件を表示
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6858095 6858656 6858851 6854187 6854600 6854611 6854628 6854696 6854844 6854884 6855687 6850627 6850636 6850645 6850701
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