特許 6090967 蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6090967

(24)【登録日】2017年2月17日

(45)【発行日】2017年3月8日

(54)【発明の名称】蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機

(51)【国際特許分類】

   F26B 5/04 20060101AFI20170227BHJP

   A23L 3/40 20060101ALI20170227BHJP

   F26B 3/347 20060101ALI20170227BHJP

   F26B 9/06 20060101ALI20170227BHJP

   H05B 6/80 20060101ALI20170227BHJP

   H05B 6/78 20060101ALI20170227BHJP

【ＦＩ】

   F26B5/04

   A23L3/40

   F26B3/347

   F26B9/06 K

   H05B6/80 Z

   H05B6/78 C

【請求項の数】2

【全頁数】25

(21)【出願番号】特願2012-61292(P2012-61292)

(22)【出願日】2012年3月17日

(65)【公開番号】特開2013-194966(P2013-194966A)

(43)【公開日】2013年9月30日

【審査請求日】2015年3月16日

(73)【特許権者】

【識別番号】500360116

【氏名又は名称】西光エンジニアリング株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100092923

【弁理士】

【氏名又は名称】石垣 達彦

(72)【発明者】

【氏名】岡村 邦康

【審査官】 横溝 顕範

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１０／０１３５８３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 実公平０８−００９５２７（ＪＰ，Ｙ２）

【文献】 特開２００３−０９０６７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特許第４８４０６６１（ＪＰ，Ｂ２）

【文献】 特開平０４−２８１１７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１４４９５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２２７０２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−１６１８４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６１−１５６６９０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第０６５２４５３９（ＵＳ，Ｂ１）

【文献】 特開２００４−２０１５４４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−３１７０７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−３２２４６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６３−１７２８２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭４７−０４４２４５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｆ２６Ｂ １／００−２５／２２

Ｈ０５Ｂ ６／４６

Ｈ０５Ｂ ６／５２−６／６４

Ｈ０５Ｂ ６／７０−６／８０

Ａ４１Ｄ ５／００−１１／００

Ａ４１Ｄ １５／００−１７／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

被乾燥物を収容する開口部と収容した被乾燥物の重量を計測する重量計測器を有する支持構造とを備えた乾燥室本体と、
上記開口部に開閉可能な状態で取り付けられ、閉塞時に上記乾燥室本体内に遮蔽空間を形成する開閉扉と、
上記乾燥室本体に対して取り付けられ、該乾燥室本体内に収容される被乾燥物に向けてマイクロ波を照射して被乾燥物を乾燥させるマイクロ波照射装置と、
上記乾燥室本体に対して接続され、該乾燥室本体内に収容される被乾燥物に向けて１００℃以下の低温蒸気を供給して被乾燥物を加熱・殺菌する蒸気供給装置と、
上記開口部を閉塞した状態で上記乾燥室本体内を減圧雰囲気にする減圧装置と、を具備してなる蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機において、
上記開閉扉が閉塞状態にある時、上記開口部外方の上記乾燥室本体と上記開閉扉の対向面に位置して上記乾燥室内を気密状態にするシール部材を備えたシール構造と、
上記開口部と上記シール構造との中間経路上に設けられ、上記開口部側に位置する第１チョークと、上記シール構造側に位置する第２チョークと、が向い合わせになるように周方向に所定ピッチで連続的に配置されたダブルチョーク一体構造のマイクロ波漏洩防止機構と、を具備し、
上記乾燥室本体内には、被乾燥物が収容されたコンテナを支持する下端部に上面遮蔽板を備えたコンテナ支持フレームと、
上記乾燥室本体内の底面に設けられ、上端部に下面遮蔽板を備えたベースフレームと、
上記上面遮蔽板と上記下面遮蔽板とによって挟まれた遮蔽空間内に設けられ、乾燥室本体内に収容された被乾燥物の重量を計測する重量計測器と、が配置されており、
上記重量計測器が配置されている上記遮蔽空間の外方側周部には、上記上面遮蔽板に設けられ、先端部がＬ字状に折り曲げられた同形状、同サイズの第１チョークと第２チョークがそれぞれ対向する位置に配置されていて、上記第１チョークと第２チョークとが向い合わせになるように周方向に所定ピッチで連続的に配置されて下面遮蔽板に臨ませたダブルチョーク一体構造のマイクロ波影響防止機構が設けられ、
上記遮蔽空間の外方には、上記上面遮蔽板と上記下面遮蔽板と上記マイクロ波影響防止機構とを被覆するマイクロ波遮断パネルが配設されていて、上記遮蔽空間をマイクロ波から遮蔽するように構成したことを特徴とする蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機。

【請求項2】

上記減圧装置は、上記乾燥室本体内を減圧雰囲気にする水封式真空ポンプと、
上記水封式真空ポンプを駆動するための水を給排水する循環式給排水装置と、を備えることによって構成されていることを特徴とする請求項１記載の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、収穫したモズク等の被乾燥物の重量を１／２程度になるまで乾燥させた半生モズク等を製造するのに好適な蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機に関する。

【背景技術】

【0002】

収穫したモズクのほとんどは重量で２０％の食塩と混合し、４〜６日間程度塩蔵槽で塩蔵した後、余分な水分を除去して得られる塩蔵モズクに加工され出荷されている。尚、前記塩蔵モズクは二次加工業者によって塩抜きされ、味付けモズク等に加工されて販売されている。
また、収穫したモズクの一部は冷風や熱風の並行流棚式乾燥機等によって乾燥され、含水率が７〜８％になるまで乾燥された乾燥モズクに加工されて出荷されている。

【0003】

しかし、前記塩蔵モズクは塩抜きの手間がかかるし、水分を多く含んでいるため重量及び体積が大きくなって、包装・輸送及び冷凍保管費が増大するという問題点を有している。
一方、前記乾燥モズクは水分が少なく重量及び体積が小さくなって、包装・輸送及び冷凍保管費を削減できるが、乾燥による変色や食感の低下等の問題点を有し、水に戻してから使用するという一手間がかかってしまう。

【0004】

一方、野菜等の加熱調理の分野では、１００℃以下の低温蒸気を使用することで素材の持つ風味や栄養素等の成分を壊すことなく美味しく調理できる低温蒸しを利用した種々の装置が下記の特許文献１〜３に示すように開発されている。
そして、このような装置には、加熱調理する野菜等を収容する蒸し室と、該蒸し室内を減圧雰囲気にするための減圧装置と、上記蒸し室内に低温蒸気を供給する低温蒸気供給装置と、が基本的に備えられている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開平９−２６１０３号公報

