特許6039645 | 知財ポータル「IP Force」

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ サン−ゴバン　グラス　フランスの特許一覧

特許6039645２つの低放射率積層体を備えた断熱多重グレージング

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

目に優しい文字サイズ小中大 PDF Top

< >

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6039645

(24)【登録日】2016年11月11日

(45)【発行日】2016年12月7日

(54)【発明の名称】２つの低放射率積層体を備えた断熱多重グレージング

(51)【国際特許分類】

C03C 27/06 20060101AFI20161128BHJP

B32B 9/00 20060101ALI20161128BHJP

B32B 17/06 20060101ALI20161128BHJP

E06B 3/66 20060101ALI20161128BHJP

C03C 17/34 20060101ALN20161128BHJP

C03C 17/36 20060101ALN20161128BHJP

【ＦＩ】

C03C27/06 101H

B32B9/00 A

B32B17/06

E06B3/66 Z

!C03C17/34 Z

!C03C17/36

【請求項の数】16

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2014-501687(P2014-501687)

(86)(22)【出願日】2012年3月23日

(65)【公表番号】特表2014-514997(P2014-514997A)

(43)【公表日】2014年6月26日

(86)【国際出願番号】FR2012050613

(87)【国際公開番号】WO2012131243

(87)【国際公開日】20121004

【審査請求日】2015年2月19日

(31)【優先権主張番号】1152516

(32)【優先日】2011年3月25日

(33)【優先権主張国】FR

(73)【特許権者】

【識別番号】500374146

【氏名又は名称】サン−ゴバングラスフランス

(74)【代理人】

【識別番号】100099759

【弁理士】

【氏名又は名称】青木篤

(74)【代理人】

【識別番号】100077517

【弁理士】

【氏名又は名称】石田敬

(74)【代理人】

【識別番号】100087413

【弁理士】

【氏名又は名称】古賀哲次

(74)【代理人】

【識別番号】100111903

【弁理士】

【氏名又は名称】永坂友康

(74)【代理人】

【識別番号】100102990

【弁理士】

【氏名又は名称】小林良博

(74)【代理人】

【識別番号】100128495

【弁理士】

【氏名又は名称】出野知

(72)【発明者】

【氏名】アディアジェラルダン

(72)【発明者】

【氏名】バンサンレイモン

【審査官】田中則充

(56)【参考文献】

【文献】米国特許出願公開第２００６／０１１５６５５（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０３Ｃ２７／０６

Ｃ０３Ｃ２７／１２

Ｂ３２Ｂ９／００

Ｂ３２Ｂ１７／０６

Ｅ０６Ｂ３／６６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ガス充填キャビティ（１５）によって隔てられた複数のガラス基材（１０、３０）を結合させることによって得られる断熱特性を有する多重グレージングユニットであって、第１の基材（３０）の前面（２９）がグレージングユニットの外壁を画定し、最後の基材（１０）の背面（１１）がグレージングユニットの内壁を画定し、多重グレージングユニットが、
・少なくとも１つの機能性金属膜を含む第１の低Ｅ膜多層（１２）、及び
・透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含む第２の低Ｅ膜多層（１３）
を含み、第２の多層（１３）が、最後の基材（１０）の背面（１１）に堆積されてグレージングユニットの内壁を形成し、
第１の多層が、最後の基材の他方の面（９）又は該他方の面（９）に対面する基材の面（３１）上に堆積され、
４０〜９０ｎｍの物理的な厚さ有する酸化ケイ素から本質的に作成される膜が、最後のガラス基材（１０）の表面に対し、第２の低Ｅ膜多層（１３）において透明な導電性酸化物から作成される機能膜上に配置される、多重グレージングユニット。

【請求項2】

ガス充填キャビティによって隔てられた２つのガラス基材を結合させることによって得られる二重グレージングユニットである請求項１に記載の多重グレージングユニットであって、第１の基材がグレージングユニットの面１及び２を画定し、第２の基材がグレージングユニットの面３及び４を画定し、二重グレージングユニットが、
・少なくとも１つの機能性金属膜を含み、二重グレージングユニットの面２又は３に堆積される第１の低Ｅ膜多層、及び
・透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含み、二重グレージングユニットの第２の基材の面４に堆積される第２の低Ｅ膜多層
を含み、酸化ケイ素から本質的に作成される膜が、面４上で、第２のガラス基材の表面に対し、第２の低Ｅ膜多層において透明な導電性酸化物から作成される機能膜上に配置される、請求項１に記載の多重グレージングユニット。

