特許6054345IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

半導体装置及び半導体装置の製造方法に関し、特にパワー半導体素子を搭載した半導体装置及び半導体装置の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ところで、近年のIGBTにおいては、高パワー化がさらに進み、動作時において、IGBTの主電極間に大電流が通電する。そして、当該大電流の通電によって相当量の熱が発熱する。 図21に示す半導体装置においても大電流が流れると導電性ポスト等が熱膨張等により変形し、半導体装置としての信頼性が低下することが考えられる。
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、さらに高信頼性で、優れた動作特性を有し、且つ高い生産性を有する半導体装置及びそのような半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明では課題を解決するために、主面に第1の金属箔及び第2の金属箔が導通して形成された絶縁板と、表面電極及び裏面電極を有し、前記裏面電極が前記第1の金属箔上に接合された半導体素子と、前記絶縁板の前記主面に対向するように配置されたプリント基板と、前記プリント基板の主面に形成された第3の金属箔と、前記半導体素子の前記表面電極とを電気的に接続するように、前記表面電極が位置する領域直上の前記プリ・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
により、高信頼性で、優れた動作特性を有し、且つ高い生産性を有する半導体装置及びそのような半導体装置の製造方法が実現する。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】半導体装置の構造を説明する要部模式図である。

【図2】半導体装置の構造を説明する要部断面模式図である。

【図3】プリント基板の全体構造を説明する要部図である。

【図4】プリント基板の表面側の構造を説明する要部図である。

【図5】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その1)。

【図6】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その2)。

【図7】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その3)。

【図8】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その4)。

【図9】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その5)。

【図10】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その6)。

【図11】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その7)。

【図12】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その8)。

【図13】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その9)。

【図14】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その10)。

【図15】半導体装置の製造方法の一工程を説明する要部断面模式図である(その11)。

【図16】半導体装置の構造の変形例を説明する要部断面模式図である(その1)。

【図17】半導体装置の構造の変形例を説明する要部断面模式図である(その2)。

【図18】半導体装置の構造の変形例を説明する要部模式図である(その1)。

【図19】半導体装置の構造の変形例を説明する要部模式図である(その2)。

【図20】パッケージ型タイプの半導体装置の要部模式図である。

【図21】金属ワイヤレス構造の半導体装置の模式図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1 半導体装置   2 半導体モジュール   10 絶縁基板   10a 絶縁板   10b,10c,10d,10e,30b,30c,30ba,30ca,30j,30ja,30jb,30jc,30k,30l,30m,37 金属箔   10ca,30e,30g,30n ポスト電極   11,12,13,30i 半田層   11a,12a,13a 半田材   20a エミッタ電極   20,21 半導体素子   30 プリント基板   30a 樹脂層   30d,30f スルーホール   30h 筒状めっき層   30bb 孔部   31 保護層   32,36,38 貫通孔   33 IC回路部   34 コンデンサ部   35 抵抗部   40 アンダーフィル材   41 封止材   50,52,53 下冶具   51,54 上冶具   60,61,62 リードフレーム   70 樹脂ケース

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