【特許文献2】特開平４−４８１０２号公報

【特許文献3】特開２００７−１３５８０６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、収穫したモズク等は複雑に絡み合っており、表面にぬめりを有しているという性状の特異性から、収穫したモズク等を単にコンテナに同じ厚みになるように収容しただけでは乾燥ムラが発生してしまう。また、１００℃を超えるような熱風乾燥を併用することでモズク等全体の乾燥効率を向上させることは可能であるが、モズク等の１本１本の水分量を概略どの程度に設定するというところまでの乾燥精度は有していなかった。
また、上記１００℃を超えるような熱風乾燥を行った場合にはモズク等の風味を大きく損ってしまうし、モズク等を収容したコンテナを複数の乾燥機間等で移し替える作業も煩しい作業になっていた。また、上記特許文献１〜３に示すような低温蒸しを実施するだけでは半生モズク等を製造するのに十分な熱量は得られない。

【0007】

本発明はこのような点に基づいてなされたものでその目的とするところは、モズク等の１本１本の水分量を所定の範囲内に設定して乾燥効率と乾燥品質を向上させ、本来素材が持っている風味や成分等を多く残存させた品質の良い被乾燥物を安定して製造することができ、乾燥中の被乾燥物の移し替え作業の手間が少なくて済む作業性にも優れた蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記目的を達成するべく本発明の請求項１による蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機は、 被乾燥物を収容する開口部と収容した被乾燥物の重量を計測する重量計測器を有する支持構造とを備えた乾燥室本体と、
上記開口部に開閉可能な状態で取り付けられ、閉塞時に上記乾燥室本体内に遮蔽空間を形成する開閉扉と、
上記乾燥室本体に対して取り付けられ、該乾燥室本体内に収容される被乾燥物に向けてマイクロ波を照射して被乾燥物を乾燥させるマイクロ波照射装置と、
上記乾燥室本体に対して接続され、該乾燥室本体内に収容される被乾燥物に向けて１００℃以下の低温蒸気を供給して被乾燥物を加熱・殺菌する蒸気供給装置と、
上記開口部を閉塞した状態で上記乾燥室本体内を減圧雰囲気にする減圧装置と、を具備してなる蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機において、
上記開閉扉が閉塞状態にある時、上記開口部外方の上記乾燥室本体と上記開閉扉の対向面に位置して上記乾燥室内を気密状態にするシール部材を備えたシール構造と、
上記開口部と上記シール構造との中間経路上に設けられ、上記開口部側に位置する第１チョークと、上記シール構造側に位置する第２チョークと、が向い合わせになるように周方向に所定ピッチで連続的に配置されたダブルチョーク一体構造のマイクロ波漏洩防止機構と、を具備し、
上記乾燥室本体内には、被乾燥物が収容されたコンテナを支持する下端部に上面遮蔽板を備えたコンテナ支持フレームと、
上記乾燥室本体内の底面に設けられ、上端部に下面遮蔽板を備えたベースフレームと、
上記上面遮蔽板と上記下面遮蔽板とによって挟まれた遮蔽空間内に設けられ、乾燥室本体内に収容された被乾燥物の重量を計測する重量計測器と、が配置されており、
上記重量計測器が配置されている上記遮蔽空間の外方側周部には、上記上面遮蔽板に設けられ、先端部がＬ字状に折り曲げられた同形状、同サイズの第１チョークと第２チョークがそれぞれ対向する位置に配置されていて、上記第１チョークと第２チョークとが向い合わせになるように周方向に所定ピッチで連続的に配置されて下面遮蔽板に臨ませたダブルチョーク一体構造のマイクロ波影響防止機構が設けられ、
上記遮蔽空間の外方には、上記上面遮蔽板と上記下面遮蔽板と上記マイクロ波影響防止機構とを被覆するマイクロ波遮断パネルが配設されていて、上記遮蔽空間をマイクロ波から遮蔽するように構成したことを特徴とするものである。

【0009】

また、請求項２による蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機は、請求項１記載の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機において、上記減圧装置は、上記乾燥室本体内を減圧雰囲気にする水封式真空ポンプと、
上記水封式真空ポンプを駆動するための水を給排水する循環式給排水装置と、を備えることによって構成されていることを特徴とするものである。

【0010】

【0011】

【0012】

【0013】

【0014】

【0015】

【0016】

そして、上記手段によって以下のような作用が得られる。まず、本発明の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機において、マイクロ波照射装置と蒸気供給装置の２種類の装置を備えられているから、単一の乾燥室本体内に収容された被乾燥物に対して蒸気を利用した加熱・殺菌と、マイクロ波を利用した乾燥とを必要に応じて使い分けたり、これらを同時にあるいは連続して実行することが可能になる。従って、上記２種類の加工を装置間の移動なしで実行することができるようになる。
また、減圧装置を備えているから、１００℃以下の低温蒸気を使用した加熱・殺菌と、マイクロ波を使用した乾燥温度を低く抑えた乾燥と、を実行することが可能になり、一連の加工を低い温度で実行できるようになって、被乾燥物の風味や成分等を壊すことなく良質の乾燥食品を得ることができる。
また、乾燥室本体には被乾燥物の重量を計測する重量計測器を有する支持構造が設けられているから乾燥前、乾燥中あるいは乾燥後の被乾燥物の水分量の変化を把握でき、該水分量の変化に基づいた正確なマイクロ波による乾燥が可能になる。

【0017】

また、上記開口部と上記シール構造との中間経路上にダブルチョーク一体構造のマイクロ波漏洩防止機構を備えた場合には、マイクロ波漏洩防止機構の外方へのマイクロ波の漏洩が高レベルで高周波回路的に防止されるようになる。従って、上記シール構造に対するマイクロ波の被曝が防止されるから該マイクロ波の被曝によって生ずるシール部材の劣化が防止されて開閉扉を閉塞した時の乾燥室本体内の気密性が長期に亘って持続される。

【0018】

また、上記乾燥室本体内に上面遮蔽板を備えたコンテナ支持フレームと、下面遮蔽板を備えたベースフレームとを設け、上記上面遮蔽板と下面遮蔽板とによって挟まれた遮蔽空間内に重量計測器を配置した場合には、被乾燥物の乾燥を途中で中断することなく、被乾燥物の重量を計測して被乾燥物の乾燥状態を把握することが可能になる。
また、上記遮蔽空間の外方側周部にダブルチョーク一体構造のマイクロ波影響防止機構を配置した場合には、乾燥室本体内に供給されたマイクロ波の遮蔽空間内への流入が防止されるから重量計測器に与えられるマイクロ波の影響が防止されて被乾燥物の正確な重量計測結果が得られるようになる。

【0019】

上記減圧装置を、上記乾燥室本体内を減圧雰囲気にする水封式真空ポンプと該水封式真空ポンプを駆動するための水を給排水する循環式給排水装置とを備えることによって構成した場合には、比較的簡単な構成で乾燥室本体内のドレンや水分を含んだ不用のガスを外部に排出しながら乾燥室本体内の雰囲気を減圧状態にすることができるようになる。
また、循環式給排水装置の採用によって、水封式真空ポンプを駆動するための水の消費量を減らして、効率の良い減圧装置の運転が可能になる。

