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東京エレクトロン株式会社
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（
2025年：第35位 629件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第22位 114件
（2025年：第23位 821件）
（ランキング更新日：2026年2月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7818489 | 成膜方法および成膜装置 | 2026年 2月20日 | |
| 特許 7818037 | プラズマ処理装置 | 2026年 2月19日 | |
| 特許 7816866 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7816869 | 搬送システム、搬送装置及び搬送方法 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7816870 | 基板支持部材、基板搬送装置及び基板支持部材の製造方法 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7816871 | 成膜方法及び成膜装置 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7816872 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7816873 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7816874 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7816878 | プラズマ処理装置 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7816879 | 成膜装置及び成膜方法 | 2026年 2月18日 | |
| 特許 7814972 | 重合基板の処理方法及び基板処理システム | 2026年 2月17日 | |
| 特許 7815236 | プラズマ処理装置及び基板支持器 | 2026年 2月17日 | |
| 特許 7815447 | 基板処理システム、基板処理方法及びデバイス構造 | 2026年 2月17日 | |
| 特許 7814200 | 成膜装置および成膜方法 | 2026年 2月16日 |
115 件中 1-15 件を表示
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7818489 7818037 7816866 7816869 7816870 7816871 7816872 7816873 7816874 7816878 7816879 7814972 7815236 7815447 7814200
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