特許 6087529 二軸配向積層ポリエステルフィルムおよびそれを用いた塗布型磁気記録テープ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6087529

(24)【登録日】2017年2月10日

(45)【発行日】2017年3月1日

(54)【発明の名称】二軸配向積層ポリエステルフィルムおよびそれを用いた塗布型磁気記録テープ

(51)【国際特許分類】

   B32B 27/36 20060101AFI20170220BHJP

   G11B 5/78 20060101ALI20170220BHJP

   G11B 5/73 20060101ALI20170220BHJP

【ＦＩ】

   B32B27/36

   G11B5/78

   G11B5/73

【請求項の数】9

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2012-162813(P2012-162813)

(22)【出願日】2012年7月23日

(65)【公開番号】特開2014-19138(P2014-19138A)

(43)【公開日】2014年2月3日

【審査請求日】2015年4月17日

(73)【特許権者】

【識別番号】301020226

【氏名又は名称】帝人フィルムソリューション株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100169085

【弁理士】

【氏名又は名称】為山 太郎

(72)【発明者】

【氏名】田中 良敬

(72)【発明者】

【氏名】渡邊 真哉

【審査官】 小石 真弓

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２００７／０９１３８１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開平０５−２１２７８８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２１８６８４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｇ１１Ｂ ５／６２−５／８２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

フィルム層Ａとフィルム層Ｂからなる二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、フィルム層Ａは粒径分布曲線を見たときに、単一のピークを有する平均粒子径０．０５−０．２μｍの不活性粒子Ａを５０ｐｐｍ（質量基準）以上含有し、その表面粗さ（ＲａＡ）が１．５ｎｍ以下であり、他方のフィルム層Ｂは粒径分布曲線を見たときに、単一のピークを有する不活性粒子Ａと同じ平均粒子径の不活性粒子Ｂを含有し、その表面粗さ（ＲａＢ）が２．０ｎｍ以上６．０ｎｍ以下の範囲であり、フィルム層Ａの地肌指数が８０〜９９．９９％の範囲で、ベアリングカーブの落差が１０−３０ｎｍの範囲であり、かつ二軸配向積層ポリエステルフィルムのフィルム幅方向における１３０℃３０分での熱収縮率が３％以下であることを特徴とする二軸配向積層ポリエステルフィルム。

【請求項2】

ポリエステルがエチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とする請求項１記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。

【請求項3】

厚みが２．０μｍ以上８．０μｍである請求項１記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。

【請求項4】

フィルム層Ａの厚みｔＡ（μｍ）と、フィルム層Ｂの厚みｔＢ（μｍ）の比（ｔＡ／ｔＢ）が、０．５以上９以下である請求項１記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。

【請求項5】

フィルム層Ａの厚みｔＡ（μｍ）と、含有する不活性粒子Ｂの平均粒子径ＤｐＢ（μｍ）の比（ｔＡ／ＤｐＢ）が、１５以上である請求項４記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。

【請求項6】

フィルム製膜方向における１３０℃での熱収縮率が３％以下である請求項１記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。

【請求項7】

フィルム製膜方向のヤング率が５ＧＰａ以上である請求項１記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。

【請求項8】

含有する不活性粒子が球状シリカ粒子、架橋ポリスチレン粒子、シリコーン粒子、シリカーアクリル複合粒子のいずれかである請求項１記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。

【請求項9】

請求項１〜８のいずれかに記載の二軸配向積層ポリエステルフィルムと、その磁性層を形成する側の表面に塗布形成された磁性層とからなる塗布型磁気記録テープ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、データストレージなどの塗布型磁気記録テープのベースフィルムなど、極めて平坦な表面を有しながらも高温での加工性に優れる二軸配向積層ポリエステルフィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

ポリエステルフィルムは、比較的安価で、優れた機械的特性を有することから磁気記録テープのベースフィルムに用いられてきた。そして、磁気記録テープのベースフィルムに用いる場合、ポリエステルフィルムには粗大な突起や欠点がない平坦な表面を有することが求められる。一方、磁性層をポリエステルフィルムに塗布して形成する塗布型磁気記録テープでは、ベースフィルムの巻取性や塗布工程でのハンドリング性が不安定であると、均一な磁性層を効率的に製造することができず、ポリエステルフィルムに滑剤としての粒子を含有させて、表面に突起などを形成することが求められる。この２つの要求は相反するものであり、これらの要求を満たすために、特許文献１〜５には、表面欠点を低減するために触媒種を特定のものにすること、フィルム中に含有させる粒子として粗大粒子の少ないものを用いること、およびそのような処理を行った表面欠点の少ないフィルムが提案されている。また特許文献６〜７には、空間周波数に着目したベースフィルムのウネリ成分を低減することで原反形状の安定化や磁気記録媒体としての電磁変換特性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムの提案がなされている。

【0003】

しかしながら、近年の高密度記録の要求はすさまじく、特に記録容量が極めて高いデータストレージなどの塗布型磁気記録テープでは、前述の特許文献１〜５で表面欠点がないとされたフィルムや特許文献６〜７でウネリが少ないとされたフィルムでも十分に応えられなくなってきた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００４−１１４４９２号公報

【特許文献2】特開２００３−２９１２８８号公報

【特許文献3】特開２００２−３６３３１１号公報

【特許文献4】特開２００２−３６３３１０号公報

【特許文献5】特開２００２−０５９５２０号公報

【特許文献6】特開２００１−３４１２６５号公報

【特許文献7】特開２００４−０９１７５３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明の目的は、極めて表面の平坦な塗膜層を高速で形成しようとすると、塗膜層をより高温で乾燥させる必要があるが、搬送ロールに貼りついたりフィルムがシワになったり、その高速化にはかなりの制限がある中で、表面粗さが１．５ｎｍ以下のような極めて平坦な表面を有しながらも、転写による表面の荒れが少なく、しかも例えばポリエステルのガラス転移温度を超えるような高温での加工性に優れる二軸配向積層ポリエステルフィルムを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明者らは上記課題を解決しようと鋭意研究した結果、磁性層を形成する表面を極めて平坦に仕上げたとしても、該フィルムの熱収縮率を低減させ、かつ磁性層を形成する表面と他方の表面に同一粒径の粒子を用いることで、転写による表面荒れも少なく、搬送性などの加工性も具備した二軸配積層向ポリエステルフィルムを提供できることを発見し、本発明に到達した。