【0020】

次に、参考例として記載した乾燥食品の製造方法において、１００℃以下の低温蒸気を使用した加熱・殺菌を行う加熱・殺菌工程と、減圧雰囲気下でマイクロ波を照射し、被乾燥物の重量を計測しながら乾燥させる乾燥工程と、を備えているから、加熱・殺菌工程では１００℃以下の低温蒸気を使用した低温蒸しによる加熱・殺菌によって被乾燥物の素材の持つ風味や成分等を壊すことなく、所定の加熱・殺菌状態を得ることができるようになる。
また、乾燥工程では、加熱・殺菌された被乾燥物に対して減圧雰囲気下で、マイクロ波による低温での乾燥を被乾燥物の重量変化を監視しながら実行できるから、被乾燥物の有する風味や成分等を多く残した状態で所定の水分量になるまで正確に乾燥させた乾燥食品を得ることができるようになる。

【0021】

また、上記加熱・殺菌工程と乾燥工程の両方で、請求項１〜４のいずれかに記載の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機を使用した場合には、単一の乾燥室本体内に収容された被乾燥物を工程の移行に伴なって途中で移動することなく、乾燥室本体内に収容されたそのままの状態で上記２種類の工程を連続して実行することが可能になる。
従って、被乾燥物を乾燥させる前に行う加熱・殺菌から所定の水分量になるまで乾燥させて乾燥食品を得るまでの一連の加工を被乾燥物の移動を一度も行うことなく実行できるようになる。

【0022】

また、上記加熱・殺菌工程において８０℃の低温蒸気で５分間、加熱・殺菌するようにした場合には、被乾燥物の素材が有する風味や成分等を壊すことなく、必要な熱量を確保して効果的な加熱・殺菌を極力低い加熱温度と短い加熱時間で実行できるようになる。
また、上記被乾燥物を収穫後、洗浄・選別され水切りされた生のモズクとし、上記乾燥食品を上記の生のモズクの重量を１／２になるまで乾燥させた半生モズクとした場合には、均一な乾燥が難しいモズクの乾燥を効率良く良好な品質を保って製造することができ、風味豊かな半生モズクを提供できるようになる。

【発明の効果】

【0023】

本発明の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機によると、本来素材が持っている風味や成分等を壊すことなく被乾燥物の加熱・殺菌と所定の水分量になるまでの正確な乾燥とを単一の乾燥機を使用して実行できるようになる。
また、参考例の乾燥食品の製造方法によると、半生モズクを製造するのに適した木目細やかな重量計測に基づく加熱温度と加熱時間の管理に基づいて風味豊かな乾燥食品を効率良く製造することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】本発明の第１の実施の形態を示す図で、蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機の全体構成と配管経路の概要を示す説明図である。

【図2】本発明の第１の実施の形態を示す図で、蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機を示す正面図である。

【図3】本発明の第１の実施の形態を示す図で、蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機を示す左側面図である。

【図4】本発明の第１の実施の形態を示す図で、蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機を示す平面図である。

【図5】本発明の第１の実施の形態を示す図で、乾燥室を示す正面図である。

【図6】本発明の第１の実施の形態を示す図で、乾燥室を示す右側面図である。

【図7】本発明の第１の実施の形態を示す図で、図７中の矢視Ａから見た状態の開閉扉の背面図である。

【図8】本発明の第１の実施の形態を示す図で、図７中のＢ部の拡大図である。

【図9】本発明の第１の実施の形態を示す図で、開閉扉を拡開した状態の開閉扉の取付け部位を示す斜視図である。

【図10】本発明の第１の実施の形態を示す図で、被乾燥物の支持構造を示す正面図である。

【図11】本発明の第１の実施の形態を示す図で、被乾燥物の支持構造を示す右側面図である。

【図12】本発明の第１の実施の形態を示す図で、被乾燥物の支持構造を示す平面図である。

【図13】本発明の第１の実施の形態を示す図で、被乾燥物の支持構造を示す図１１中の矢視Ｃから見た状態の底面図である。

【図14】本発明の第１の実施の形態を示す図で、被乾燥物の支持構造を示す図１１中のＤ部の拡大図である。

【図15】本発明の第１の実施の形態を示す図で、被乾燥物の支持構造を示す重量計測器と制御部との接続状態を示す配線図である。

【図16】本発明の第１の実施の形態を示す図で、減圧装置の全体構成と配管経路の概要を示す説明図である。

【図17】本発明の第１の実施の形態を示す図で、減圧装置を示す正面図である。

【図18】本発明の第１の実施の形態を示す図で、減圧装置を示す右側面図である。

【図19】本発明の第１の実施の形態を示す図で、減圧装置を示す左側面図である。

【図20】本発明の第１の実施の形態を示す図で、減圧装置を示す平面図である。

【図21】本発明の参考例を示す図で、本発明の乾燥食品の製造方法を実施する乾燥食品の製造ラインの概要を示す説明図である。

【図22】本発明の参考例を示す図で、あん蒸工程の一例を示す縦断正面図である。

【図23】本発明の参考例を示す図で、あん蒸工程の他の一例を示す縦断正面図である。

【図24】本発明の他の実施の形態を示す図で、蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機の全体構成と配管経路の概要を示す説明図である。

【図25】本発明の更に他の実施の形態を示す図で、蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機の全体構成と配管経路の概要を示す説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

以下、図１〜図２０に示す第１の実施の形態を例にとって、本発明の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機の構成と作動態様を説明し、図２１〜２３に示す参考例を例にとって、乾燥食品の製造方法の構成を説明する。

【0026】

（１）第１の実施の形態（図１〜図２０参照）
本発明の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１は、被乾燥物Ａを収容する開口部３と収容した被乾燥物Ａの重量を計測する重量計測器７１を有する支持構造７９とを備えた乾燥室本体５と、上記開口部３に開閉可能な状態で取り付けられ、閉塞時に上記乾燥室本体５内に遮蔽空間を形成する開閉扉７と、上記乾燥室本体５に対して取り付けられ、該乾燥室本体５内に収容される被乾燥物Ａに向けてマイクロ波を照射して被乾燥物Ａを乾燥させるマイクロ波照射装置９と、上記乾燥室本体５に対して接続され、該乾燥室本体５内に収容される被乾燥物Ａに向けて蒸気を供給して被乾燥物Ａを加熱・殺菌する蒸気供給装置６０１と、上記開口部３を閉塞した状態で上記乾燥室本体５内を減圧雰囲気にする減圧装置３０１と、を具備することによって基本的に構成されている。

