特許 6073995 タッチ表示パネル

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6073995

(24)【登録日】2017年1月13日

(45)【発行日】2017年2月1日

(54)【発明の名称】タッチ表示パネル

(51)【国際特許分類】

   G06F 3/041 20060101AFI20170123BHJP

   G06F 3/044 20060101ALI20170123BHJP

【ＦＩ】

   G06F3/041 422

   G06F3/041 412

   G06F3/044 124

【請求項の数】10

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2015-156347(P2015-156347)

(22)【出願日】2015年8月6日

(65)【公開番号】特開2017-10507(P2017-10507A)

(43)【公開日】2017年1月12日

【審査請求日】2015年8月6日

(31)【優先権主張番号】104120106

(32)【優先日】2015年6月23日

(33)【優先権主張国】TW

(73)【特許権者】

【識別番号】510134581

【氏名又は名称】群創光電股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】Ｉｎｎｏｌｕｘ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ

(74)【代理人】

【識別番号】110000383

【氏名又は名称】特許業務法人 エビス国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】王 宗裕

(72)【発明者】

【氏名】陳 培杰

(72)【発明者】

【氏名】王 兆祥

【審査官】 松田 岳士

(56)【参考文献】

【文献】 米国特許出願公開第２０１４／０２６７０８６（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 登録実用新案第３１９３５４５（ＪＰ，Ｕ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０６Ｆ ３／０３

３／０４１−３／０４７

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板と、
前記基板上に設置される第１電極層と、
前記基板上に設置され、前記第１電極層に電気的に接続され、複数の感応電極を含み、各前記感応電極が互いに接続される複数の第１導電線及び複数の第２導電線を含み、これらの第１導電線が第１方向に平行し、これらの第２導電線が第２方向に平行し、かつ前記第１方向と前記第２方向が互いに異なるように構成した第２電極層と、
を備え、
近接する２つの前記感応電極の一方における最外側の前記第１導電線は、互いに接続される少なくとも１つの第１エッジ及び少なくとも１つの第２エッジを有し、前記第１エッジは他方の前記感応電極の前記第２導電線に対向し、かつ前記第１エッジは弧線であり、前記第２方向において前記第２エッジより突出しまたは陥凹することを特徴とするタッチ表示パネル。

【請求項2】

前記第１エッジは前記第１方向において第１最大幅を有し、前記第１エッジに対応する前記第２導電線は、前記第１最大幅と異なる導線幅を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチ表示パネル。

【請求項3】

前記導線幅は前記第１最大幅より小さいことを特徴とする請求項２に記載のタッチ表示パネル。

【請求項4】

前記第１エッジが前記第２エッジより突出/陥凹する範囲は前記第２方向において第２最大幅を有し、前記第１導電線は前記第２最大幅より大きい導線幅を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチ表示パネル。

【請求項5】

前記第１エッジは前記第１方向において第１最大幅を有し、前記第１エッジに対応する前記第２導電線は、前記第１最大幅と同じである導線幅を有し、前記第１エッジが前記第２エッジより突出/陥凹する範囲は、前記第２方向において第２最大幅を有し、前記第１導電線は前記第２最大幅より大きい導線幅を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチ表示パネル。

【請求項6】

近接する２つの前記感応電極の一方における最外側の前記第１導電線は、さらに互いに接続される複数の第１エッジ及び複数の第２エッジを有し、これらの第１エッジとこれらの第２エッジは互いに交差することを特徴とする請求項１に記載のタッチ表示パネル。

【請求項7】

これらの第１エッジは、他方の前記感応電極のこれらの第２導電線に対向することを特徴とする請求項６に記載のタッチ表示パネル。

【請求項8】

近接する２つの前記感応電極の一方における最外側の前記第１導電線は、さらに複数の第１エッジ及び複数の第２エッジを有し、これらの第１エッジは互いに近接し、これらの第２エッジは、これらの第１エッジ間の接続箇所として前記第２方向においてこれらの第１エッジより突出し、これらの接続箇所とこれらの第１エッジは交差して互いに接続されることを特徴とする請求項１に記載のタッチ表示パネル。