【0007】

かくして本発明によれば、フィルム層Ａとフィルム層Ｂからなる二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、フィルム層Ａは粒径分布曲線を見たときに、単一のピークを有する平均粒子径０．０５−０．２μｍの不活性粒子Ａを５０ｐｐｍ（質量基準）以上含有し、その表面粗さ（ＲａＡ）が１．５ｎｍ以下であり、他方のフィルム層Ｂは粒径分布曲線を見たときに、単一のピークを有する不活性粒子Ａと同じ平均粒子径の不活性粒子Ｂを含有し、その表面粗さ（ＲａＢ）が２．０ｎｍ以上６．０ｎｍ以下の範囲であり、フィルム層Ａの地肌指数が８０〜９９．９９％の範囲で、ベアリングカーブの落差が１０−３０ｎｍの範囲であり、かつ二軸配向積層ポリエステルフィルムのフィルム幅方向における１３０℃３０分での熱収縮率が３％以下であることを特徴とする二軸配向積層ポリエステルフィルムが提供される。

【0008】

また、本発明によれば、本発明の好ましい態様として、ポリエステルがエチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とすること、厚みが２．０μｍ以上８．０μｍ以下であること、フィルム層Ａの厚みｔＡ（μｍ）と、フィルム層Ｂの厚みｔＢ（μｍ）の比（ｔＡ／ｔＢ）が、０．５以上９以下であること、フィルム層Ａの厚みｔＡ（μｍ）と、含有する不活性粒子Ｂの平均粒子径ＤｐＢ（μｍ）の比（ｔＡ／ＤｐＢ）が、１５以上であこと、フィルムの縦方向の１３０℃での熱収縮率が３％以下であること、フィルムの縦方向のヤング率が５ＧＰａ以上であること、含有する不活性粒子が球状シリカ粒子、架橋ポリスチレン粒子、シリコーン粒子、シリカーアクリル複合粒子のいずれかであることの少なくとも１つを具備する二軸配向ポリエステルフィルムも提供され、さらに本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムと、その磁性層を形成する側の表面に塗布形成された磁性層とからなる塗布型磁気記録テープも提供される。

【発明の効果】

【0009】

本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、極めて平坦な表面を有するという優れた表面性を有しながらも、塗布の高温環境でも低い熱収縮率であることから工程ロールへの接触時に折れシワなどの問題が起こらず、実用上必要な搬送性などの加工性も具備し、しかも塗布型磁気記録テープ、特にデータストレージのベースフィルムに用いたときに、エラーとなる微小な表面欠点までも低減され、転写による表面荒れも抑制し、電磁変換特性に優れたデータストレージを提供することができる。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、本発明について、詳述する。なお、説明の便宜上、フィルムの製膜方向を、機械軸方向、縦方向、長手方向、ＭＤ方向と称することがあり、製膜方向と厚み方向とに直交する方向を、幅方向、横方向、ＴＤ方向と称することがある。

【0011】

本発明におけるポリエステルは、フィルムへの製膜が可能なものであれば、それ自体公知のものを採用できる。例えば、ジオール成分と芳香族ジカルボン酸成分との重縮合によって得られる芳香族ポリエステルが好ましい。かかる芳香族ジカルボン酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸などの６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸が挙げられる。また、かかるジオール成分としては、例えばエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオールが挙げられる。

【0012】

これらの中でも、高温での加工時の寸法安定性の点からは、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするものが好ましく、特にエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするものが好ましい。ここでいう主たるとは、好ましくは６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、さらに９０モル％以上を意味する。

【0013】

また、より環境変化に対する寸法安定性を向上させる観点から、国際公開２００８／０９６６１２号パンフレットに記載された６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分、６，６’−（トリメチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分および６，６’−（ブチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分などの６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合したものも挙げられる。好ましい（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分の共重合量は、全ジカルボン酸成分のモル数を基準として、５〜４０モル％の範囲、さらに６〜３５モル％の範囲、特に７〜３０モル％の範囲である。なお、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合する場合は、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート成分と、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分との合計量が、全酸成分の９０モル％以上であることが好ましい。

【0014】

本発明におけるポリエステルは、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を含有しない場合はο−クロロフェノール中、３５℃において、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を含有する場合はＰ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０重量比）の混合溶媒中、３５℃において、測定したときの固有粘度が０．４０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．４０〜１．０ｄｌ／ｇであることがさらに好ましい。固有粘度が０．４ｄｌ／ｇ未満ではフィルム製膜時に切断が多発したり、成形加工後の製品の強度が不足したりすることがある。一方、固有粘度が１．０ｄｌ／ｇを超える場合は重合時の生産性が低下する。

【0015】

本発明におけるポリエステルの融点は、２００〜３００℃であることが好ましく、更に好ましくは２１０〜２９０℃、特に好ましくは２２０〜２８０℃である。融点が下限に満たないと二軸配向フィルムの耐熱性が不十分な場合があり、融点が上限を超える場合は溶融混練する際の温度が非常に高温になり、熱劣化などを引き起こしやすくなる。

【0016】

なお、本発明におけるポリエステルは、本発明の効果を損なわない範囲で、それ自体公知の他の共重合成分をさらに共重合、例えば繰り返し単位のモル数に対して１０モル％以下、さらに５モル％以下の範囲で共重合していてもよいし、他の熱可塑性樹脂などを、例えば２０重量％以下、さらに１０重量％以下の範囲でブレンドしても良い。

【0017】

ところで、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、上述のポリエステルから製造できるが、巻取りや搬送などの加工特性を実用上問題ない範囲で維持しつつ、データストレージにしたときの電磁変換特性を高度に維持させる観点から、フィルム層Ａは平均粒子径０．０５−０．２μｍの粒子を、フィルム層Ａの質量を基準として、５０ｐｐｍ以上含有しつつ表面粗さ（ＲａＡ）が１．５ｎｍ以下である必要がある。平均粒子径がこの範囲より小さい場合や、含有量が少ない場合は、搬送性が悪化してフィルムにスクラッチと称されるキズが入りやすくなり、エラーレートやドロップアウトの悪化を招く。また、粒子径や表面粗さ（ＲａＡ）がこれらの範囲を超える場合、例えば記憶容量が３ＴＢ以上などの高記録密度のデータストレージのベースフィルムに用いると、表面が粗くなりすぎてしまい、電磁変換特性が悪化してしまう。好ましい平均粒子径の範囲は、０．０６−０．２μｍ、更に好ましくは０．０８−０．１８μｍである。また、好ましい含有量の範囲は、５５ｐｐｍ以上、より好ましくは６０ｐｐｍ以上、更に好ましくは６５ｐｐｍ以上、特に好ましくは７０ｐｐｍ以上である。表面粗さ（ＲａＡ）の好ましい範囲は、１．４ｎｍ以下、更に好ましくは１．３ｎｍ以下である。