【0027】

そして、本実施の形態では、蒸気供給装置６０１として、第１ヒーター装置６０３で水を温めて所定の温度（一例として５０℃）の温水にし、第２ヒーター装置６０５で上記温水を減圧雰囲気下で更に加熱して所定の温度（一例として８０℃）の低温蒸気を生成するという構成の蒸気供給装置が採用されている。
また、上記第１ヒーター装置６０３と第２ヒーター装置６０５との間には温水供給経路６２１が形成されており、上記第２ヒーター装置６０５と乾燥室本体５との間には蒸気供給経路６０７が形成されている。

【0028】

図示の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１は、アングル材等を矩形枠状に組み立てることによって構成される支持架台２３に対して、後述する重量計測器７１を有する支持構造７９が配設されている乾燥室本体５と開閉扉７とによって構成される乾燥室２５を一例として前方左側上部に配置している。
また、上記乾燥室２５の一例として下部には上述した蒸気供給装置６０１の第２ヒーター装置６０５が設けられており、該第２ヒーター装置６０５の一例として後方空間を利用して上述した第１ヒーター装置６０３が配置されている。

【0029】

また、上記支持架台２３の近傍には、同じくアングル材等を矩形枠状に組み立てることによって構成される別の支持架台３０３が設けられており、該支持架台３０３に対して、上記乾燥室本体５内を減圧雰囲気にする水封式真空ポンプ３０５と、該水封式真空ポンプ３０５を駆動するための水を給排水する循環式給排水装置３０７と、を備える減圧装置３０１が設けられている。
この他、前記乾燥室２５の一例として右側には、前面に表示部２７と操作ボタン２９とを備えた制御ボックス３１が配置されており、上記乾燥室２５と蒸気供給装置６０１との間と、上記乾燥室２５と減圧装置３０１との間には、蒸気やドレン等を供給ないし排出するための配管が適宜、配置されている。

【0030】

上記開閉扉７の前面の中央には、点検窓３９が設けられており、該点検窓３９の左右に開閉扉７を開閉する際に手を掛ける一例としてアーチ型のグリップ４１と、開閉扉７を乾燥室本体５の一例として前面に回動可能な状態で接続するヒンジ部４３と、が設けられている。
また、上記開閉扉７の前面の上縁と下縁には、一例として２ヶ所ずつ回転式のロックハンドル４５が設けられており、該ロックハンドル４５の先端の係止爪４７が上記乾燥室本体５の前面に設けられている係止フック４９に係止されることによって開閉扉７の閉塞状態がロックできるように構成されている。

【0031】

また、図６に示すように上記乾燥室２５の一例として側面には、乾燥室２５内に窒素ガスや空気を充填するためのガス導入部３５が設けられており、上記乾燥室２５内には、被乾燥物Ａを収容したコンテナ５９を水平に支持するとともに被乾燥物Ａの重量を計測する上述した重量計測器７１を有する支持構造７９が配設されている。
また、乾燥室本体５の開閉扉７を除く三方の側面部にはパンチングメタルにより形成された小室が設けられており、蒸気供給経路２０７をここに接続して蒸気が供給されるようになっている。これは、スチームトラップに代わってドレン等を下に落下させ、蒸気をより均一に被乾燥物Ａに浴びせることができるようにしたものである。
尚、乾燥室本体５の上面部にはスタラファンが備えられている。これは、マイクロ波電界を反射・撹拌することで加熱ムラを防止することができる。
そして、本実施の形態では、上記重量計測器７１が設けられている空間をダブルチョーク一体構造を適用した後述するマイクロ波影響防止機構７３によって遮蔽空間７５とすることによって、マイクロ波による乾燥を継続しながら時々刻々変化する被乾燥物Ａの重量変換を同時に計測できるように構成されている。

【0032】

乾燥室本体５内に収容される被乾燥物Ａとしては、収穫した生のモズクを洗浄・選別後水切りしたものが一例として適用できるが、他にイチゴ、みかん、柿等の果物やトマト、さつまいも等の野菜または肉等、種々の食材等が適用可能である。尚、それぞれの被乾燥物Ａには、適切な蒸し温度があり（例えば、葉物野菜では５０℃）、蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１はその温度に制御することができるように構成されている。
そして、本実施の形態では被乾燥物Ａとして生の原料モズクＡ０を使用しており、該原料モズクＡ０の重量を１／２程度になるまで乾燥させた半生モズクＡ１を製造する目的で蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１を使用している。
尚、被乾燥物Ａとして野菜や果物等を選択する場合には、高温で殺菌もしくは低温で蒸した後、含水率５〜６％程度まで乾燥させた乾燥野菜や乾燥果物を製造する目的で蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１を使用することも可能である。

【0033】

乾燥室本体５は、一例として前面に矩形状の開口部３が形成されている矩形筺体状の部材で、上記開口部３の周囲外方の前面が次に述べる開閉扉７の背面に設けられるシール構造１３に対向するシール面６１になっている。
開閉扉７は、上記開口部３より一回り大きな矩形板状の部材で、該開閉扉７の背面の外周寄りには、開閉扉７を閉塞状態にした時、上記シール面６１に当接する一例としてリング状のゴムパッキンによって構成されるシール部材１１を備えるシール構造１３が設けられている。
また、上記シール構造１３の内方における開閉扉７の背面にはマイクロ波漏洩防止機構２１が設けられている。

【0034】

マイクロ波漏洩防止機構２１は、上記開口部３と上記シール構造１３との中間経路６３上に設けられており、上記開口部３側に位置する第１チョーク１７と、上記シール構造１３側に位置する第２チョーク１９と、が向い合わせになるように周方向に所定ピッチで連続的に配置されたダブルチョーク一体構造のシール構造になっている。
具体的には、図９に示すように開閉扉７の背面から垂直に立ち上げられた長尺な遮蔽板６５の上端縁に先端部６７が基端部６９に対して９０°折り曲げられた断面Ｌ字形状の第１チョーク１７を設け、該遮蔽板６５の下端縁に上記第１チョーク１７と同形状、同サイズの第２チョーク１９を上記第１チョーク１７と対向する位置に配置することによってマイクロ波漏洩防止機構２１が構成されている。

【0035】

また、上記第１チョーク１７の先端部６７と第２チョーク１９の先端部６７との間には、ギャップＧが形成されており、該ギャップＧの中点Ｏから第１チョーク１７及び第２チョーク１９のそれぞれの先端部６７と基端部６９の接続点Ｂまでの距離Ｌ１は、上記中点Ｏから遮蔽板６５側に下ろした垂線と遮蔽板６５の対向面との接点Ｃまでの距離Ｌ２とほぼ等しく、共に使用するマイクロ波の波長λの１／４程度の長さになるように設定される。
因みに、このような寸法設定を採用することによって、上記中間経路６３中に上記波長λの１／４の長さの迂回路が形成され、該迂回路での反射波と上記接続点Ｂから中点Ｏに向かう波との位相差が上記波長λの１／２になって互いに打ち消し合うことになり、乾燥室２５外へのマイクロ波の漏洩が防止されるのである。