【請求項9】

前記第１エッジに対応する前記第２導電線は、
弧形エッジを有することを特徴とする請求項１に記載のタッチ表示パネル。

【請求項10】

前記第１電極層の材料は透明導電材料であり、前記第２電極層の材料は金属材料であることを特徴とする請求項１に記載のタッチ表示パネル。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明はタッチ技術に関し、特に、インセル型（Ｉｎ−ｃｅｌｌ）タッチ表示パネルに関する。

【背景技術】

【0002】

今、タッチパネルの技術発展は非常に多様化になり、静電容量式タッチパネルは高正確性、マルチタッチ及び高タッチ解像度等の特徴を持ち、現在のミドル・ハイ・レベルの消費性電子製品に用いられるタッチの主流技術となる。

【0003】

一体型（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ）タッチ表示パネルについて、タッチ検出電極及び表示パネルの整合方法により以下の３つのタイプに区分する。タッチ検出電極が表示パネルの外表面に製造されるタイプ（一般に、オンセル型（Ｏｎ−ｃｅｌｌ）タッチ表示パネルと称する）は、例えば、タッチ検出電極をカラーフィルター基板が使用者に向かう一側に製造する。また、タッチ検出電極をタッチパネル上に製造し、表示パネルに貼り合せるタイプ（一般に、アウトセル型（Ｏｕｔ−ｃｅｌｌ）タッチ表示パネルと称する）は、その厚みが厚い。さらに、もう１つのタイプはタッチ検出電極と表示パネルの表示画素とが積み重なる内の構成を共用し、例えば、表示パネルのコモン電極をタッチ検出電極とし（一般に、インセル型（Ｉｎ−ｃｅｌｌ）タッチ表示パネルと称する）、その整合度が高く、かつ厚みが小さい。

【0004】

インセル型タッチ表示パネルが薄肉であり、表示パネルと整合できるメリットは、各メーカーの技術発展の要点となっている。

【発明の概要】

【0005】

本発明の目的は、タッチ検出電極の駆動能力及び検出感度を改善できるインセル型（Ｉｎ−ｃｅｌｌ）タッチ表示パネルを提供することにある。

【0006】

本発明の実施例が提供するタッチ表示パネルは、基板と、前記基板上に設置される第１電極層と、前記基板上に設置され、前記第１電極層に電気的に接続され、複数の感応電極を含み、各前記感応電極が互いに接続される複数の第１導電線及び複数の第２導電線を含み、これらの第１導電線が第１方向に平行し、これらの第２導電線は第２方向に平行し、かつ前記第１方向が前記第２方向と異なるように構成した第２電極層とを備え、近接する２つの前記感応電極の一方における最外側の前記第１導電線は、互いに接続される少なくとも１つの第１エッジ及び少なくとも１つの第２エッジを有し、前記第１エッジは他方の前記感応電極の前記第２導電線に対向し、かつ前記第１エッジは弧線であり、前記第２方向において前記第２エッジより突出し、または陥凹している。

【0007】

実施例において、前記第１エッジは前記第１方向において第１最大幅を有し、前記第１エッジに対応する前記第２導電線は前記第１最大幅と異なっている導線幅を有する。

【0008】

実施例において、前記導線幅は前記第１最大幅より小さい。

【0009】

実施例において、前記第１エッジが前記第２エッジより突出/陥凹する範囲は前記第２方向において第２最大幅を有し、前記第１導電線は前記第２最大幅より大きい導線幅を有する。

【0010】

実施例において、前記第１エッジは前記第１方向において第１最大幅を有し、前記第１エッジに対応する前記第２導電線は、前記第１最大幅と同じである導線幅を有し、また前記第１エッジが前記第２エッジより突出/陥凹する範囲は前記第２方向において第２最大幅を有し、前記第１導電線は前記第２最大幅より大きい導線幅を有する。

【0011】

実施例において、近接する２つの前記感応電極の一方における最外側の前記第１導電線は、さらに互いに接続される複数の第１エッジ及び複数の第２エッジを有し、かつこれらの第１エッジとこれらの第２エッジとは互いに交差する。

【0012】

実施例において、これらの第１エッジは他方の前記感応電極のこれらの第２導電線に対向する。

【0013】

実施例において、近接する２つの前記感応電極の一方における最外側の前記第１導電線は、さらに複数の第１エッジ及び複数の第２エッジを有し、これらの第１エッジは互いに近接し、これらの第２エッジはこれらの第１エッジ間の接続箇所として前記第２方向においてこれらの第１エッジより突出し、これらの接続箇所とこれらの第１エッジとは交差して互いに接続される。