【0018】

他方、フィルム層Ｂは、搬送性などの加工特性を実用上問題ない範囲で維持しつつ、データストレージにしたときの電磁変換特性やドロップアウトを高度に維持する観点から、フィルム層Ｂは不活性粒子Ａと同じ平均粒子径の不活性粒子Ｂを含有し、その表面粗さ（ＲａＢ）が２．０〜６．０ｎｍの範囲にあることが必要である。好ましいＢ層の表面粗さ（ＲａＢ）の下限は、２．２ｎｍ、さらに２．５ｎｍ、特に４．０ｎｍであり、上限は５．８ｎｍある。平均粒子径がこの範囲より小さい場合や、表面粗さ（ＲａＢ）が小さい場合は、搬送性が悪化してフィルムにスクラッチと称されるキズが入りやすくなり、エラーレートやドロップアウトの悪化を招く。また、粒子径や表面粗さ（ＲａＢ）がこれらの範囲を超える場合、例えば記憶容量が３ＴＢ以上などの高記録密度のデータストレージのベースフィルムに用いると、巻き取ってロール状にした際にかかる応力によってフィルム層Ｂの粗さがフィルム層Ａに転写することでフィルム層Ａの表面を粗くしてしまうという問題を引き起こす。

【0019】

含有させる粒子としては、もともと粗大粒子を含まないか含有するとしても極めて少ない粒子が好ましい。そのため、粒径分布曲線がシャープなものにしやすく、一次粒子の状態で存在しやすい粒子が好ましく、シリコーン粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子などの有機高分子粒子および球状シリカ粒子、シリカと有機高分子の複合体粒子、からなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましく、特にシリコーン粒子、架橋ポリスチレン粒子および球状シリカ粒子、シリカーアクリルの複合体粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましい。もちろん、これらの粒子を含有させる場合は、さらに粗大粒子をなくすため、フィルターでのろ過を行ったり、分散剤で粒子の表面を処理したり、押出機での混練を強化することが好ましい。

【0020】

これらの粒子は、磁性層を形成する表面と形成しない面で、粒子の種類が同じでもおとなっていてもよいが、同じであることが、回収の容易さや転写を抑制するなどの点から好ましい。なお、本発明における平均粒子径が同じとは、粒子の平均粒子径（μｍ）を算出する際に、小数点三桁目を四捨五入して算出した小数点以下２桁までの値が同じであること、すなわち、平均粒子径が０．０１μｍ以上の大きさで異ならないことを意味する。例えば、磁性層を形成する面と、磁性層を形成しない面に同じ平均粒子径を有する粒子を添加すると、表面に形成する粒子による突起が同様の高さを有するため、磁性層を形成しない表面から形成する表面への転写が抑制されたり、フィルムを回収して再利用する場合、どちらの層にも再利用ができたりする。

【0021】

ところで、上記粒子は、粒子の粒径分布曲線を見たときの全粒子の粒子径の相対標準偏差が２０％以下、さらに１５％以下であることが必要である。そういった観点から、粒径分布曲線を見たときに、単一のピークを有することが好ましい。ピークが単一かどうかは、横軸に粒子径、縦軸に粒子頻度の粒径分布曲線を作成し、横軸の粒子径の測定ピッチを０．０１μｍとしたとき、ピークが１つしかないか、ピークが複数あったとしても、ピークとピークとの間に低いピークの方の高さに対して５０％以下となる凹みが存在しないことを意味する。

【0022】

つぎに、ポリエステルフィルムの製造方法について説明する。まず、本発明におけるポリエステルの製造方法は、例えば芳香族ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体とアルキレングリコールとをエステル化反応もしくはエステル交換反応させてポリエステルの前駆体を合成する第一反応と、該前駆体を重縮合反応させる第二反応とからなり、それ自体公知の方法を採用できる。

【0023】

好ましい第一反応の条件については、常圧下で行ってもよいが、０．０５ＭＰａ〜０．５ＭＰａの加圧下で行うことが反応速度をより速めやすいことから好ましい。また、第一反応の温度は、２１０℃〜２７０℃の範囲で行うことが好ましい。反応圧力を上記範囲内とすることで反応の進行を進みやすくしつつ、ジアルキレングリコールに代表される副生物の発生を抑制できる。このとき、アルキレングリコール成分は、第一反応を行う反応系に存在する酸成分に対し１．１〜６モル倍用いることが、反応速度及び樹脂の物性維持の点から好ましい。より好ましくは２〜５モル倍、さらに好ましくは３〜５モル倍である。

【0024】

また、第一反応の反応速度をより早くするには、それ自体公知の触媒を用いることが好ましく、たとえばＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｍｎ、Ｃｏ、Ｔｉなどの金属成分を有する金属化合物が好ましく挙げられ、これらの中でも加圧下で行う場合は、反応の進みやすさの点からＭｎやＴｉ化合物が好ましい。特にＭｎ化合物は、含有させる不活性粒子の分散性をより向上させやすいことから好ましい。

【0025】

添加する触媒量は、第一反応中に存在する全酸成分のモル数を基準として、金属元素換算で、１０〜１５０ミリモル％の範囲にあることが好ましく、さらに２０〜１００ミリモル％、特に３０〜７０ミリモル％の範囲にあることが反応速度を促進しつつ、触媒起因の粗大不溶性異物の生成を抑制でき、さらに得られる共重合芳香族ポリエステルの耐熱性を高度に維持できることから好ましい。なお、チタン化合物を添加する場合の添加時期は、第一反応のエステル化反応開始時から存在するように添加し、前述のとおり、引き続き重縮合反応触媒として使用することが好ましい。もちろん、重縮合反応速度をコントロールする目的で２回以上に分けて添加してもよい。

【0026】

つぎに、第一反応で得られた前駆体を重縮合反応させる第二反応について説明する。
本発明では、得られるポリエステルに、高度の熱安定性を付与させる目的で、第二反応における重縮合反応の開始以前に、反応系にリン化合物からなる熱安定剤を添加することが好ましい。具体的なリン化合物としては、化合物中にリン元素を有するものであれば特に限定されず、例えば、リン酸、亜リン酸、リン酸トリメチルエステル、リン酸トリブチルエステル、リン酸トリフェニルエステル、リン酸モノメチルエステル、リン酸ジメチルエステル、フェニルホスホン酸、フェニルホスホン酸ジメチルエステル、フェニルホスホン酸ジエチルエステル、リン酸アンモニウム、トリエチルホスホノアセテート、メチルジエチルホスホノアセテートなどを挙げることができ、これらのリン化合物は二種以上を併用してもよい。なお、リン化合物の添加時期は、第一反応が実質的に終了してから第二反応である重縮合反応初期の間に行うことが好ましく、添加は一度に行ってもよいし、２回以上に分割して行ってもよい。