【0036】

また、本実施の形態では、被乾燥物Ａが収容されたコンテナ５９を支持する支持構造７９として下端部に矩形状の上面遮蔽板９３を備えたコンテナ支持フレーム９５と、上記乾燥室本体５内の底面に設けられ、上端部に上記上面遮蔽板９３とほぼ同じ大きさの下面遮蔽板９７を備えたベースフレーム９９と、が設けられている。
また、上記上面遮蔽板９３と下面遮蔽板９５によって挟まれた遮蔽空間７５内には、被乾燥物Ａの重量を計測する重量計測器として一例として３基のロードセル７１が図１２に示すように配置されており、遮蔽空間７５の外周部にはチョーク構造のマイクロ波影響防止機構７３が配設されている。

【0037】

また、上記乾燥室本体５内の底面の前後から上方に向けてドレンパン１０１用の固定プレート１０３が一例として４枚立ち上げられており、これら４枚の固定プレート１０３の上端部に一例として底面が図１０中、右方に傾斜している平面視矩形状のドレンパン１０１が取り付けられている。
上記ベースフレーム９９は、乾燥室本体５内の底面上に固定される一例として４個の固定ベース１０５と、該固定ベース１０５上に配置され、上記下面遮蔽板９７の下面に取り付けられている４個のフット１０７と、上面にロードセル７１の一端が固定されている上記下面遮蔽板９７と、を備えることによって構成されている。

【0038】

一方、上記コンテナ支持フレーム９５は、上記ロードセル７１の他端が下面に固定されている上述した上面遮蔽板９３と、該上面遮蔽板９３の上方に立ち上げられている下部フレーム１０９と、該下部フレーム１０９の上端部に設けられ、前後方向に延びる２本のガイドレール１１１、１１１を左右両端に配置して支持する上部フレーム１１３とを備えることによって構成されている。

【0039】

また、ロードセル７１は、起歪体と歪みゲージとブリッジ回路を備えた荷重を電気信号に変換する荷重変換器である。そして、本実施の形態では上述したように３基のロードセル７１を使用して被乾燥物Ａの重量変化を計測しており、図１５に示すように各ロードセル７１によって計測されたデータは電気信号として出力され、和算箱１１５において上記３つの計測データが和算され、和算されたデータが制御ボックス３１に送信される。
尚、上記制御ボックス３１に送信された和算されたデータは、制御ボックス３１の前面に設けられている指示計としてのインジケータ１２７や表示部２７となるモニタ上に数値として表示させたり、制御部１１７に送信されて乾燥時間やマイクロ波の照射量の制御に利用される。

【0040】

また、上記上面遮蔽板９３の下面の外周部には、前記マイクロ波漏洩防止機構２１と同じダブルチョーク一体構造の図１３に示すマイクロ波影響防止機構７３が設けられている。
具体的には、図１０及び図１１に示すように上面遮蔽板９３の下面に必要に応じて適宜のスペーサ１１９を介してマイクロ波影響防止機構７３の遮蔽板６５を取り付け、第１チョーク１７と第２チョーク１９を下方の下面遮蔽板９７の上面に臨ませた状態にする。
そして、このような配設態様をとることによってロードセル７１が設けられている遮蔽空間７５は、周りの乾燥室本体５の内部雰囲気と区画され、マイクロ波の流入が防止された空間になっている。

【0041】

更に、本実施の形態では、図１０、１１及び図１４に示すように上記遮蔽空間７５の外方に上記上面遮蔽板９３と、下面遮蔽板９７と、マイクロ波影響防止機構７３とを被覆するマイクロ波遮断パネル１２１が配設されている。該マイクロ波遮断パネル１２１は、構造的に高周波回路的なマイクロ波の遮蔽効果を補助している。
従って、本実施の形態では上記マイクロ波影響防止機構７３による高周波回路的なマイクロ波の遮蔽効果に加えてマイクロ波遮断パネル１２１による構造的なマイクロ波の遮蔽効果が発揮されるから遮蔽空間７５内へのマイクロ波の漏洩がより一層、防止された構造になっている。

【0042】

マイクロ波照射装置９は、上述した乾燥室２５の天板の上方に設けられており、該マイクロ波照射装置９から照射されるマイクロ波を上記乾燥室本体５内に導くための図示しない開口が乾燥室２５の天板に形成されている。
尚、上記マイクロ波照射装置９としては、マイクロ波の最大可変出力が一例として３０００ｗ程度のものが１基設けられており、該マイクロ波照射装置９の側傍には、マイクロ波を照射することによって過熱したマイクロ波照射装置９を冷却するための冷却ファンが設けられている。

【0043】

蒸気供給装置６０１は、上述したように第１ヒーター装置６０３と第２ヒーター装置６０５を備えている。このうち、第１ヒーター装置６０３は、蒸気を生成するための水を蓄える温水タンク６０９と、温水タンク６０９内の水を加熱するためのヒーター６１１と、温水タンク６０９内の水の温度を検知して上記ヒーター６１１の加熱温度の制御に使用される温度センサ６１３と、温水タンク６０９内の水位を検出するボールタップ６１５と、温水タンク６０９内に水を補給するノズル６１７と、を備えることによって一例として構成されている。

【0044】

上記第１ヒーター装置６０３によって温められた温水は、途中に二方弁６１９が設けられている温水供給経路６２１を通って、第２ヒーター装置６０５の減圧加熱室６２３内に導かれる。減圧加熱室６２３には、減圧加熱室６２３内に供給された温水を加熱して蒸気を生成するために一例として２基、設けられているヒーター６２５と、減圧加熱室６２３内の温度を検知して上記ヒーター６２５の加熱温度の制御に使用される温度センサ６２７と、減圧加熱室６２３内に供給された温水の水位を検出するためのレベルセンサ６２９と、が設けられている。
そして、上記レベルセンサ６２９によって検知された減圧加熱室６２３内の温水の水位の変化に基づいて前記二方弁６１９の開閉が適宜、制御される。また、上記減圧加熱室６２３は、減圧に耐えられる剛性と気密性を有しており、前記乾燥室本体５と蒸気供給経路６０７で連絡することによって、次に述べる減圧装置３０１で生成する減圧雰囲気が上記乾燥室本体５を介して第２ヒーター装置６０５の減圧加熱室６２３にも及ぶように構成されている。この他、上記乾燥室本体５を減圧する減圧装置３０１とは別の図示しない減圧装置を設けて上記減圧加熱室６２３内の減圧雰囲気の調整のみを目的として別に設けた上記減圧装置を使用することも勿論可能である。