【請求項3】

ガス充填キャビティによって隔てられた３つのガラス基材を結合させることによって得られる三重グレージングユニットである請求項１に記載の多重グレージングユニットであって、第１の基材がグレージングユニットの面１及び２を画定し、第２の基材がグレージングユニットの面３及び４を画定し、第３の基材がグレージングユニットの面５及び６を画定し、三重グレージングユニットが、
・少なくとも１つの機能性金属膜を含み、三重グレージングユニットの面４又は５に堆積される第１の低Ｅ膜多層、及び
・透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含み、三重グレージングユニットの第３の基材の面６に堆積される第２の低Ｅ膜多層
を含み、酸化ケイ素から本質的に作成される膜が、面６上で、第３のガラス基材の表面に対し、第２の低Ｅ膜多層において透明な導電性酸化物から作成される機能膜上に配置される、請求項１に記載の多重グレージングユニット。

【請求項4】

酸化ケイ素から本質的に作成される膜がＴＣＯ膜と接触している、請求項１〜３のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項5】

酸化ケイ素から本質的に作成される膜が、第２の低Ｅ膜多層の最も外側の膜である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項6】

酸化ケイ素から本質的に作成される膜の物理的な厚さが４０〜８０ｎｍである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項7】

金属膜が、銀膜又は銀に基づく合金膜である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項8】

透明な導電性酸化物膜が、混合インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素を添加した酸化スズ（ＳｎＯ₂：Ｆ）又はアンチモン（Ｓｂ）を添加した酸化スズ、アルミニウム添加ＺｎＯ（ＡＺＯ）、ガリウム添加ＺｎＯ（ＧＺＯ）、ガリウム及びアルミニウム同時添加ＺｎＯ（ＡＧＺＯ）、及びニオブ添加チタン酸化物（ＴｉＯ₂：Ｎｂ）から選択される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項9】

金属膜の物理的な厚さが６〜１６ｎｍであり、透明な導電性酸化物膜の厚さが５０〜４００ｎｍである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項10】

金属膜の物理的な厚さが６〜１０ｎｍであり、透明な導電性酸化物膜の厚さが８０〜３００ｎｍである、請求項９に記載の多重グレージングユニット。

【請求項11】

金属膜の物理的な厚さが１０〜１２ｎｍであり、透明な導電性酸化物膜の厚さが５０〜２００ｎｍである、請求項９に記載の多重グレージングユニット。

【請求項12】

金属膜の物理的な厚さが１２〜１６ｎｍであり、透明な導電性酸化物の厚さが１００〜４００ｎｍである、請求項９に記載の多重グレージングユニット。

【請求項13】

第２の低Ｅ膜多層が、透明な導電性酸化物から作成される機能膜の下に、少なくとも１つの窒化物に基づく誘電体膜を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項14】

第２の低Ｅ膜多層が、基材の表面から連続して以下の膜、すなわちガラス／窒化ケイ素／酸化ケイ素／ＩＴＯ／任意選択で窒化ケイ素／酸化ケイ素を備え、場合により追加の中間膜がこれらのさまざまな膜の間に挿入される、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項15】

第２の低Ｅ膜多層が、基材の表面から連続して以下の膜、すなわちガラス／酸化ケイ素又は酸炭化ケイ素／ＳｎＯ₂：Ｆ／酸化ケイ素を備え、場合により追加の中間膜がこれらのさまざまな膜の間に挿入される、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の多重グレージングユニット。

【請求項16】

・少なくとも１つの機能性金属膜を含み、基材の第１の面に堆積される第１の低Ｅ膜多層、及び
・透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含み、基材の第２の面に堆積される第２の低Ｅ膜多層
を含み、酸化ケイ素から本質的に作成される膜が、ガラス基材の表面に対し、透明な導電性酸化物から作成される機能膜上に配置される、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の多重グレージングユニットの内壁を形成するのに使用できる基材。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、多重グレージングユニット、特には建築分野のための二重又は三重グレージングユニットであって、太陽放射及び／又は長波長の赤外放射に対して作用することができる機能性金属膜を備えた多重グレージングユニットに関する。