【0027】

ところで、重縮合反応の温度は２７０℃〜３００℃の範囲で行い、重縮合反応中の圧力は５０Ｐａ以下の減圧下で行うのが好ましい。重縮合反応中の圧力が上限より高いと重縮合反応に要する時間が長くなり且つ重合度の高い共重合芳香族ポリエステルを得ることが困難になる。重縮合触媒としては、それ自体公知のＴｉ，Ａｌ，Ｓｂ，Ｇｅなどの金属化合物を好適に使用でき、これらの中でもＭｎ−Ｓｂを使用した場合、粒子の分散性を向上できることから好ましい。

【0028】

また、粒子を含有させる方法については、アルキレングリコールのスラリー状態として、さらにフィルターなどによって粗大粒子を低減し、それを重合工程で添加して粒子含有量が０．０２〜１．０重量％の粒子含有マスターポリエステルを作成し、該マスターポリエステルを、粒子を含有しないポリエステルで希釈するのが、粒子の凝集による粗大突起を低減する上で好ましい。

【0029】

このようにして得られるポリエステルは、本発明の効果を阻害しない範囲で、紫外線吸収剤等の安定剤、酸化防止剤、可塑剤、ワックスなどの滑剤、難燃剤、離型剤、核剤、を必要に応じて配合しても良い。なお、磁性層を形成する側の表面における地肌指数を所望の範囲とする観点から、ポリエステルと非相溶な他の熱可塑性ポリマー、顔料、充填剤、ガラス繊維、炭素繊維、層状ケイ酸塩などは含有させないことが好ましい。

【0030】

ところで、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムの磁性層を形成する表面の地肌指数は８０〜９９．９９％の範囲である。更に好ましくは８５〜９９．５％の範囲、特に好ましくは９０〜９９．５％の範囲、もっとも好ましくは９６〜９９．５％の範囲であることが好ましい。この地肌指数は、非接触式三次元表面粗さ計によって測定された値であり、フィルム表面における突起や凹み部分を除外した面の面積比率を示す数値である。この地肌指数が電磁変換特性やテープカートリッジ保存後のエラーレートと密接な関係にあることを見出したのが本発明の特徴の一つである。地肌指数が、上記範囲にあることで、高度の電磁変換特性やテープカートリッジ保存後のエラーレートの低減を高度に図ることできる。また高温での加工をフィルムに施すような場合、例えば磁性層を塗布して乾燥させるような工程においては、地肌指数が上記範囲にあることで、塗布層の均一な乾燥を可能にしたり、仮にフィルムの粘弾性が低下してしまうような高温での加工となったとしても、高温時に変化する突起自体が少ないことから処理前後の表面性変化を抑制したりできる。このような地肌指数を所望の範囲にするには、粗面層側の粒子を前述した範囲内で配合することが効果的であるが、それだけでなく該積層ポリエステルフィルムの製造工程において延伸温度を後述するような条件にて延伸させることも極めて効果的である。なお、地肌指数を大きくしたい場合は、フィルムの横延伸時に粘弾性ができるだけ低くなる温度で、なおかつ、その温度自体で結晶が瞬時に進まない比較的高い温度での延伸といった条件を選択すればよく、他方小さくしたい場合は、フィルムの横延伸時に粘弾性の低下が起き始める温度での延伸といった、延伸温度を低くする条件を選択すればよい。

【0031】

また本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、フィルムの幅方向における１３０℃における熱収縮率が３％以下であることを必要とする。好ましい上限は、２．９％以下、更に２．８％以下、特に２．３％以下である。上述のような地肌指数を具備しつつ、このように低い熱収縮率とすることで、高温環境での塗布工程でのシワが低減でき搬送ロール接触時の折れシワを低減し搬送性したり、乾燥時の加工性を確保したりでき、表面性と高度に両立することが可能になる。一方、製膜方向の１３０℃における熱収縮率も３％以下であることが好ましい。より好ましくは、２．９％以下、更に好ましくは２．８％以下、特に２．３％以下である。塗布工程など高温環境で張力がかかるフィルムのシワを低減することが可能になる。

【0032】

また、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムで磁性層を形成する表面のベアリング落差は１０〜３０ｎｍの範囲である。さらに好ましくは、１０〜２８ｎｍ、特に好ましくは、１０〜２５ｎｍの範囲である。このベアリング落差は、非接触式三次元表面粗さ計によって測定された表面データから作成されたベアリングカーブにおいて、ベアリング面積が０．４％の領域に見られる、急峻なカーブの落ち込みを示している。この値が大きいと、高い突起と低い突起との高さの差が大きいことを示し、この値が低いと、概して同じ高さ突起が均一して存在していることを示す。特に、磁気テープに用いられるフィルムにおいては、磁性層側に急峻な突起が存在すると、該当箇所でヘッドとフィルムのスペーシングが大きくなり、電磁変換特性やドロップアウトを引き起こす。一方で、この値が小さすぎると、フィルム上に小さい突起しかないことから、搬送性が悪化する。搬送性と磁気テープとしての特性を具備するために、上記の範囲が好ましい。このようなベアリング落差の範囲にするには、フィルムに添加する粒子の粒径や濃度を前述した範囲内で配合することが好ましい。

【0033】

本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、例えば、磁性層用のポリエステルポリマーと、反対面を形成する用のポリエステルポリマーとを用意し、これらを溶融状態で積層してダイからシート状に共押出する工程、得られたシート状物を冷却固化することで、積層未延伸ポリエステルフィルムとする工程、そして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを製膜方向と幅方向に延伸することで製造できる。溶融状態で押し出す工程での温度は、未溶融物がなく、過度にポリエステルの熱劣化が進まない温度であれば特に制限されず、例えば、ポリエステルの融点（Ｔｍ：℃）ないし（Ｔｍ＋７０）℃の温度で行うことが好ましい。つぎに、冷却については、得られる積層未延伸ポリエステルフィルムの平坦性を維持しつつ、厚み斑も少なくするために、フィルム製膜方向に沿ってダイの下方に設置された回転する冷却ドラムを用い、それにシート状物を密着させて冷却するのが好ましい。つづいて、延伸については、積層未延伸ポリエステルフィルムを、一軸方向（縦方向または横方向）に（ポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）−１０）℃〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度で２．５倍以上、好ましくは３倍以上の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直交する方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度で２．５倍以上、好ましくは３倍以上の倍率で延伸するのが好ましい。この際、前述した地肌指数を所望の範囲内に収めるため、横延伸温度は、（Ｔｇ＋２５）〜（Ｔｇ＋６０℃）の範囲で延伸させることが望ましい。更に好ましくは(Ｔｇ＋３０)〜（Ｔｇ＋６０℃）、特に好ましくは（Ｔｇ＋３０）〜（Ｔｇ＋５５℃）が望ましく、最も望ましくは （Ｔｇ＋３５)〜（Ｔｇ＋５５℃）の範囲が望ましい。この際、横延伸温度は、段階的に引き上げることが好ましく、いずれの温度も上記範囲内にあることが好ましい。横延伸温度がＴｇに対して低すぎたりすると過度な延伸時応力が粒子に集中し、その結果、粒子周辺のボイドが大きくなることで突起が高く且つ、大きなものとなる。一方、上述した温度領域でマイルドに横延伸させた場合、同時に横延伸倍率を通常よりも高くすることで粗面層側を平坦化させることができ、その結果、所望の高さと大きさを有する突起を形成することが可能になる。