【0014】

実施例において、前記第１エッジに対応する前記第２導電線は弧形エッジを有する。

【0015】

実施例において、前記第１電極層の材料は透明導電材料であり、前記第２電極層の材料は金属材料である。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】本発明の実施例によるタッチ表示パネルのタッチユニットを示す上面図である。

【図2】本発明の実施例によるタッチ検出電極のコモン電極及び導線を示す上面図である。

【図3A】図２において駆動電極部分に位置する表示画素を示す断面図である。

【図3B】図２において検出電極ユニット中に位置する表示画素を示す断面図である。

【図4】本発明の実施例によるタッチ検出電極のコモン電極層及び第３金属層を示す上面図である。

【図5A】本発明の異なる実施例による図４においてＡ部分を示す拡大図である。

【図5B】本発明の異なる実施例による図４においてＡ部分を示す拡大図である。

【図5C】本発明の異なる実施例による図４においてＡ部分を示す拡大図である。

【図5D】本発明の異なる実施例による図４においてＡ部分を示す拡大図である。

【図5E】本発明の異なる実施例による図４においてＡ部分を示す拡大図である。

【図5F】本発明の異なる実施例による図４においてＡ部分を示す拡大図である。

【図6】相互容量式タッチ技術を示す等価回路図である。

【図7】自己容量式のタッチ表示パネルを示す上面図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

本発明の上記及び他の目的、特徴及びメリットを明瞭にするように、以下、好適な実施例を挙げて、図面を参照し、次のように詳細に説明する。

【0018】

以下に説明する本発明の様々な実施例において、所謂の方位「上」、「下」はただ相対の位置関係を表し、本発明を限定するものではない。第１材料層が第２材料層上に位置すると記載する場合に、第１材料層と第２材料層とが直接接触する、あるいは１つまたは複数の他の材料層を隔てる場合を含む。

【0019】

また、図面または明細書の記載において、類似または同一の要素は同一符号を用いる。図面において、簡素または利便のために、実施例の形状または厚みを拡大してもよい。図面に示さないまたは明細書に記載しない素子は、当業者により知られる形態である。

【0020】

まず説明したいのは、本発明の目的がタッチ検出電極の駆動能力及び検出感度を改善できるインセル型（Ｉｎ−ｃｅｌｌ）タッチ表示パネルを提供することにある。

【0021】

インセル型タッチ表示パネルについて、そのタッチ検出電極が表示パネルの表示画素積み重ね内に整合される。つまり、表示パネルの元の構成は適当に設計されてタッチ検出できる構成になる。例えば、表示パネルはフリンジフィールドスイッチング型（ｆｒｉｎｇｅ−ｆｉｅｌｄ ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＦＦＳ）表示パネルであると、タッチ検出電極としてＦＦＳ表示パネルのコモン電極を用いてもよい。明瞭されたいのは、表示画素積み重ねは通常、導電材料（例えば、金属、透明導体）、半導体材料（例えば、ポリシリコン（Ｐｏｌｙ−Ｓｉ）及び誘電材料（例えば、ＳｉＯ_２）の沈積、遮蔽、エッチング、混合等の製造工程により形成されてもよく、また、表示画素積み重ね内に形成される一部の素子は、消費性電子製品の表示器に影像を生じるように、タッチ表示パネルの表示システムの回路として動作してもよく、表示器上または表示器に近接する１つまたは複数のタッチ位置を検出するように、他の素子はタッチ検出システムの回路として動作してもよい。

【0022】

図１を参照し、図１は本発明の実施例によるタッチ表示パネルのタッチユニットを示す上面図である。ＦＦＳ表示パネルを例とし（これにより限られない）、タッチ表示パネル１はコモン電極（ｃｏｍｍｏｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）を複数のタッチ検出電極になすようにパターン化して、これらのタッチ検出電極は相互容量式（ｍｕｔｕａｌ−ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ）のタッチ検出構成になるように電気的に接続されてもよく、即ち、当該タッチ検出電極は複数の駆動電極ユニット１０及び複数の検出電極ユニット２０を含み、ここで、駆動電極ユニット１０は複数列に形成されるが、検出電極ユニット２０は複数行に形成されるが（互いに直交する）、本発明はこれによって限定されない。また、各駆動電極ユニット１０は複数の駆動電極部分１２により構成され、かつこれらの駆動電極部分１２は接続ライン１４（点線で示す）及び接続点１６により電気的に接続され、ここで、接続ライン１４は検出電極ユニット２０を避けて、検出電極ユニット２０に電気的に接続されなくてもよい。