【0002】

本発明は、より詳しくは高い断熱性を提供しかつ高いソーラーファクターを有し、それゆえ主として寒冷気候を対象としたグレージングユニットに関する。

【背景技術】

【0003】

グレージングユニットは、より詳しくは冬場の暖房に必要なエネルギーを削減すること（低Ｅグレージングユニットと呼ばれるもの）や、無料の太陽熱暖房を最大限に利用することを特に視野に入れた建築物を意図している。

【0004】

このようなグレージングユニット、例えば、二重グレージングユニットでは、２つのガラス基材が、例えば、空気、アルゴン又はクリプトンなどの断熱性ガスを充填されたキャビティの輪郭を示すように、スペーサーによって特定の距離に隔てられている。そのため、二重グレージングユニットは、ガス充填キャビティによって隔てられた２つのガラスシート（基材）からなる。したがって、数列４／１２／４は、４ｍｍ厚の２枚のガラスシートと１２ｍｍ厚のガス充填キャビティからなる二重グレージングユニットを意味する。

【0005】

通常、二重グレージングユニットの面は、建物の外側から始まる番号付けがされる。したがって、二重グレージングユニットは４つの面を含んでおり、面１は建築物の外側に存在し（それゆえグレージングユニットの外壁を形成する）、面４は建築物の内側に存在し（それゆえグレージングユニットの内壁を形成する）、そして面２及び３は二重グレージングユニットの内部に存在する。

【0006】

同様に、三重グレージングユニットは６つの面を含んでおり、面１は建築物の外側に存在し（グレージングユニットの外壁）、面６は建築物の内側に存在し（グレージングユニットの内壁）、そして面２〜５は三重グレージングユニットの内部に存在する。

【0007】

公知の方法では、高い断熱性を提供する二重グレージングユニットすなわち断熱グレージングユニット（二重グレージングユニットをＤＧＵと呼ぶことも多い）は、低Ｅ（低放射）特性を有するとされる膜多層を含み、低Ｅ膜多層は、赤外線及び／又は太陽放射を反射できる少なくとも１つの機能性金属膜、特には銀又は金属銀含有合金に基づく少なくとも１つの機能性金属膜を含む。この多層は、通常、二重グレージングユニットの面２又は３に堆積される。

【0008】

このタイプの多層において、機能膜は、それぞれ窒化物（特に窒化ケイ素若しくは窒化アルミニウム）又は酸化物などの誘電体材料から作成される複数の膜を一般にそれぞれ含む２つの反射防止被膜の間に位置していることがほとんどである。

【0009】

このような膜を備えた二重グレージングユニットの例は、例えば、国際公開第２００７／１０１９６４号、欧州特許出願公開第８７７００５号、同第７１８２５０号、仏国特許出願公開第２８５６６２７号、欧州特許出願公開第８４７９６５号、同第１８３０５２号、及び同第２２６９９３号に記載されている。

【0010】

現在、このような膜多層は、膜を堆積するための所与の反応器において、二重グレージングユニットのガラス基材の１つに、堆積されるべき材料又は反応性雰囲気中でスパッタされる金属から作成されるターゲットをマグネトロンスパッタリングすることによって堆積されている。このようなプロセスは、堆積分野においてマグネトロンプロセスと呼ばれている。

【0011】

これらのグレージングユニットの断熱性能は、通常、グレージングユニットの２つの面の間で、単位面積及び単位温度差あたりグレージングユニットを通過する熱量を意味する熱伝達係数Ｕによって与えられる。それゆえ、断熱性二重グレージングユニットでは、外側から内側への熱伝達を最小にすること、すなわちＵ係数を最小にすることが望ましい。

【0012】

本発明によれば、係数Ｕは、国際規格ＩＳＯ１０２９２に記載される条件のもとで測定される。

【0013】

二重グレージングユニットの特性が定量化されるのを可能にする別のパラメーターは、ソーラーファクターＳＦである。それは入射太陽熱に対するグレージングユニットを介して部屋に入ったエネルギーの比と規定される。それはグレージングユニットを通過して直接伝達されたエネルギー束と、グレージングユニットによって吸収され、その後、内側に向かって再放射されるエネルギー束をまとめることによって計算することができる。