【0034】

さらに必要に応じて縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。このように延伸したときの全延伸倍率は、面積延伸倍率（縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率）として９倍以上が好ましく、１２〜３５倍がさらに好ましく、１５〜３０倍が特に好ましい。さらにまた、二軸配向フィルムは、（Ｔｍ−７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度で熱固定することができ、例えば１８０〜２５０℃で熱固定するのが好ましい。熱固定時間は０．１〜６０秒が好ましい。また、前述の延伸は逐次二軸延伸で説明したが、縦方向と横方向に同時に延伸する同時二軸延伸を用いても良い。

【0035】

また本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは熱固定しながら、もしくは熱固定後に幅方向に弛緩しても良い。このように幅方向に弛緩することで、フィルムの幅方向の熱収縮率を適切な範囲に保つことができる。この弛緩自体は縦方向に行うこともできる。一方で、弛緩を実施するとフィルムのヤング率が低下し、所望のヤング率を確保できず、加工時に張力をかけられないこと等から、不具合を生じることもある。そのため、適切な弛緩率はフィルムのポリマー種類や製膜条件に強く依存するが、例えば、ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムの製膜では、弛緩時の温度を１９０℃にして、弛緩率０．３％で製膜することが好ましい。

【0036】

本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、高密度磁気記録媒体のベースフィルムとして用いた際に優れた寸法安定性を発現するために、長手方向のヤング率が５ＧＰａ以上であることが好ましい。長手方向のヤング率が上述より低いと、フィルムのハンドリングで長手方向に張力がかかった際に伸びやすくなり不具合が起こる。一方上限については、制限はないが、上記ハンドリングの観点から高い方が好ましい。幅方向のヤング率は、ベースフィルムでの温度膨張係数を後述の範囲とさせやすい観点から、４〜１５ＧＰａ、さらに５〜１４ＧＰａ、特に６〜１３ＧＰａ、もっとも好ましくは７〜１１ＧＰａの範囲であることが好ましい。幅方向のヤング率が下限未満では、磁気記録テープとしたときの温度膨張係数を小さくすることが困難となったり塗布工程での搬送張力に対してフィルムにシワが入りやすくなったりしてしまう、他方上限を超えると、磁気記録テープとしたときの温度膨張係数が過度に小さくなってしまう。

【0037】

本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムの全厚みは、２．０μｍ以上８．０μｍ以下が好ましい。好ましい全厚みの下限は２．５μｍ、さらに３μｍである。好ましい全厚みの上限は７μｍ、さらに６μｍ、特に４．５μｍである。厚みが下限より小さい場合は、テープに腰がなくなるため、電磁変換特性が低下したり、塗布工程におけるシワが入りやすくなったりする。厚みが上限を超える場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になりやすい。

【0038】

また、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、磁性層を形成する平坦層側の表面を形成するポリエステル層をＡ層とし、その反対面を形成する粗面層側の表面性を形成するポリエステル層をＢ層とした場合、そのＡ層、Ｂ層の厚みの比（ｔＡ／ｔＢ）が、０．３３〜９０の範囲にあることが好ましい。好ましい下限は、０．５、更に０．６、よりさらに０．８、特に２．０である。好ましい上限は、８．０、更に７．０、より更に６．０、特に５．０である。上記下限未満の場合、磁性層を形成しない粗面層側のＢ層に含まれる粒子の突上げが発生し、電磁変換特性を悪化しやすくさせる。他方、上記上限以上の場合、磁性層を形成しない粗面層の滑剤が脱落しやすくなること、通常回収した樹脂は平坦性を損なわないためにＢ層に用いることが好ましく、その場合、上記上限以上であると再利用できる割合が極端に低下することなどの問題が起こる。

【0039】

さらに、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、磁性層を形成する平坦層側の表面を形成するポリエステル層をＡ層とし、その反対面を形成する粗面層側の表面性を形成するポリエステル層をＢ層とした場合、そのＡ層の厚みｔＡとＢ層に添加している不活性粒子の平均粒子径ＤｐＢの比（ｔＡ／ＤｐＢ）が１５以上になるようすることが好ましい。上記下限未満であると、磁気層を形成しないＢ層中の粒子が磁性層に突上げ、平坦性を悪化させやすい。他方、上限に関しては、所望のフィルムが得られる範囲内であれば、特に制限はない。

【0040】

本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、高密度磁気記録テープ、特にディジタル記録型磁気記録テープのベースフィルムとして好ましく用いられる。そこで、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムを用いた磁気記録媒体について、さらに説明する。

【0041】

本発明の磁気記録媒体は、上述の二軸配向積層ポリエステルフィルムに磁性層を形成することで製造できる。なお、本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムの表面には、磁性層などとの接着性を向上させるために、本発明の効果を損なわない範囲で、それ自体公知の易接着機能を有する塗膜層などを形成しても良い。

【0042】

本発明の磁気記録テープにおける磁性層は、鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉やバリウムフェライトをポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体等のバインダーに均一分散し、その塗液を塗布して形成したものであり、前述のとおり、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを使用することで、寸法安定性と電磁変換特性やエラーレート性能に選りすぐれた磁気記録テープとすることができる。

【0043】

ところで、前述の通り記録密度を高めていくには磁性体を微細化していくことが必要で、そのため塗液から溶剤などの除去が難しくなり、加工性を維持しようとすると、乾燥などをより高温で行う必要がでてきた。そして、極めて平坦な表面を有するフィルムを高温で加工しようとすると、シワなどの問題があることを新たに見出し、本発明に到達した。

【0044】

なお、磁性層は、その厚みが１μｍ以下、さらに０．１〜１μｍとなるように塗布するのが、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録テープとする観点から好ましい。また、必要に応じて、塗布型磁性層の下地層として、微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することも好ましい。

【0045】

また、磁性層の表面には、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに他方の表面に、公知のバックコート層を設けてもよい。
このようにして得られる塗布型磁気記録テープは、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ＤＬＴ、Ｓ−ＤＬＴ、ＬＴＯ等のデータ用途の磁気テープとして極めて有用である。

【実施例】

【0046】

以下に実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明におけるポリエステル、二軸配向積層ポリエステルフィルムおよびデータストレージの特性は、下記の方法で測定および評価した。

【0047】

（１）固有粘度
得られたポリエステルの固有粘度は、前述のとおり、ｏ−クロロフェノール、３５℃で測定し、ｏ−クロロフェノールでは均一に溶解するのが困難な場合は、ｐ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０重量比）の混合溶媒を用いて３５℃で測定して求めた。