【0045】

そして、上記第２ヒーター装置６０５の上部と上記乾燥室本体５の上部との間に蒸気供給経路６０７が形成されており、該蒸気供給経路６０７には、蒸気の供給及び停止と大気に開放する場合とを切り替えることができる三方弁６３３と、蒸気供給経路６０７を流れる低温蒸気の圧力を検知する圧力センサ６３５とが配置されている。
この他、上記乾燥室本体５には、乾燥室本体５内の温度を計測する温度センサ２２９と、吸気用の二方弁２５１と、導入した気流の流量を調節する流量調整弁２５３と、乾燥中の被乾燥物Ａの品温を計測し上記マイクロ波照射装置９のマイクロ波出力の調整に使用される品温調整器２５５が設けられている。

【0046】

また、上記乾燥室本体５の下部には、次に述べる減圧装置３０１に向けて延びる排出経路２３５が形成されており、該排出経路２３５の途中には、外部から空気を取り込んで経路内の圧力を調整するニードル弁２４７と、該ニードル弁２４７を開くことによって導入される空気の流量を調整する流量調整弁２４９が設けられている。

【0047】

減圧装置３０１は、前述したように水封式真空ポンプ３０５と循環式給排水装置３０７を備えることによって基本的に構成されており、更に両者の間に給水経路３０９と排水経路３１１が配設されている。
水封式真空ポンプ３０５は、水蒸気や水滴を含んだ気体の排気等に利用されるポンプで、シリンダに対して偏心して取り付けられる羽根車の回転を利用してシリンダの内壁に封水リングを形成し、該封水リングと羽根車の羽根によって囲まれた空間の容積変化を利用してポンプ作用を行うようにしたものである。

【0048】

循環式給排水装置３０７は、支持架台３０３の内部に上記タンク３１３と下部タンク３１５を備えることによって一例として構成されており、上部タンク３１３には、外部から水を供給するための給水ノズル３１７と、上部タンク３１３内の水位を計測するためのボールタップ３１９と、上部タンク３１３内の水温を計測するための温度センサ３２１と、が配置されている。
一方、下部タンク３１５内には、水中ポンプ３２３が配置されており、上述した水封式真空ポンプ３０５から排出され、排出経路３１１を通って下部タンク３１５内に貯った水を汲み上げて上部タンク３１３に供給できるように構成されている。

【0049】

尚、上記水中ポンプ３２３と上部タンク３１３とを接続する循環経路３２５の途中には、一例としてモータによって駆動される三方弁３２７が配置されており、当該三方弁３２７を適宜切り替えることによって、上記水中ポンプ３２３によって汲み上げた水を上部タンク３１３内に供給したり、外部に排水できるように構成されている。
また、上部タンク３１３内の底部から上述した給水経路３０９が延びており、該給水経路３０９の他端が上述した水封式真空ポンプ３０５に接続されている。

【0050】

次に、このようにして構成される第１の実施の形態による蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１を使用して被乾燥物Ａを加熱・殺菌ないし乾燥する場合の作業手順と、上記シール構造１３とマイクロ波漏洩防止機構２１とマイクロ波影響防止機構７３の作用とについて説明する。
まず、加熱・殺菌及びマイクロ波乾燥させる被乾燥物Ａをコンテナ５９等の容器に入れ、グリップ４１を握って開閉扉７を手前に開く。そして、開放された開口部３から乾燥室本体５内の支持構造７９における上部フレーム１１３の上にガイドレール１１１を滑らせるようにして手前から上記コンテナ５９を載置する。
次に、グリップ４１を握り開閉扉７を閉めて開口部３を閉塞状態にする。続いて、ロックハンドル４５を握り所定の方向にロックハンドル４５を回してロックハンドル４５の係止爪４７を乾燥機本体５の前面に設けられている係止フック４９に係止して開閉扉７の閉塞状態をロックする。

【0051】

次に、ロードセル７１を使用して被乾燥物Ａの初期重量を計測し、制御ボックス３１の前面の操作ボタン２９を押して減圧装置３０１を起動して乾燥室本体５と減圧加熱室６２３の雰囲気を減圧雰囲気にする。
続いて、蒸気供給装置６０１を起動して第１ヒーター装置６０３を使用し、所定の温度（例えば５０℃）の温水を沸かして温水供給経路６２１を介して第２ヒーター装置６０５の減圧加熱室６２３内に温水を供給する。

【0052】

減圧加熱室６２３内では、ヒーター６２５によって供給された温水が更に加熱されて所定の温度（例えば８０℃）の低温蒸気が生成される。生成された低温蒸気は蒸気供給経路６０７を通って乾燥室本体５内に導入されて乾燥室本体５内の被乾燥物Ａを所定の時間（例えば５分間）加熱・殺菌する。
次に、上記ヒーター６２５を停止してマイクロ波照射装置９によるマイクロ波乾燥に移行し、品温調整器２５５によって被乾燥物Ａの品温を確認しながら被乾燥物Ａの重量が所定の目標重量（例えば初期重量の１／２）になるまで乾燥させる。尚、設定した入力情報や乾燥室２５内の温度等が乾燥中、表示部２７に表示される。

【0053】

また、乾燥中の乾燥室本体５内の気密性は、シール構造１３により開閉扉７の背面に設けられているシール部材１１が乾燥室本体５の前面のシール面６１に圧接されることによって保たれている。
また、マイクロ波の乾燥室本体５外への漏洩は、上述したダブルチョーク一体構造のマイクロ波漏洩防止機構２１による作用で高周波回路的に防止されており、マイクロ波のロードセル７１が存する遮蔽空間７５内への流入は、上述したダブルチョーク一体構造のマイクロ波影響防止機構７３による高周波回路的な遮蔽効果とマイクロ波遮断パネル１２１による構造的な遮蔽効果によって防止されている。

【0054】

（２）参考例（図１及び図２１〜図２３参照）
参考例の乾燥食品の製造方法は、１００℃以下の低温蒸気を所定時間、被乾燥物Ａに浴びせて加熱・殺菌する加熱・殺菌工程Ｓ５と、加熱・殺菌された被乾燥物Ａに減圧雰囲気下でマイクロ波を照射して所定の水分量になるまで被乾燥物の重量を計測しながら乾燥させる乾燥工程Ｓ６と、を備えることによって基本的に構成されている。