【0014】

本発明によれば、係数ＳＦは、国際規格ＩＳＯ９０５０に記載される条件のもとで測定される。

【0015】

公知の方法では、現在の断熱二重グレージングユニットは、ほとんどの場合、放射熱伝達を制限するために、ＤＧＵの面２上又はほとんどの場合ＤＧＵの面３上の少なくとも一方に銀膜を含むことが多い低Ｅ膜多層を含む。この低Ｅ膜の存在はまた、特にそれが二重グレージングユニットの面２に配置された場合に、ソーラーファクターを低減する効果を有する。

【0016】

例として、現在、使用されている機能性銀膜を組み込んでいる市販の多層の特性、並びに面２又は３上にこの多層を含む４／１６（９０％Ａｒ）／４二重グレージングユニットに関して得られるエネルギー及び光学性能基準を下表１に与える。

【0017】

【表1】

【0018】

低Ｅ多層が赤外線及び／又は太陽放射を反射する機能膜を含むＤＧＵもまた先行技術から知られているが、その膜は金属膜ではなく、透明な導電性酸化物（ＴＣＯ）、特にはＩＴＯ（混合インジウムスズ酸化物）又はＳｎＯ₂：Ｆ（フッ素添加酸化スズ）から作成される膜である。１％フッ素を添加した３２０ｎｍ厚ＳｎＯ₂：Ｆ（酸化スズ）機能膜を組み込んだ多層を含むか又は含まない従来のＤＧＵに関して得られるエネルギー及び光学性能を以下表２に与える。

【0019】

【表2】

【0020】

機能膜がＴＣＯから作成される場合、エネルギー伝達係数Ｕは、機能性金属膜が使用されている場合と比べて高いことがわかるが、それは、機能膜がより高い放射率を有するからである。膜が面３上に堆積される場合、ソーラーファクターがこうしたＴＣＯ機能膜の存在によって大きな影響を受けないこともまたわかった。

【0021】

グレージングユニットの異なった面上に２つの多層を含む二重グレージングユニットもまた、特に欧州特許出願公開第６３７５７２号において提供されている。この文献によれば、（その多層の作用が面４に配置された異なった性質の別の低Ｅ膜によって補足される）銀膜を含む第１の低Ｅ多層を二重グレージングユニットの面３に配置することによってエネルギー伝達係数をさらに低減し、そしてＵ＝１．１のＤＧＵを得ることが可能である。

【0022】

グレージングユニットの２つの異なった面上に２つの低Ｅ膜を配置することは、エネルギー透過係数Ｕが有利に低減されることを事実上可能にするが、出願人によって行われた作業では、計測されたソーラーファクターの有意な減少が同時に起こることも示された。

【発明の概要】

【0023】

本発明の目的は、高い断熱性、特には１．１未満、さらには１．０未満のＵ値を有し、一方で高いソーラーファクターを維持する断熱性グレージングユニットを提供することによって上記の問題を解決することである。

【0024】

より詳しくは、本発明は、ガス充填キャビティによって隔てられた複数のガラス基材を結合させることによって得られる断熱特性を有する多重グレージングユニットであって、第１の基材の前面がグレージングユニットの外壁を画定し、最後の基材の背面がグレージングユニットの内壁を画定し、多重グレージングユニットが、
・少なくとも１つの機能性金属膜を含む第１の低Ｅ膜多層、及び
・透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含む第２の低Ｅ膜多層
を含む。

【0025】

本発明によれば、第２の多層は、最後の基材の背面に堆積されてグレージングユニットの内壁を形成し、第１の多層は、最後の基材の他方の面又は該他方の面に対面する基材の面上に堆積される。