【0048】

（２）フィルム中の粒子の粒径
フィルム表面層のポリエステルをプラズマ低温灰化処理法（例えばヤマト科学製、ＰＲ−５０３型）で除去し、粒子を露出させる。処理条件は、ポリエステルは灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて１万倍程度の倍率で粒子を観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（例えば、ケンブリッジインストルメント製、ＱＴＭ９００）に結びつけ、観察箇所を変えて少なくとも５，０００個の粒子の面積円相当径（Ｄｉ）を求める。この結果から粒子の粒径分布曲線を作成した。なお、粒子種の同定はＳＥＭ−ＸＭＡ、ＩＣＰによる金属元素の定量分析などを使用して行うことができる。また、添加する不活性粒子の平均粒径は、同様な測定を行って各粒子の粒径を求め、数平均を平均粒径とした。

【0049】

（３）粒子の含有量
（３−１）各層中の粒子の総含有量
二軸配向積層ポリエステルフィルムからポリエステルＡ層、ポリエステルＢ層を各々１００ｇ程度削り採ってサンプリングし、ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択して、サンプルを溶解した後、粒子をポリエステルから遠心分離し、サンプル重量に対する粒子の比率（重量％）をもって各層中の粒子総含有量とする。

【0050】

（３−２）各層中の無機粒子の総含有量
二軸配向積層ポリエステルフィルムの無機粒子が存在する場合は、ポリエステルＡ層、ポリエステルＢ層を各々削り採って１００ｇ程度サンプリングし、これを白金ルツボ中にて１，０００℃程度の炉の中で３時間以上燃焼させ、次いでルツボ中の燃焼物をテレフタル酸（粉体）と混合し５０グラムの錠型のプレートを作成する。このプレートを波長分散型蛍光Ｘ線を用いて各元素のカウント値をあらかじめ作成してある元素毎の検量線より換算し各層中の無機粒子の総含有量を決定する。蛍光Ｘ線を測定する際のＸ線管はＣｒ管が好ましくＲｈ管で測定してもよい。Ｘ線出力は４ＫＷと設定し分光結晶は測定する元素毎に変更する。材質の異なる無機粒子が複数種類存在する場合は、この測定により各材質の無機粒子の含有量を決定する。

【0051】

（３−３）各層中の各種粒子の含有量（無機粒子が存在しない場合）
層中に無機粒子が存在しない場合は、前記（２）により求めたピークを構成する各粒子の個数割合と平均粒径と粒子の密度から各ピーク領域に存在する粒子の重量割合を算出し、これと前記（３−１）で求めた各層中の粒子の総含有量とから、各ピーク領域に存在する粒子の含有量（重量％）を求める。
なお、代表的な微粒子の密度は下記のとおりである。
架橋シリコーン樹脂の密度 ： １．３５ｇ／ｃｍ^３
架橋ポリスチレン樹脂の密度： １．０５ｇ／ｃｍ^３
架橋アクリル樹脂の密度 ： １．２０ｇ／ｃｍ^３
なお、樹脂の密度は（３−１）の方法でポリエステルから遠心分離した粒子をさらに分別し、例えば、ピクノメーターにより「微粒子ハンドブック：朝倉書店、１９９１年版、１５０頁」に記載の方法で測定することができる。

【0052】

（３−４）各層中の各種粒子の含有量（無機粒子が存在する場合）
層中に無機粒子が存在する場合は、前記（３−１）で求めた各層中の粒子の総含有量と前記（３−２）で求めた各層中の無機粒子の総含有量とから層中の有機粒子と無機粒子の含有量をそれぞれ算出し、有機粒子の含有量は上記（３−３）の方法で、無機粒子の含有量は上記（３−２）の方法で、それぞれ含有量（重量％）を求める。

【0053】

（４）フィルムおよび各ポリエステル層の厚み
（４−１）フィルムの厚み
ゴミが入らないようにフィルムを１０枚重ね、打点式電子マイクロメータにて厚みを測定し、１枚当たりのフィルム厚みを計算する。

【0054】

（４−２）各ポリエステル層の厚み
２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ３，０００ｎｍ迄の範囲のフィルム中の粒子の内もっとも高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ＋／Ｃ＋）を粒子濃度とし、表面から深さ３，０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。そして一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、これを表層厚さとする。そして、先ほどのフィルムの厚みと表層厚みとから、各層の厚みを算出する。
条件は次のとおりである。
（ａ）測定装置：２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）
（ｂ）測定条件
１次イオン種 ：Ｏ^２＋
１次イオン加速電圧：１２ＫＶ
１次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域 ：４００μｍ□
分析領域 ：ゲート３０％
測定真空度 ：０．８Ｐａ（６．０×１０^−３Ｔｏｒｒ）
Ｅ−ＧＵＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａ
なお、表層から深さ３０００ｎｍ迄の範囲にもっとも多く含有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様のデプスプロファイルを測定し、表層厚さを求めてもよい。

【0055】

（５）ヤング率
フィルムを試料幅１０ｍｍ、長さ１５ｃｍに切り、チャック間１００ｍｍにして、引張速度１０ｍ／ｍｉｎ、チャート速度５００ｍｍ／ｍｉｎの条件でインストロンタイプの万能引張試験装置にて引っ張る。得られる荷重−伸び曲線の立上り部の接線よりヤング率を計算する。

【0056】

（６）表面粗さ（Ｒａ）
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ（＝０．０６０３ｍｍ^２）の条件にて測定し、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトＭｅｔｒｏＰｒｏにより中心面平均粗さ（Ｒａ）を求め、これを表面粗さ（Ｒａ）とした。なお、測定は測定箇所を変えて１０回行い、それらの平均値を中心面平均粗さ（Ｒａ）とした。また積層ポリエステルフィルムの平坦な側（Ａ層側）の表面の表面粗さをＲａＡ、粗い側（Ｂ層側）の表面の粗さをＲａＢとした。

【0057】

（７）地肌指数
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて、上述（６）の条件にてＲａを測定後、該粗さ計に内蔵されたソフトＭｅｔｒｏ Ｐｒｏにより、表面のセンターラインから高さ方向に凸側と凹側にそれぞれ５ｎｍずつ離れたラインを引き、それ以上の高さを有するものを突起と認識させ、さらに０．５μｍ^２以上の面積を有する突起を突起数としてカウントした。この突起全ての突起面積を合計し、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ＝（０．０６０３ｍｍ^２）から差し引いた値を測定面積に対する百分率で表した数値を本発明でいう地肌指数として求めた。