【0023】

これによって、駆動電極ユニット１０及び検出電極ユニット２０の間にエッジ容量効果が形成され、この形態でタッチ表示パネル１の複数のタッチ検出ノード３０（タッチ画素とも称する）を形成する。例えば、駆動信号（例えば、ＡＣ波形）を提供することによって駆動電極ユニット１０を励起し、それに近接する検出電極ユニット２０とともに相互容量（ｍｕｔｕａｌ−ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）をタッチ画素３０の列と行との間に形成する。物（例えば、指またはタッチペン）がタッチ画素３０に接近する際、タッチ画素３０の列と行との間に結合される一部の電荷が当該物に結合し、タッチ画素３０の列と行との間に渡る電力線を低減させ、タッチ画素３０に結合される電圧波形を変更させ（例えば、小さくなる）、これによって、当該物のタッチ位置を検出する。

【0024】

図２は本発明の実施例によるタッチ検出電極のコモン電極及び導線を示す上面図である。図２に示すように、本実施例のタッチ検出電極は複数の表示画素に対応し、コモン電極４０はタッチ表示パネルの表示画素積み重ね内の表示システムの回路素子であってもよく、かつ表示システムの他の回路素子、例えば、画素電極と配合して動作し、影像を表示する。了解されたいのは、コモン電極４０がタッチ表示パネルの表示画素に対応する。また、コモン電極４０は他のコモン電極４０とともにタッチ表示パネルのタッチ検出電極として動作してもよい。例えば、コモン電極４０は組に分けることによってタッチ検出電極の駆動電極部分１２及び検出電極ユニット２０における部分（図１及び図２）を形成する。つまり、各駆動電極部分１２は複数のコモン電極４０を含んでもよく、かつ各駆動電極部分１２における複数のコモン電極４０は共同して電気的に接続されてもよい。同じく、各検出電極ユニット２０におけるコモン電極４０は共同して電気的に接続されてもよい。これによって、各コモン電極４０は多機能回路素子であってもよく、かつ表示段階及びタッチ検出段階の両者において動作し、表示段階及びタッチ検出段階は時分割多重化である。

【0025】

第１及び２図を参照し続け、本実施例のタッチ検出電極はさらに、第１方向（例えば、ｘ方向）に沿う複数の第１金属線５２及び第２方向（例えば、ｙ方向）に沿う複数の第２金属線５４を含む。具体的には、タッチ検出電極の各駆動電極部分１２において、各コモン電極４０は第１金属線５２及び第２金属線５４により互いに接続され、かつ同一列（ｘ方向上）に位置する駆動電極部分１２は検出電極ユニット２０に渡る（即ち、電気的に接続されない）第１金属線５２（図１の接続ライン１４に相当）により接続されて駆動電極ユニット１０を形成する。また、同一行（ｙ方向上）に位置して近接する駆動電極部分１２の第２金属線５４は開路（ｏｐｅｎ ｃｉｒｃｕｉｔ）５４Ａを含む。タッチ検出電極の各検出電極ユニット２０において、各コモン電極４０は開路を含まない第２金属線５４により互いに接続され、また検出電極ユニット２０における複数の第２金属線５４は外部接続（図示せず）により互いに接続される。これによって、上記の水平方向に沿う第１金属線５２及び垂直方向に沿う第２金属線５４は容量形態でタッチ検出パネルのタッチ画素３０を形成できる。例えば、タッチ検出段階期間において、第１金属線５２は駆動信号を伝達して駆動電極ユニット１０を励起し、かつ励起された駆動電極ユニット１０と検出電極ユニット２０との間に電界が形成されてタッチ画素３０を生じる。