【0026】

さらに、酸化ケイ素から本質的に作成される膜は、最後のガラス基材の表面に対し、第２の低Ｅ膜多層において透明な導電性酸化物から作成される機能膜上に配置される。

【0027】

本発明によれば、第２の多層は機能性金属膜を含まない。

【0028】

第１の可能性のある実施態様によれば、本発明は、ガス充填キャビティによって隔てられた２つのガラス基材を結合させることによって得られる断熱特性を有する二重グレージングユニットであって、第１の基材がグレージングユニットの面１及び２を画定し、第２の基材がグレージングユニットの面３及び４を画定し、二重グレージングユニットが、
・少なくとも１つの機能性金属膜を含み、二重グレージングユニットの面２又は３に堆積される第１の低Ｅ膜多層、及び
・透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含み、二重グレージングユニットの第２の基材の面４に堆積される第２の低Ｅ膜多層
を含み、酸化ケイ素から本質的に作成される膜が、面４上で、第２のガラス基材の表面に対し、第２の低Ｅ膜多層において透明な導電性酸化物から作成される機能膜上に配置される二重グレージングユニットに関する。

【0029】

それゆえ、この実施態様によれば、第２の基材の面４はグレージングユニットの内壁を形成し、そこに第２の多層が堆積される。

【0030】

別の実施態様によれば、本発明は、ガス充填キャビティによって隔てられた３つのガラス基材を結合させることによって得られる断熱特性を有する三重グレージングユニットであって、第１の基材がグレージングユニットの面１及び２を画定し、第２の基材がグレージングユニットの面３及び４を画定し、第３の基材がグレージングユニットの面５及び６を画定し、三重グレージングユニットが、
・少なくとも１つの機能性金属膜を含み、三重グレージングユニットの面４又は５に堆積される第１の低Ｅ膜多層、及び
・透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含み、三重グレージングユニットの第３の基材の面６に堆積される第２の低Ｅ膜多層
を含み、酸化ケイ素から本質的に作成される膜が、面６上で、第３のガラス基材の表面に対し、第２の低Ｅ膜多層において透明な導電性酸化物から作成される機能膜上に配置される三重グレージングユニットに関する。

【0031】

それゆえ、この実施態様によれば、第３の基材の面６はグレージングユニットの内壁を形成し、そこに第２の多層が堆積される。

【0032】

本明細書において「酸化ケイ素から本質的に作成される膜」という表現は、酸素とケイ素を含み、かつ単純酸化物組成ＳｉＯ₂及び任意選択で少なくとも１つの他の元素、好ましくはＡｌ、Ｃ、Ｎ、Ｂ、Ｓｎ、Ｚｎからなる群より選択され、非常に好ましくはＡｌ、Ｂ又はＣである少なくとも１つの他の元素に基づく酸化ケイ素を８０ｗｔ％以上含む膜を意味すると理解される。

【0033】

好ましくは、酸化ケイ素から本質的に作成される膜は、上記の規定に従って、同様に単純酸化物組成ＳｉＯ₂に基づく９０ｗｔ％以上の酸化ケイ素を含む。簡潔にするため、このような膜は、本明細書において酸化ケイ素膜又は酸化ケイ素の膜とも呼ばれる。

【0034】

本発明において「ガラス基材」という表現は、単一のガラスシート又はガラスシートの組立体、特には当分野で周知の技術を用いてポリマー中間層、特にはＰＶＢ（ポリビニルブチラール）中間層によって積層構造体と呼ばれるものを形成するように互いに結合された２枚のガラスシートの組立体を意味すると解される。

【0035】

本発明において「多層」という用語は、ガラス基材の表面上に重ねられた少なくとも２つの膜の組立体を意味すると解されるべきである。

【0036】

本発明において「低Ｅ多層」という表現は、Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓｄｅｌ’ｉｎｇｅｎｉｅｕｒ，「Ｖｉｔｒａｇｅａｉｓｏｌａｔｉｏｎｔｈｅｒｍｉｑｕｅｒｅｎｆｏｒｃｅｅ」（「Ｇｌａｚｉｎｇｕｎｉｔｗｉｔｈｅｎｈａｎｃｅｄｔｈｅｒｍａｌｉｓｏｌａｔｉｏｎ」），Ｃ３６３５に記載される意味において上記の多層を備えたガラス壁からの垂直放射率ε_nを低減することが当分野で知られている任意の多層を意味すると解される。

【0037】

とりわけ、少なくとも１つの機能性金属膜を含む第１の低Ｅ多層は、有利には０．１以下、好ましくは０．０８以下、非常に有利には０．０５以下の垂直放射率ε_nを結果として生じる多層から選択される。

