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公報発行日 2016年12月21
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【図1(A)】高屈折率物質層と、高屈折率物質層の上の勾配帯と、勾配帯の上の低屈折率層とを含む単一の勾配付き多層区画であって、方向転換区画とコリメーション区画とを含むように構成されている単一の勾配付き多層区画の実施形態の一例の詳細断面図である。
【図1(B)】第一の層が高屈折率物質層であり、第Nの層が低屈折率物質層であるn層を有する単一の勾配区画の線図である。
【図2】発散性X線源の出力をコリメートされたX線ファン・ビームに形成するのに用いられる勾配付き多数物質層を含む多層光学装置の詳細等角図である。
【図3】付加的な勾配付き多層区画を含む図2の光学装置の詳細等角図である。
【図4】曲面を近似する複数の平坦面を含む多層光学装置の実施形態の一例の詳細等角図である。
【図5】発散性X線ビーム入力から実質的に発散性のX線ビーム出力を発生するように構成されている単一の勾配付き多層区画の実施形態の一例の詳細断面図である。
【図6】発散性X線ビーム入力から実質的に収束性のX線ビーム出力を発生するように構成されている単一の多層区画の実施形態の一例の詳細断面図である。
【図7】矩形断面を有し、ファン形ビームを発生するのに用いられる勾配付き多層光学装置の模式図である。
【図8】各々円形断面を有し、ファン形ビームを発生するように構成されている勾配付き多層光学装置の一次元アレイの模式図である。
【図9】高屈折率層と、低屈折率層と、対を成す当該勾配層の間に同じ又は異なる高屈折率の層が介設されている複数の勾配層から成る勾配帯とによる多層区画を有する勾配付き多層物質積層体の実施形態の一例の詳細断面図である。
【図10】1又は複数の複合勾配層を有する勾配付き多層物質積層体であって、各々の複合勾配層が不連続な勾配副次層を含み、各々の勾配副次層が二つの成分物質を含み、各々の成分物質が異なる実数屈折率を有する勾配付き多層物質積層体の実施形態の一例の詳細断面図である。
【図11】図10の勾配付き多層物質積層体の例示的な実施形態に対する代替形態の詳細断面図であって、二つの成分物質の非分離型の分布を有する勾配副次層を示す図である。
【図12】本発明の一実施形態による二重エネルギ走査システムのターゲットと共に用いられる一対の勾配付き多層光学装置の模式図である。
【図13】勾配付き多層光学装置を用いた計算機式断層写真法イメージング・システムの一例の図である。
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