【0026】

了解されたいのは、上記の導線（駆動電極ユニット１０及び検出電極ユニット２０を含む）は実際に、表示画素積み重ね内のコモン電極４０の下方に形成する。そして、図３Ａを参照し、図３Ａは図２において駆動電極部分１２中に位置する表示画素６０を示す断面図である。図３Ａに示すように、表示画素６０の表示画素積み重ねは上から下まで、第１金属層Ｍ１中に形成されるゲート電極線６０２及び第１金属線５２、第２金属層Ｍ２中に形成されるソース電極線６０４、ドレイン電極線６０６及び第２金属線５４、及び第１、第２金属層Ｍ１及びＭ２の上方に形成されるコモン電極４０及び少なくとも１つの表示画素電極６０８が含まれる。さらに具体的には、ゲート電極線６０２及び第１金属線５２はゲート電極誘電層Ｉ１上に形成されてゲート電極カバー層Ｉ２により覆われ、ここで、ゲート電極誘電層Ｉ１内に半導体通路層６１０を有し、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）Ｔの通路を形成することに用いられる。ソース電極線６０４、ドレイン電極線６０６及び第２金属線５４はゲート電極カバー層Ｉ２上に形成され、ここで、ソース電極線６０４及びドレイン電極線６０６は導電材料から構成される導電柱Ｖにより半導体通路層６１０に接続され、かつ第２金属線５４は導電柱Ｖにより第１金属線５２に接続されてもよい。また、ソース電極線６０４、ドレイン電極線６０６及び第２金属線５４は層間絶縁層Ｉ３により覆われ、コモン電極４０は層間絶縁層Ｉ３上に形成されて導電柱Ｖにより第２金属線５４に接続される。また、コモン電極４０は層間絶縁層Ｉ４により覆われ、表示画素電極６０８は層間絶縁層Ｉ４上に形成されて導電柱Ｖによりドレイン電極線６０６に接続される。

【0027】

補充して説明するのは、使用者が液晶層上方から表示器を見るために、液晶層（図示せず）がさらに表示画素電極６０８上に設置されてもよい。また、基板（図示せず）は表示画素６０の表示画素積み重ねの底部に設置され、上記の表示画素積み重ね内の様々な素子を支持することに用いられ、ここで、基板は有機または無機基板であってもよく、有機基板は可塑化材料により製造され、無機基板はガラス材料により製造されてもよい。コモン電極４０及び表示画素電極６０８は透明導電材料（例えば、ＩＴＯ）により形成されてもよい。ゲート電極誘電層Ｉ１、ゲート電極カバー層Ｉ２、層間絶縁層Ｉ３及び層間絶縁層Ｉ４の材料は酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化シリコンまたは上記の組み合わせであってもよい。

【0028】

図３Ｂは図２において検出電極ユニット２０中に位置する表示画素６２を示す断面図であり、ここで、図３Ｂと図３Ａとの相違点は第２金属線５４及び第１金属線５２が導電柱Ｖにより接続されないことである。図２〜図３Ｂによれば、タッチ検出電極の駆動電極部分１２の表示画素６０において、第１金属線５２、第２金属線５４及びコモン電極４０は互いに電気的に接続されるが、検出電極ユニット２０の表示画素６２において、第２金属線５４のみがコモン電極４０に電気的に接続されることが分かる。

【0029】

図３Ａ及び第図３Ｂに示す構成により、タッチ検出段階期間において表示器上または表示器に接近する１つまたは複数のタッチ位置を検出するために、第１金属線５２、第２金属線５４、コモン電極４０及び導電柱Ｖはタッチ表示パネルのタッチ検出電極として動作してもよい。表示段階期間において表示器に影像を表示するために、薄膜トランジスタＴ（ゲート電極線６０２、ドレイン電極線６０６及びデータ線とするソース電極線６０４を含む）、表示画素電極６０８、コモン電極４０及び導電柱Ｖはタッチ表示パネルの表示回路として動作してもよい。

【0030】

特に記載したいのは、図３Ａ及び第図３Ｂに示す構成はＦＦＳパネル技術に基づいて設計するものであるが、横電界切替型（Ｉｎ−ｐａｎｅｌ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＩＰＳ）及び垂直配向型（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ，ＶＡ）パネル技術により設計してもよい。