【0058】

（８）ベアリング落差
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて、上述（６）の条件にてＲａを測定後、該粗さデータを解析ソフト（Ｉｍａｇｅ Ｍｅｔｒｏｌｏｇｙ社製：ＳＰＩＰ）にて、ベアリングカーブを作成し、このベアリングカーブにおけるベアリング面積が０．４％に見られるベアリングカーブの急峻な落ち込みの最大値をベアリング落差として定量化した。

【0059】

（９）フィルムの静摩擦係数
ポリエステルＡ層側の表面とポリエステルＢ層側の表面とを重ね合せた２枚のフィルム（それぞれ縦方向２０ｃｍ×横方向１０ｃｍ）の下側に固定したアクリル板を置き、重ね合せた２枚のフィルムの上側の中央部にスレッドを配置し、重ね合せたフィルムのＡ層を上側、Ｂ層を下側にしてアクリル板に固定し、アクリル板を低速ロールにて引取り（１０ｃｍ／ｍｉｎ）、上側のフィルムの一端（下側フィルムの引取り方向と逆端）に検出器を固定してフィルム／フィルム間のスタート時の引張力を検出する。なお、そのときに用いるスレッドは重さ２００ｇ、下側面積５０ｃｍ^２（縦方向１０ｃｍ×横方向５ｃｍの長方形）のものを使用する。
なお、静摩擦係数（μｓ）は次式より求めた。
μｓ＝（スタート時の引張力ｇ）／（荷重２００ｇ）
フィルムの静摩擦係数が大きくなると、滑り性が低下し、フィルムをロール状に巻き取る際、シワや欠陥が出やすくなる。

【0060】

（１０）巻取り良品率
親ロールから１ｍ幅の製品ロールを８０ｍ／分でスリットしながら、５０００ｍの長さで１００本巻取った際の、ブロッキングやシワのない良品の割合に従って次の通りとする。
◎ ；ブロッキングやシワなどの欠陥のないものの割合 ８５−１００％
○ ； 同上 ７０−８４％
× ； 同上 ７０％未満

【0061】

（１１）熱処理シワ試験
幅１０ｃｍ、長さ２５ｃｍのフィルムを試験片として準備し、荷重１ｋｇ／ｍをかけた状態で、１３０℃で熱処理を１分施した。熱処理したフィルムの長手方向の伸び率と、長手方向に発生するシワの数を幅方向に計測した。

【0062】

（１２）磁気テープの作成
各実施例及び比較例で得られた幅１０００ｍｍ、長さ１０００ｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムの粗面層（Ａ層）側表面に、下記組成のバックコート層塗料をダイコータ（加工時の張力：２０ＭＰａ、温度：１３０℃、速度：２００ｍ／分）で、塗布し、乾燥させた後、フィルムの平坦層（Ｂ層）側表面に下記組成の非磁性塗料、磁性塗料をダイコータで同時に膜厚を変えて塗布し、磁気配向させて乾燥させる。さらに、小型テストカレンダ−装置（スチ−ルロール／ナイロンロール、５段）で、温度：７０℃、線圧：２００ｋｇ／ｃｍでカレンダ−処理した後、７０℃、４８時間キュアリングする。上記テ−プを１２．６５ｍｍにスリットし、カセットに組み込み磁気記録テープとした。なお、乾燥後のバックコート層、非磁性層および磁性層の厚みは、それぞれ０．５μｍ、１．２μｍおよび０．１μｍとなるように塗布量を調整した。
＜非磁性塗料の組成＞
・二酸化チタン微粒子 ：１００重量部
・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ：１０重量部
・ニッポラン２３０４（日本ポリウレタン 製ポリウレタンエラストマ）：１０重量部
・コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシアネート） ： ５重量部
・レシチン ： １重量部
・メチルエチルケトン ：７５重量部
・メチルイソブチルケトン ：７５重量部
・トルエン ：７５重量部
・カーボンブラック ： ２重量部
・ラウリン酸 ：１．５重量部
＜磁性塗料の組成＞
・鉄（長軸：０．０２５μｍ、針状比：３．５、２３５０エルステッド）：１００重量部
・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ：１０重量部
・ニッポラン２３０４（日本ポリウレタン 製ポリウレタンエラストマ）：１０重量部
・コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシアネート） ： ５重量部
・レシチン ： １重量部
・メチルエチルケトン ：７５重量部
・メチルイソブチルケトン ：７５重量部
・トルエン ：７５重量部
・カーボンブラック ： ２重量部
・ラウリン酸 ：１．５重量部
＜バックコート層塗料の組成：＞
カーボンブラック ：１００重量部
熱可塑性ポリウレタン樹脂 ：６０重量部
イソシアネート化合物 ：１８重量部
（日本ポリウレタン工業社製コロネートＬ）
シリコーンオイル ：０．５重量部
メチルエチルケトン ：２５０重量部
トルエン ：５０重量部

【0063】

（１３）電磁変換特性
電磁変換特性測定には、ヘッドを固定した１／２インチリニアシステムを用いた。記録は、電磁誘導型ヘッド（トラック幅２５μｍ、ギャップ０．１μｍ）を用い、再生はＭＲヘッド（８μｍ）を用いた。ヘッド／テープの相対速度は１０ｍ／秒とし、記録波長０．２μｍの信号を記録し、再生信号をスペクトラムアナライザーで周波数分析し、キャリア信号（波長０．２μｍ）の出力Ｃと、スペクトル全域の積分ノイズＮの比をＣ／Ｎ比とし、実施例２を０ｄＢとした相対値を求め、以下の基準で、評価した。
◎ ： ＋１ｄＢ以上
○ ： −１ｄＢ以上、＋１ｄＢ未満
× ： −１ｄＢ未満

【0064】

（１４）エラーレート
上記（１１）で作製したテープ原反を１２．６５ｍｍ（１／２インチ）幅にスリットし、それをＬＴＯ用のケースに組み込み、磁気記録テープの長さが８５０ｍのデータストレージカートリッジを作成した。このデータストレージを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ５ドライブを用いて２３℃５０％ＲＨの環境で記録し（記録波長０．５５μｍ）、次に、カートリッジを５０℃、８０％ＲＨ環境下に７日間保存した。カートリッジを１日常温に保存した後、全長の再生を行い、再生時の信号のエラーレートを測定した。エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式にて算出する。次の基準で寸法安定性を評価する。
エラーレート＝（エラービット数）／（書き込みビット数）
◎：エラーレートが１．０×１０^−６未満
○：エラーレートが１．０×１０^−６以上、１．０×１０^−４未満
×：エラーレートが１．０×１０^−４以上

