発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

このように、基板（ワーク）を切削するダイシング装置では、サーキュラテーブル上に基板を吸着保持すべく、吸着口に吸引力を発生させるために、配管ブロックの配管継手に真空ポンプを接続している。しかし、基板は表面形状が反っていることがあり、この場合、基板はサーキュラテーブルの吸着面と密着しないことから、吸着口における真空度が低下し、基板が吸着できなくなることがある。 前記基板に対する吸着力を上げるためには、真空ポンプの吸引力を大きくすればよいが、この場合は真空ポンプが大型化してコスト高になる。又、吸着力を上げる他の方法としては、配管の本数を増加させる、或いは、配管の径を大きくする等により、配管全体の通路面積（横断面積）を増大させることも考えられる。 この場合、サーキュラテーブルと一体に回転する配管継手に配管を連結するが、サーキュラテーブルの回転中心部に配管を連結した場合、回転部が貫通していなければならず、また、この貫通部に配管を配設することになる。その結果、該配管の本数や径は、前記貫通部の開口径の大きさに依存する。そのため、複数の配管を配置すると、配管１本当たりの通路面積が小さくなり、それに応じて吸着力も小さくなる。 また、サーキュラテーブルの外周部に複数の配管を束ねて接続した場合は、配管の本数の増加と相俟って配管が捩れたり、或いは、配管同士で表面が擦れて配管が破損したりする。加えて、前記配管により、サーキュラテーブルの回転角の範囲が制限を受けたり、あるいは、サーキュラテーブルが回転する際に、配管から抵抗力を受けて、サーキュラテーブルの回転が妨げられるばかりか、配管が配管継手から外れることもある。 そこで、本発明は問題に鑑み、配管の捩れや破損を防止し、複数のワークを独立して保持でき、かつ、サーキュラテーブルの回転角の制限を無くし、真空発生源を大型化することなく、吸着力を大きくことができるようにするために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

請求項１記載の発明は、サーキュラテーブルの回転とともに配管が回転しないので、配管の本数を増加させても、配管の擦れや破損を招く恐れがないばかりか、サーキュラテーブルの有効な回転角の範囲が制限を受けたり、あるいは、サーキュラテーブルが回転する際に、配管から抵抗力を受けて、サーキュラテーブルの回転が妨げられることもない。 また、複数の各吸着口には独立した吸着力を発生させて、複数のワークを各別に吸着保持でき、この場合、配管の本数や径は任意に設定できるので、真空ポンプを大型化させることなく、吸着力を上げることができる。 請求項２記載の発明は、サーキュラテーブルの下側のデッドスペースを有効利用して、配管ブロックの配設及び配管の敷設を行えるので、請求項１記載の発明の効果に加えて、配管ブロック及び配管の配設のための占有スペースを特別に確保する必要がなく、吸着保持装置全体としてコンパクト設計が可能になる。 請求項３記載の発明は、配管ブロックの外径を大きくして、排気室を形成するための面積が広くなるので、請求項１記載の発明の効果に加えて、排気室の広さに応じて、管路面積の大きな配管継手を採択でき、以て、吸着口の吸着力を一層上げることができる。 請求項４記載の発明は、排気室の円弧形状の中心角に応じて、サーキュラテーブルの吸着可能回転範囲が拡大するので、請求項１記載の発明の効果に加えて、例えば、排気室が２つであれば、各排気室の中心角を最大約１８０度に設定でき、以って、サーキュラテーブルを最大限約１８０度回転させても、ワーク吸着機能を確実に発揮させることができる。 請求項５記載の発明は、吸着口の数に応じて排気室の数が多くなっても、排気室を複数段に分けて一列に配置することで、各排気室の中心角に応じたサーキュラテーブルの吸着可能回転範囲を維持できるので、請求項１記載の発明の効果に加えて、前記吸着可能回転範囲を小さくすることなく、吸着口の数を増加させることができる。