【0031】

図３Ａ及び図３Ｂを参照し続け、本実施例のタッチ表示パネルの表示画素積み重ねはさらに、コモン電極４０上に形成されてコモン電極４０に電気的に接続される第３金属層Ｍ３を含む。ここで、第３金属層Ｍ３（金属材料から形成される）の抵抗はコモン電極４０（ＩＴＯから形成される）の抵抗より小さく、第３金属層Ｍ３は、例えば、金、銀、銅またはその合金から選ばれてもよく、または多層金属により積み重なってもよく、例えば、モリブデン／アルミニウム／モリブデン三層から構成され、このため、タッチ検出電極の全体抵抗を効果的に低減でき、タッチ検出電極の駆動能力及び感度を向上させる。

【0032】

図４は本発明の実施例によるタッチ検出電極のコモン電極層（即ち、図３Ａにおいて素子符号４０により示される層構成は、複数のコモン電極４０から構成されてもよい）及び第３金属層Ｍ３を示す上面図である。図４に示すように、コモン電極層（第１電極層）上方に位置する第３金属層Ｍ３（第２電極層、図３Ａ及び図３Ｂにおける第３金属層Ｍ３に相当）は開路７０により離間される複数の感応電極を含み、ここで、各感応電極は互いに接続されて第１方向（例えば、ｘ方向）に沿う複数の第１導電線７２及び第２方向（例えば、ｙ方向）に沿う複数の第２導電線７４を含む。各駆動電極部分１２及び各検出電極ユニット２０において、第１導電線７２及び第２導電線７４は各コモン電極４０に接続されてもよい。了解されたいのは、第３金属層Ｍ３の第１導電線７２及び第２導電線７４の位置は図２に示す第１金属線５２及び第２金属線５４の位置におおよそ位置合わせる。他の実施例において、上記第１方向は第２方向と異なってもよく、互に直交することに限定されない。

【0033】

そして、図５Ａ〜図５Ｆを参照し、図５Ａ〜図５Ｆは本発明の異なる実施例による図４においてＡ部分を示す拡大図である。図面を簡素にして本発明の特徴を明瞭にするために、図５Ａ〜図５Ｆにおいて第１導電線７２及び第２導電線７４下方に位置するコモン電極４０を省略する。

【0034】

特に説明したいのは、図４及び図５Ａをともに参照し、第２方向（ｙ方向）に沿って近接する２つの駆動電極部分１２における感応電極の一方（例えば、図５Ａにおいて下方の感応電極）において、最外側の第１導電線７２は互いに接続される少なくとも１つの第１エッジＥ１及び少なくとも１つの第２エッジＥ２を有する。本実施例において、上記の最外側の第１導電線７２は互いに接続されてかつ互いに交差する複数の第１エッジＥ１及び複数の第２エッジＥ２を有する。また、第１エッジＥ１は上記の第２方向に沿って近接する２つの駆動電極部分１２における感応電極の他方（例えば、図５Ａにおいて上方の感応電極）の第２導電線７４に対応する。

【0035】

図５Ａに示すように、本実施例の特徴は、最外側の第１導電線７２の第１エッジＥ１は弧線であり、かつ第２方向において第２エッジＥ２より突出する。さらに具体的には、第１エッジＥ１は第１方向（ｘ方向）において第１最大幅Ｗ１を有し、第１エッジＥ１に対応する第２導電線７４は導線幅Ｗ２を有し、ここで、第２導電線７４の導線幅Ｗ２は第１エッジＥ１の第１最大幅Ｗ１にほぼ同一である。また、第１エッジＥ１が第２エッジＥ２より突出する範囲は第２方向において第２最大幅Ｗ３を有し、第１導電線７２が導線幅Ｗ４を有し、ここで、導線幅Ｗ４が第２最大幅Ｗ３より大きい。

【0036】

図５Ｂを参照し、図５Ｂの実施例と図５Ａとの相違点は、最外側の第１導電線７２の第１エッジＥ１が第２方向（ｙ方向）において第２エッジＥ２よりやや突出する。さらに具体的には、図５Ｂに示す第１エッジＥ１の第１最大幅Ｗ１は第２導電線７４の導線幅Ｗ２より大きいが、第１導電線７２の導線幅Ｗ４は第１エッジＥ１が第２エッジＥ２より突出する範囲が第２方向において第２最大幅Ｗ３より大きいが、上記の第２最大幅Ｗ３は図５Ａに示す第２最大幅Ｗ３より小さい。

