特許6049051IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

成膜方法、特に、長尺の基体の両面に真空成膜を行うことができる両面真空成膜方法、及び該方法によって得られる積層体

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

機能性フィルムに要求される層構成は、それら機能性フィルムを適用する装置等毎に異なることがあり、また、機能性フィルムに要求される性能等によっても異なることがある。このため、単純な装置構成を用いて、例えば、両面に真空成膜が施された層構成を、効率的に、且つ、安価に製造できる、成膜方法の開発が所望される。 しかしながら、特許文献2や特許文献3等に開示された技術では、両面成膜を行うことは可能であっても、両面成膜を行うにあたり、脱ガス処理や、アニール処理、成膜処理といった各種の処理を、具体的にどのように施しているのか明らかでなく、また、これらの処理を、多様な積層体構造に応じて柔軟に施すことができる装置構成とはなっていない。このため、例えば、成膜が行われた後に、加熱処理等が十分に行われず、成膜された膜材料が完全に結晶化できないといった問題が生じるおそれがある。 また、これら従来の装置では、ターゲットが回転ドラムに対して所定の距離を隔てて固定されており、これらカソード電極によって支持されているターゲット等にメンテナンスを行うために成膜作業を中断する必要があり、この結果、作業効率が悪化するという問題等も有していた。 本発明は、これら従来技術における問題点を解決するためになされたものであり、ロールツーロール技術の下、単純な装置構成を用いて、適当な位置で適宜加熱処理等を施すことにより、特に両面真空成膜の最適化を図り、両面に真空成膜が施された積層体を、効率的に、且つ、安価に製造できる、成膜方法を提供することを目的とする。 また、例えば、メンテナンスが必要なカソード電極を、必要な成膜作業を継続しつつ所定の成膜室から取り除くことができるようにして、成膜作業の効率化を図ることができる成膜方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

目的を達成する本発明は、長尺の基体に連続的に真空成膜を行って膜材料の積層体を製造する方法であって、a) ロール状に巻かれた長尺の基体を第1の面を被成膜面として第1ロール室から第2ロール室へ向う方向に前記第1ロール室から繰り出す段階、b) 前記方向に繰り出された前記基体を脱ガスする段階、c) 前記脱ガスされた前記基体の前記第1の面に第1成膜室に設置された第1の回転ドラムを用いて第1の・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、単純な装置構成を用いて、両面に真空成膜が施された積層体を、効率的に、且つ、安価に製造できる、成膜方法が提供される。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明による成膜方法を実施することができる成膜装置の一例を示す図である。

【図2】本発明による成膜方法によって得られる積層体の構成例を示す図である。

【図3】本発明による成膜方法の下で可能なカソード電極の配置を示す図である。

【図4】本成膜方法を実施することができる他の装置構成を示す図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1 成膜装置   10 基体   13 ロードロック   14 仕切り   29 ガイドロール   31 加熱室   40 プラズマ処理装置   41 第1成膜室   42 第2成膜室   51 第1回転ドラム   52 第2回転ドラム   60 本体   61 第1カソード電極   83 切替ロール   W1 第1ロール室   W2 第2ロール室   W3 第3ロール室

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