【0038】

透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含む第２の低Ｅ多層は、有利には０．７以下、好ましくは０．５以下、非常に有利には０．４以下の垂直放射率ε_nを結果として生じる多層から選択される。

【0039】

本発明において「と接触している」などの表現は、言及された２つの膜の間に中間膜がないことを意味すると解される。

【0040】

このような多重グレージングユニットの好ましい実施態様によれば、必要に応じて、以下の特徴を組み合わせることができることは言うまでもない。
・酸化ケイ素を本質的に含む膜はＴＣＯ膜と接触している。しかしながら、本発明の範囲から逸脱することなく、第２の多層においてＴＣＯ膜と酸化ケイ素を本質的に含む膜の間に中間膜を配置することもでき、この膜は、例えば、窒化ケイ素、窒化アルミニウム又はこれら２つの材料の合金から作成される。
・酸化ケイ素から本質的に作成される膜は、第２の低Ｅ膜多層の最も外側の膜である。
・酸化ケイ素から本質的に作成される膜の物理的な厚さは４０〜９０ｎｍ、好ましくは４０〜８０ｎｍである。
・金属膜は、銀膜又は銀に基づく合金膜である。
・透明な導電性酸化物膜は、混合インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、特にはＩｎ₂Ｏ₃／ＳｎＯ₂質量比が９０／１０以上のＩＴＯ、フッ素を添加した酸化スズ（ＳｎＯ₂：Ｆ）又はアンチモン（Ｓｂ）を添加した酸化スズ、アルミニウム添加ＺｎＯ（ＡＺＯ）、ガリウム添加ＺｎＯ（ＧＺＯ）、ガリウム及びアルミニウム同時添加ＺｎＯ（ＡＧＺＯ）、及びニオブ添加チタン酸化物（ＴｉＯ₂：Ｎｂ）から選択される。
・金属膜の物理的な厚さは６〜１６ｎｍであり、透明な導電性酸化物膜の厚さは５０〜４００ｎｍである。
・金属膜の物理的な厚さは６〜１０ｎｍであり、透明な導電性酸化物膜の厚さは８０〜３００ｎｍである。
・金属膜の物理的な厚さは１０〜１２ｎｍであり、透明な導電性酸化物膜の厚さは５０〜２００ｎｍである。
・金属膜の物理的な厚さは１２〜１６ｎｍであり、透明な導電性酸化物の厚さは１００〜４００ｎｍである。
・第２の低Ｅ膜多層は、透明な導電性酸化物から作成される機能膜の下に、少なくとも１つの窒化物に基づく誘電体膜、特には窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムから作成される少なくとも１つの窒化物に基づく誘電体膜を含む。
・第２の低Ｅ膜多層は、基材の表面から連続して以下の膜、すなわちガラス／窒化ケイ素／酸化ケイ素／ＩＴＯ／任意選択で窒化ケイ素／酸化ケイ素を備え、場合により追加の中間膜がこれらのさまざまな膜の間に挿入される。
・第２の低Ｅ膜多層は、基材の表面から連続して以下の膜、すなわちガラス／酸化ケイ素又は酸炭化ケイ素／ＳｎＯ₂：Ｆ／酸化ケイ素を備え、場合により追加の中間膜がこれらのさまざまな膜の間に挿入される。

【0041】

本発明はまた、
・少なくとも１つの機能性金属膜を含み、基材の第１の面に堆積される第１の低Ｅ膜多層、及び
・透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含み、基材の第２の面に堆積される第２の低Ｅ膜多層
を含み、酸化ケイ素から本質的に作成される膜が、第２の低Ｅ膜多層において、第２のガラス基材の表面に対し、透明な導電性酸化物から作成される機能膜上に配置される、上記の多重グレージングユニットの内壁を形成するのに使用できる基材に関する。