【0037】

再び図５Ａ及び図５Ｂを参照し、従来の第１エッジＥ１と第２エッジＥ２とが位置合わせるように設計される場合に比べて、並び前記従来の設計が本発明の図５Ａ及び図５Ｂと比較する条件を同一基準にし、例えば、第１導電線７２と第２導電線７４との間の距離が変更されない場合に、従来の設計はただ本発明の第１エッジＥ１の突出を第２エッジＥ２に位置合わせる設計に変更されるものであり、このようにして、本発明の図５Ａ及び図５Ｂの設計は第１導電線７２と第２導電線７４との間の浮遊容量を前記従来の設計より小さくにする。

【0038】

図５Ｃを参照し、図５Ｃの実施例と図５Ａとの相違点は、最外側の第１導電線７２の第１エッジＥ１が第２方向（ｙ方向）において第２エッジＥ２より陥凹する。さらに具体的には、図５Ｃに示す第１エッジＥ１の第１最大幅Ｗ１は第２導電線７４の導線幅Ｗ２にほぼ同一であるが、第１導電線７２の導線幅Ｗ４は第１エッジＥ１が第２エッジＥ２より陥凹する範囲が第２方向において第２最大幅Ｗ３より大きい。

【0039】

図５Ｄを参照し、図５Ｄの実施例と図５Ｃとの相違点は、最外側の第１導電線７２の第１エッジＥ１が第２方向（ｙ方向）において第２エッジＥ２よりやや陥凹する。さらに具体的には、図５Ｄに示す第１エッジＥ１の第１最大幅Ｗ１は第２導電線７４の導線幅Ｗ２より大きいが、第１導電線７２の導線幅Ｗ４は第１エッジＥ１が第２エッジＥ２より陥凹する範囲がｙ方向（または第２方向）において第２最大幅Ｗ３より大きいが、上記の第２最大幅Ｗ３は図５Ｃに示す第２最大幅Ｗ３より小さい。

【0040】

図５Ｅを参照し、図５Ｅの実施例と図５Ｄとの相違点は、最外側の第１導電線７２の近接する第１エッジＥ１は直接接続されて、かつその接続箇所Ｃ（第２エッジＥ２）は第２方向（ｙ方向）において第１エッジＥ１よりやや突出する。また、接続箇所Ｃ及び第１エッジＥ１は交差（ａｌｔｅｒｎａｔｉｖｅ）して互いに接続される。

【0041】

図５Ｃ〜図５Ｅを参照し、従来の設計は第１エッジＥ１が第２エッジＥ２に位置合わせる場合に比べて、並びに前記従来の設計と本発明図５Ｃ〜図５Ｅとの比較条件を同一基準にし、例えば、第１導電線７２と第２導電線７４との間の距離は変更されない場合に、従来の設計はただ本発明の第２エッジＥ２の突出（第１エッジに対する）を第１エッジＥ１の凹みの最低部位に位置合わせる設計であり、このようにして、本発明の図５Ｃ〜図５Ｅの設計は第１導電線７２と第２導電線７４との間の浮遊容量を前記従来の設計より小さくにする。

【0042】

図５Ｆを参照し、図５Ｆの実施例と図５Ａとの相違点は、最外側の第１導電線７２の第１エッジＥ１に対応する他の感応電極の第２導電線７４の端部は同様に弧形エッジを有する。同じく、上記の図５Ｂ〜図５Ｅにおいて、最外側の第１導電線７２の第１エッジＥ１に対応する他の感応電極の第２導電線７４の端部は弧形エッジを有する。

【0043】

前記によれば、図５Ａ〜図５Ｆに示す構成により、従来の設計に比べて、第３金属層Ｍ３において近接する駆動電極部分１２における感応電極の間の距離を変更させない条件下で、両者の間の浮遊容量（ｓｔｒａｙ ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）を小さくにすることができる。図５Ａ〜図５Ｆに示すように、上方に位置する感応電極の第２導電線７４と下方に位置する感応電極における最外側の第１導電線７２の弧形エッジＥ１との間の電力線経路Ｐを長くにすることができ、このようにして、近接する感応電極の間の容量を小さくにして、さらにタッチ検出電極の駆動能力及び検出感度を改善できる。

