特許6049560IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

開示の塗布装置およびスリットノズル

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

スリットコート法において塗布速度を上げると、塗布液が途切れやすくなり、均一な塗布膜を形成しにくくなる。このため、基板とスリットノズルとの間隔を狭くして塗布液を途切れにくくすることが考えられるが、基板とスリットノズルとの間隔を狭くすると、膜厚が薄くなるという問題がある。 実施形態の一態様は、膜厚を薄くすることなく塗布速度を上げることのできる塗布装置およびスリットノズルを提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

実施形態の一態様に係る塗布装置は、スリットノズルと、移動機構とを備える。スリットノズルは、スリット状の吐出口が形成されたノズル先端部を有し、吐出口から塗布液を吐出する。移動機構は、スリットノズルを基板に対して相対的に移動させる。また、ノズル先端部は、第1リップ部と、第2リップ部と、仕切部材とを備える。第1リップ部は、スリットノズルの相対的な移動方向に対して後方側に設けられる。第2リップ部は、・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
実施形態の一態様によれば、膜厚を薄くすることなく塗布速度を上げることができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】図1は、本塗布装置の構成を示す模式側面図である。

【図2】図2は、塗布処理の概略説明図である。

【図3】図3は、スリットノズルの模式側断面図である。

【図4】図4は、ノズル先端部周辺の模式拡大図である。

【図5】図5は、図3のAA矢視断面図である。

【図6】図6は、スリットノズルの周辺機器の構成を説明するための模式図である。

【図7A】図7Aは、塗布処理の説明図である。

【図7B】図7Bは、塗布処理の説明図である。

【図8A】図8Aは、第1の変形例に係るスリットノズルの模式側断面図である。

【図8B】図8Bは、第2の変形例に係るスリットノズルの模式側断面図である。

【図8C】図8Cは、第3の変形例に係るスリットノズルの模式側断面図である。

【図8D】図8Dは、第4の変形例に係るスリットノズルの模式側断面図である。

【図8E】図8Eは、第5の変形例に係るスリットノズルの模式側断面図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

W 基板   R 塗布液   S 貯留部   P 流路   P1 第1流路   P2 第2流路   E 吐出口   E1 第1吐出口   E2 第2吐出口   1 塗布装置   6 ノズル先端部   20 第1の移動機構   30 スリットノズル   31 第1壁部   32 第2壁部   33 蓋部   34 ランド部   35 第3壁部   61 第1リップ部   62 第2リップ部   63 仕切部材

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