【0055】

また、本参考例では、被乾燥物Ａとして収穫された生のモズク（原料モズクＡ０）を使用しており、上記加熱・殺菌工程Ｓ５に至る前工程として、冷凍保管しておいた原料モズクＡ０を自然解凍する解凍工程Ｓ０と、原料モズクＡ０に付着している汚れと小粒形軽量異物Ｆ１と小粒形重量異物Ｇ１を除去する洗浄選別工程Ｓ１と、上記洗浄選別工程Ｓ１で除去できなかった大型の軽量異物Ｆ２と大型の重量異物Ｇ２を作業者が目視によって除去する目視選別工程Ｓ２と、上記異物Ｆ１、Ｆ２、Ｇ１、Ｇ２が除去された原料モズクＡ０の表面に付着している水分を除去する脱水工程Ｓ３と、脱水された原料モズク等Ａ０の絡みを解いてコンテナ５９上に所定量ずつ平らに散布する散布工程Ｓ４と、が設けられている。
更に、上記乾燥工程Ｓ６の後工程として、完成した半生モズクＡ１（乾燥食品Ｄ）を冷暗室に所定時間保管して水分量の均一化を図るあん蒸工程Ｓ７が設けられており、これら８つの工程によって本実施の形態による乾燥食品の製造方法は構成されている。

【0056】

以下、これらの工程のうち参考例の特徴的構成となる（Ａ）加熱・殺菌工程Ｓ５と（Ｂ）乾燥工程Ｓ６を中心に説明し、（Ｂ）乾燥工程Ｓ６の終了後に行う（Ｃ）あん蒸工程Ｓ７について言及する。
（Ａ）加熱・殺菌工程（図１及び図２１参照）
コンテナ５９に原料モズクＡ０を３〜５ｋｇ程度収容し、乾燥室本体５内に入れてコンテナ５９ごと原料モズクＡ０の初期重量をロードセル７１によって計測する。
次に、減圧装置３０１を起動して第２ヒーター装置６０５の減圧加熱室６２３内の雰囲気を所定の減圧状態にする。尚、この時、乾燥室本体５に設けられている気流導入用の電動の二方弁２５１は閉塞しておく。

【0057】

また、第１ヒーター装置６０３を起動して予め５０℃程度の温水を沸かして第２ヒーター装置６０５の減圧加熱室６２３内に供給しておく。
次に、第２ヒーター装置６０５を起動して８０℃の低温蒸気を生成して乾燥室本体５内に供給し、乾燥室本体５内の原料モズクＡ０を約５分間、加熱・殺菌する。
尚、上記８０℃の低温の飽和蒸気を得るためには、減圧加熱室６２３と乾燥室本体５内の圧力を４７．５ｋＰａ・ａｂｓ程度まで減圧する必要があり、圧力センサ６３５により吸気用のニードル弁２４７を上記圧力に比例させて制御し、この状態を維持して８０℃の低温蒸気で加熱・殺菌を実施する。

【0058】

また、加熱・殺菌に使用された低温蒸気は、ドレンとともに減圧装置３０１の排水経路３１１上に設けられている三方弁３１２を開いて外部に排出される。また、加熱・殺菌終了後、上記三方弁３１２が閉じて水封式真空ポンプ３０５の排水は、循環式給排水装置３０７に戻され、繰り返し循環利用される。
尚、低温蒸気の生成量は、減圧加熱室６２３に設けられている温度センサ６２７の計測値に基づいてヒーター６２５の発熱量で調整されている。

【0059】

（Ｂ）乾燥工程（図１及び図２１参照）
次に、半生モズクの食感を失うことなく重量を１／２まで乾燥する工程に入る。この工程は、蒸気の供給を停止してマイクロ波加熱で行う。
先ず、上述した加熱・殺菌工程Ｓ５が終了後、減圧加熱室６２３内のヒーター６２５を停止し、上述したニードル弁２４７を閉塞して水封式真空ポンプ３０５の吸入空気のすべてが減圧加熱室６２３と乾燥室本体５から吸入されるようにする。
次に、圧力センサ６３５の設定を８０℃の飽和蒸気を生成させる４７．４ｋＰａ・ａｂｓから４０℃の飽和蒸気を生成させる７．４ｋＰａ・ａｂｓに変更し、圧力センサ６３５が７．４ｋＰａ・ａｂｓに到達したと判断したら蒸気供給経路６０７の三方弁６３３を駆動して乾燥室本体５側の弁を閉じ、減圧加熱室６２３を大気に開放する。

【0060】

また、乾燥室本体５内の圧力が７．４ｋＰａ・ａｂｓに到達したら二方弁（気流導入弁）２５１を開放して、空気または窒素ガスを気流導入し、流量調整弁２５３で上記７．４ｋＰａ・ａｂｓの圧力を維持する。
次に、マイクロ波照射装置９を起動して二方弁２５１を開放し、スタラファン２５７をＯＮにしてマイクロ波による乾燥を実行する。尚、上記マイクロ波による乾燥中、ロードセル７１によって原料モズクＡ０の重量変化が計測されており、品温調整器２５５によって原料モズクＡ０の品温が管理されているため、原料モズクＡ０の風味を損なうことなく原料モズクＡ０の重量が初期重量の１／２程度になるまで乾燥させた半生モズクＡ１が得られる。
そして、所定の乾燥が終了し、乾燥食品Ｄである半生モズクＡ１が完成したら、操作ボタン２９を押して蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１のすべての駆動を停止する。

【0061】

（Ｃ）あん蒸工程（図２１〜図２３参照）
あん蒸とは、乾燥食品Ｄの水分量の均一化を図る操作である。上記乾燥工程によって製造された半生モズクＡ１を蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１からコンテナ５９ごと取り出し、図２２に示すようにあん蒸保管庫７０１の上面が開放された容器本体７０３内に段積み状態で収容する。そして、上記容器本体７０３の開放された上面を蓋体７０５で閉めて冷暗室に運んで所定時間保管し、あん蒸処理が実行される。
また、あん蒸工程の他の実施形態としては、乾燥室本体５から取り出された半生モズクＡ１をコンテナ５９から出して図２３に示すように重ね合わせた状態で袋詰めし、あん蒸保管庫７０１の他の一例であるモズク容器７０７内に収容する。そして、モズク容器７０７の開放された上面を蓋体７０９で閉めて冷暗室に運び、所定時間保管して、あん蒸処理を実行する。

【0062】

また、このようなあん蒸処理が実行された半生モズクＡ１は、水分量の均一化が図れ、凍結してもムラが生じない。また、本実施の形態では容器本体７０３やモズク容器７０７内に収容される半生モズクＡ１の量は１０〜２０ｋｇ程度であり、２４時間程度、あん蒸処理が実行された後、計量・充填されて包装され、市場に提供される。具体的には、１０〜２０ｋｇで袋詰めしたものをそのまま梱包して出荷するか、１００〜２００ｇに分包されてから段ボール箱に詰めて出荷する。