【0044】

図６を参照し、図６は相互容量式タッチ技術を示す等価回路図であり、主に近接する２つの駆動電極部分１２の間に形成される駆動電極容量Ｃ１、検出電極ユニット２０が形成する検出電極容量Ｃ２、近接する駆動電極部分１２及び検出電極ユニット２０が形成する相互容量Ｃ３及びライン抵抗Ｒを含む。了解されたいのは、この等価回路は本質的に、ＲＣ回路（ＲＣ ｃｉｒｃｕｉｔ）であるため、上記の浮遊する容量Ｃ１が小さくなる時、ＲＣ回路の充放電時間を短縮することに有利であり、かつタッチ検出電極の駆動能力及び検出感度を更に向上させることができる。

【0045】

特に記載したいのは、ある実施例において、駆動電極容量Ｃ１を小さくにして、タッチ検出電極の駆動能力及び検出感度を更に向上させるために、近接する駆動電極部分１２における第１金属線５２及び第２金属線５４（図２）は上記の第１導電線７２及び第２導電線７４に同一の構成設計を有してもよい。

【0046】

上記の実施例のタッチ検出電極は相互容量式のフレームワークであるが、自己容量式（ｓｅｌｆ−ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ）のフレームワークであってもよい。図７を参照し、図７は自己容量式のタッチ表示パネルを示す上面図である。図７に示すように、自己容量式のタッチ表示パネル１’のタッチ検出電極は複数の互いに電気的に隔離されるコモン電極４０を含み、タッチ位置（各コモン電極４０がタッチ画素に相当）を個別に検出することに用いられる。さらに具体的には、各コモン電極４０は金属導線Ｗに接続され、かつ各金属導線Ｗは外部制御チップ（図示せず）に接続されてもよい。物（手指またはタッチペン）は各コモン電極４０に近接する際に、各コモン電極４０と当該物との間に容量が形成され、この容量が充放電の速度に影響を与えるため、この外部制御チップはこれにより当該物のタッチ位置を判断する。同じく、自己容量式のタッチ表示パネル１’において、タッチ検出電極の全体抵抗を低減するために、コモン電極層（これらのコモン電極４０から構成される）上方に第３金属層（図示せず）が設置されてもよく、かつ近接するコモン電極４０上方の第３金属層において接続されない感応電極が弧形エッジを有するように設計され、このようにして、第３金属層において近接する感応電極の間の距離を変更させない条件下で、両者の間の浮遊容量を小さくにし、さらにタッチ検出電極の駆動能力及び検出感度を改善できる。

【0047】

たとえ本発明は上記のような実施例により開示されたが、本発明を限定する意図はない。当業者は、本発明の精神及び範囲から脱逸しない限り、変更または修飾してもよい。したがって、本発明の保護範囲は特許請求の範囲を基準とするものである。

【符号の説明】

【0048】

１、１’：タッチ表示パネル
１０：駆動電極ユニット
１２：駆動電極部分
１４：接続ライン
１６：接続点
２０：検出電極ユニット
３０：タッチ検出ノード、タッチ画素
４０：コモン電極、コモン電極層、第１電極層
５２：第１金属線
５４：第２金属線
５４Ａ：開路
６０、６２：表示画素
６０２：ゲート電極線
６０４：ソース電極線
６０６：ドレイン電極線
６０８：表示画素電極
６１０：半導体通路層
７０：開路
７２：第１導電線
７４：第２導電線
Ｃ：接続箇所
Ｃ１：駆動電極容量
Ｃ２：検出電極容量
Ｃ３：相互容量
Ｅ１：第１エッジ
Ｅ２：第２エッジ
Ｉ１：ゲート電極誘電層
Ｉ２：ゲート電極カバー層
Ｉ３：層間絶縁層
Ｉ４：層間絶縁層
Ｍ１：第１金属層
Ｍ２：第２金属層
Ｍ３：第３金属層、第２電極層
Ｐ：電力経路
Ｒ：ライン抵抗
Ｗ：金属導線
Ｗ１：第１最大幅
Ｗ２：導線幅
Ｗ３：第２最大幅
Ｗ４：導線幅
Ｔ：薄膜トランジスタ
Ｖ：導電柱

【図1】

【図2】

【図3A】

【図3B】

【図4】

【図5A】

【図5B】

【図5C】

【図5D】

【図5E】

【図5F】

【図6】

【図7】