【0065】

（１５）ドロップアウト（ＤＯ）
上記（１４）でエラーレートを測定したデータストレージカートリッジを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ５ドライブに装填してデータ信号を１４ＧＢ記録し、それを再生した。平均信号振幅に対して５０％以下の振幅（Ｐ−Ｐ値）の信号をミッシングパルスとし、４個以上連続したミッシングパルスをドロップアウトとして検出した。なお、ドロップアウトは８５０ｍ長１巻を評価し、１ｍ当たりの個数に換算して、下記の基準で判定する。
◎：ドロップアウト ３個／ｍ未満
○：ドロップアウト ３個／ｍ以上、９個／ｍ未満
×：ドロップアウト ９個／ｍ以上

【0066】

［実施例１］
平坦層側に添加する粒子として、平均粒子径０．０８μｍ（粒径：相対標準偏差：１０％）の真球状シリカ粒子（粒子Ａ）を０．０１重量％含有した固有粘度が０．６２のポリエステルＡ層用ポリエチレン―２，６―ナフタレートペレット（ガラス転移温度：１２１℃、融点：２６５℃）と粗面層側に添加する粒子として、平均粒子径０．０８μｍ（粒径：相対標準偏差：１０％）の真球状シリカ粒子（粒子Ｂ１）を０．５０重量％含有した、固有粘度が０．６２のポリエステルＢ層用ポリエチレン―２，６―ナフタレートペレット（ガラス転移温度：１２１℃、融点：２６５℃）を用意した。そして、それぞれペレットを１７０℃で６時間乾燥した後、２台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度３１０℃で、Ａ層：Ｂ層＝７５：２５の厚み比率でダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸ポリエステルフィルムを得た。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、１２０℃に予熱し、上方よりＩＲヒーターにてフィルム表面温度が１４０℃になるように加熱し、延伸倍率５．０倍で縦方向（製膜方向）の延伸を行った。続いて、１５５℃に加熱されたステンター内に供給し、１６５℃、１７０℃に段階的に温度を上げながら、横方向に５．３倍に延伸（第１段）後、更に１８０℃に加熱されたステンター内に供給して再度横方向に１．２倍に延伸した後、２１５℃の熱風で４秒間熱固定し、その後、１９０℃、弛緩率０．２７％で幅方向に弛緩をして、厚み４．０μｍの二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムのヤング率は縦方向６．５ＧＰａ、横方向８．９ＧＰａであった。ポリエステルＡ層の地肌指数は９８．３８％であった。
得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

【0067】

［実施例２］
横方向の延伸温度を１２４、１２８、１５８℃に段階的に温度を変えるように変更した他は、実施例１と同様にして、二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。
得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

【0068】

［実施例３〜５］
含有させる、粒子Ａ、粒子Ｂ１、各層の厚みを表１に示すように変更した他は、実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

【0069】

［実施例６］
平坦層側に添加する粒子として、平均粒子径０．０８μｍ（粒径：相対標準偏差：１０％）の真球状シリカ粒子（粒子Ａ）を０．０１重量％含有した、固有粘度が０．６２のポリエステルＡ層用ポリエチレン―テレフタレートペレット（ガラス転移温度：７６℃、融点：２５５℃）とポリエーテルイミドペレット（商標名：ＵＬＴＥＭ１０４０）とを重量比９０：１０でブレンドした樹脂組成物、粗面層側に添加する粒子として、平均粒子径０．０８μｍ（粒径：相対標準偏差：１０％）の真球状シリカ粒子（粒子Ｂ１）を０．５５重量％含有した、固有粘度が０．６２のポリエステルＢ層用ポリエチレン―テレフタレートペレット（ガラス転移温度：７６℃、融点：２５５℃）とポリエーテルイミドペレット（商標名：ＵＬＴＥＭ１０４０）とを重量比９０：１０でブレンドした樹脂組成物を、それぞれペレットの状態で１７０℃で３時間乾燥した後、２台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２８０℃で、Ａ層：Ｂ層＝７７：２３の厚み比率でダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸ポリエステルフィルムを得た。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、７５℃に予熱し、上方よりＩＲヒーターにてフィルム表面温度が９０℃になるように加熱し、延伸倍率４．８倍で縦方向（製膜方向）の延伸を行った。続いて、９０℃に加熱されたステンター内に供給し、１２５℃、１３０℃に段階的に温度を上げながら、横方向に５倍に延伸（第１段）後、更に１８０℃に加熱されたステンター内に供給して再度横方向に１．２倍に延伸した後、２３０℃の熱風で４秒間熱固定し、その後、２１０℃、弛緩率１％で弛緩した後、厚み４．５μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムのヤング率は縦方向４．９ＧＰａ、横方向７．６ＧＰａであった。
得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

【0070】

［比較例１〜８］
含有させる、粒子Ａ、粒子Ｂ１、粒子Ｂ２、各層の厚み、熱固定温度、弛緩率を表１に示すように変更した他は、実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

【0071】

［比較例９］
平坦層側に添加する粒子として、平均粒子径０．０８μｍの真球状シリカ粒子（粒子Ａ）を０．０１重量％含有した固有粘度が０．６２のポリエステルＡ層用ポリエチレン―テレフタレートペレット（ガラス転移温度：７６℃、融点：２５５℃）と粗面層側に添加する粒子として、平均粒子径０．０８μｍの真球状シリカ粒子（粒子Ｂ１）を０．３５重量％と平均粒子径０．２０μｍの真球状シリカ（粒子Ｂ２）を０．０３質量％含有した、固有粘度が０．６２のポリエステルＢ層用ポリエチレン―テレフタレートペレット（ガラス転移温度：７６℃、融点：２５５℃）を用意した。そして、それぞれペレットを１７０℃で３時間乾燥した後、２台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２８０℃で、Ａ層：Ｂ層＝７７：２３の厚み比率でダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸ポリエステルフィルムを得た。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、７５℃に予熱し、上方よりＩＲヒーターにてフィルム表面温度が９０℃になるように加熱し、延伸倍率４．８倍で縦方向（製膜方向）の延伸を行った。続いて、９０℃に加熱されたステンター内に供給し、１２５℃、１３０℃に段階的に温度を上げながら、横方向に５倍に延伸（第１段）後、更に１８０℃に加熱されたステンター内に供給して再度横方向に１．２倍に延伸した後、２３０℃の熱風で４秒間熱固定し、その後、２１０℃、弛緩率１％で弛緩した後、厚み４．５μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムのヤング率は縦方向４．９ＧＰａ、横方向７．６ＧＰａであった。
得られた二軸配向積層ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

【0072】

【表1】

【0073】

表１中の、シリカは真球状シリカ粒子、ＰＥＮはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート、ＰＥＴはポリエチレンテレフタレート、ＰＥＩはポリエーテルイミドを意味する。

【産業上の利用可能性】

【0074】

本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、生産性に優れ、その後の搬送性などの加工性も有し、優れた電磁変換特性と、エラーレートやドロップアウトを低減した塗布型磁気記録テープ、特にデータストレージのベースフィルムに好適に用いることができる。