【0042】

本発明の別の主題はまた、断熱多重グレージングユニットの製造において、当該グレージングユニットの内壁を形成する先に記載したような基材の使用である。

【図面の簡単な説明】

【0043】

（原文に記載なし）

【発明を実施するための形態】

【0044】

本発明の詳細及び有利な特徴は、基材１０、３０をそれぞれ形成する、２枚のガラスシートを含む二重グレージングユニット（ＤＧＵ）１の一実施態様の図解を示す図１を使用して例示する、以下の限定的でない例により明確になる。２つの基材は、スペーサー及びフレーム２０、２１によって分離され、適所にしっかり保持され、かつ、互いに向かい合っており、そしてその組立体では、中間にあるガス充填キャビティ１５を形成する閉鎖空間の範囲を定めている。本発明によれば、ガスは、空気であっても、アルゴンであっても、クリプトンであってもよい（又はこれらのガスの混合物であてもよい）。

【0045】

図中では左から右に向いている二重矢印によって示された、建築物内に入ってくる太陽光線の入射方向が考慮されるとき、第１のガラスシート（基材３０）は外側に向いている。図１では、このシートは、中間にあるガス充填キャビティに向いているその背面３１がコーティングでコートされていない。グレージングユニット１の外壁も形成する前側２９（「面１」と呼ばれる）は、むき出しであっても、あるいは、例えば欧州特許出願公開第８５０２０４号に記載の自浄コーティングなど、又は例えば国際公開第２００７／１１５７９６号若しくは国際公開第２００９／１０６８６４号に記載の「抗凝結」コーティングなどの別のコーティングでコートされていてもよい。

【0046】

建築物に入ってくる太陽光線の入射方向が考慮されるとき、建築物の内側の最も近くに配置された他のガラスシートが第２の基材１０を形成する。この基材１０は、中間にあるガス充填キャビティに向いているその前側９が少なくとも１つの公知の銀に基づく（低Ｅ）機能膜を含む膜多層１２からなる断熱性低Ｅコーティングによってコートされている（したがって、銀含有低Ｅ多層は二重グレージングユニットの内面「面３」上に配置される）。

【0047】

グレージングユニット１の内壁も形成する基材１０の背面１１は、透明な導電性酸化物から作成される少なくとも１つの機能膜を含む、先に記載したタイプのものとは別の低Ｅ膜多層１３でコートされている。

【0048】

図面では、さまざまな膜の厚さは、明瞭性を考えて原寸に比例して示されていない。

【0049】

本発明の範囲から逸脱することなく、多層１２はまた、二重グレージングユニット１の面２に配置することもできる。

【0050】

本発明とその利点は、以下の限定的でない例を読むことにより、もっとよく理解される。

【0051】

以下のすべての例において、低Ｅ膜多層を、Ｐｌａｎｉｌｕｘ（登録商標）という商品名で出願企業によって販売されている透明なソーダ石灰ガラス上に堆積される。

【0052】

以下のすべての例において、製造した二重グレージングユニットでは、膜多層を、それぞれ面３及び面４上、すなわち、建築物に入ってくる太陽光線の入射方向を考慮したときに建築物の内側の最も近くに位置するガラス基材上に配置した。

【0053】

例に従って製造したすべての二重グレージングユニット（ＤＧＵ）は、４／１６（９０％Ａｒ）／４の立体配置を有していた、すなわち、それらは９０％のアルゴンと１０％の空気で満たされた１６ｍｍ厚の中間キャビティによって隔てられた２枚の４ｍｍ厚のＰｌａｎｉｌｕｘ（登録商標）透明ガラスシートから成り、そして組立体はフレーム２０とスペーサー２１によって適所にしっかり保持された。

【0054】

すべての例において、ＤＧＵの面３に配置された低Ｅ多層は、現在市販されている多層を代表するものとして先に記載されたものだった（表１）。

【0055】

本発明によれば、ＤＧＵの面４に配置された低Ｅ多層は、その機能膜が透明な導電性酸化物ＴＣＯから作成される低Ｅ多層であった。例において、本発明を実施する利点を実証するために、多層内に存在するさまざまな膜の性質を変化させた。

【0056】

機能膜としてフッ素添加ＳｎＯ₂を含む多層を除き、２つの多層のすべての膜は、真空中でターゲットをマグネトロンスパッタリングすることにより従来公知の方法において堆積することができる。

【0057】

以下の表３では、例１〜３のさまざまな膜を堆積させるのに使用されるマグネトロンスパッタリングプロセスの一般条件を順に並べる。

【0058】

【表3】