特許6049051両面真空成膜方法

発明の名称　両面真空成膜方法

出願人　日東電工株式会社　（識別番号 3964）

　　　　特許公開件数ランキング 47 位（175件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 46 位（153件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6049051

公報発行日　2016年12月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6049051

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