【0063】

このように、本参考例では、脱水工程Ｓ３及び散布工程Ｓ４を経て水切りされた原料モズクＡ０に対して加熱・殺菌工程Ｓ５を実施しているから、原料モズクＡ０の風味を損なわせることなく加熱・殺菌が実行され、加熱・殺菌工程Ｓ５と乾燥工程Ｓ６を気密性を保った乾燥室本体５内で実行しているから加熱・殺菌中ないし乾燥中の落下菌の付着の問題も生じない。
また、低温での加熱・殺菌が難しい包装後の加熱・殺菌が不要になる。

【0064】

そして、このようにして製造された半生モズクＡ１は、乾燥モズクのように水に戻す必要がないため、そのまま料理に使用でき、天ぷらや味付けモズク等に加工できる。因みに半生モズクＡ１を天ぷらに加工した場合には油の飛び跳ねが無くカラッと揚がり、味付けモズクにした場合には調味液の吸収性に優れているから塩分を控えても満足の行く味となる。
この他、半生モズクＡ１は原料モズクＡ０に比べて重量と体積が約半分であるから、従来の出荷量と比較してほぼ倍の量の出荷が可能であり、包装、輸送、冷凍保管等に要する費用を大幅に削減する効果も有している。

【0065】

尚、本発明の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１は、上記の実施の形態のものに限定されずその発明の要旨内での変更が可能である。
例えば、蒸気供給装置の構成は、前述した第１の実施の形態で述べた構成の蒸気供給装置６０１に限らず、同様の低温蒸気生成能力を有する種々の構成が採用可能である。具体的には、図２４に示すボイラー設備２０３と蒸気供給経路２０７と蒸気循環経路２０９とを備えた構成の蒸気供給装置２０１や、図２５に示すボイラー設備５０３と冷却機５０５と蒸気供給経路５０７とを備えた構成の蒸気供給装置５０１を採用することが可能である。

【0066】

このうち、図２４に示す蒸気供給装置２０１は、蒸気発生部となるボイラー設備２０３と、該ボイラー設備２０３から供給された高温の蒸気を１００℃以下の低温蒸気（本実施例の形態では４０〜７０℃程度の低温蒸気を使用）にする低温蒸気生成部２０２と、これらのボイラー設備２０３及び蒸気生成部２０２と前記乾燥室本体５とを接続する前述した蒸気供給経路２０７、蒸気循環経路２０９及び蒸気調整経路２１３と、を備えることによって一例として構成されている。

【0067】

ボイラー設備２０３としては、一例として液化石油ガスを燃料とする最高出力が０．６８ＭＰａ程度のボイラー２１５が適用でき、該ボイラー２１５から延びる蒸気供給経路２０７には、該ボイラー２１５の使用圧力範囲を調整するための圧力ゲージ２３３、減圧弁２３７あるいはバイパス弁２４５等が適宜配置されている。
低温蒸気生成部２０２は、上記ボイラー設備２０３から供給された蒸気の温度を制御して上述した所定の温度の低温蒸気にする真空減圧弁２０５と、蒸気調整経路２１３を高真空にして蒸気供給経路２０７中の不凝縮ガスやドレンを吸引するエゼクター２１１と、エゼクター２１１用の駆動水を貯えるタンク２１７と、該タンク２１７内の駆動水を加圧するラインポンプ２１９と、蒸気調整経路２１３中のドレンを排除して安定した蒸気の供給を可能にするスチームトラップ２２１を備えることによって基本的に構成されている。

【0068】

また、この他、上記タンク２１７にはレベルセンサ２２３とタンク２１７内に水を補給する場合に使用するモータ駆動式の二方弁２２５が設けられている。更に、上記真空減圧弁２０５の下流の蒸気供給経路２０７と蒸気調整経路２１３の接続部には、冷水補給口を兼ねた過熱防止弁２２７が設けられており、蒸気調整経路２１３の途中には適宜、圧力ゲージ２３３が配置されている。
蒸気供給経路２０７は、蒸気調整経路２１３との接続点を経て更に乾燥室本体５の上部側方に向けて延びている。そして、上述した過熱防止弁２２７の下流には蒸気供給経路２０７内を流れる低温蒸気の温度を計測する温度センサ２２９が配置されており、該温度センサ２２９の下流には低温蒸気の圧力を検知する圧力センサ２３１が配置されている。更に、該圧力センサ２３１の下流には二方弁２２５が配置されており、上記乾燥機本体５との接続部近傍にも圧力センサ２３１が配置されている。

【0069】

蒸気循環経路２０９は、上記乾燥機本体５の下部から次に述べる減圧装置３０１に向けて延びている排出経路２３５の途中から上述した蒸気供給経路２０７と蒸気調整経路２１３に向けて形成されている。
蒸気循環経路２０９の上流側には二方弁２２５と逆止弁２３９が配置されており、分岐２４１で蒸気供給経路２０７側と蒸気調整経路２１３側の２経路に分かれている。このうち蒸気供給経路２０７側に延びている経路は、上述した温度センサ２２９が配置されている接続点に合流しており、その経路途中にスチームトラップ２２１とバイパス弁２４５が配置されている。一方、蒸気調整経路２１３側に延びている経路は、蒸気調整経路２１３に配置されているスチームトラップ２２１の下流位置の接続点に合流している。

【0070】

このうち、図２５に示す蒸気供給装置５０１では、前述した図２４に示す蒸気供給装置２０１のボイラー設備２０３と同様のボイラー設備５０３が設けられており、該ボイラー設備５０３には、ボイラー５０９と圧力ゲージ５１１と減圧弁５１３とバイパス弁５１５とが備えられている。そして、上記ボイラー設備５０３から乾燥室本体５に向けて蒸気供給経路５０７が延びており、該蒸気供給経路５０７の上流位置に二方弁５１７を経由して冷却機５０５が配置されている。
冷却機５０５としては、冷却ファン５１９と冷却管路５２１とを備えた送風式の冷却装置が一例として適用でき、該冷却機５０５の下流には、温度センサ５２３を経由して給水タンク５２５から延びる給水経路５２７との合流点に設けられているミストノズル５２９に至るように構成されている。尚、上記冷却ファン５１９による風量は、上記温度センサ５２３で検知した蒸気温の高低に基づいて適宜、増減し得るように制御されている。

【0071】

給水タンク５２５には、冷却機５０５によって冷却された蒸気の温度が高い場合に当該蒸気の温度を下げるための水が蓄えられており、更に当該水の水位を検出するためのボールタップ５３１と、水位が低くなった場合に水を補給するノズル５３３とが設けられている。また、上記給水タンク５２５の下流の給水経路５２７上には二方弁５３５が設けられている。
上記ミストノズル５２９に供給された水はミスト化され、冷却機５０５から供給された低温蒸気といっしょになって、下流側の蒸気供給経路５０７を通って途中、二方弁５３５を経由して乾燥室本体５内へ導かれる。また、蒸気供給経路５０７の下流側の終端には、圧力センサ５３７が設けられており、当該圧力センサ５３７によって検知されたミスト混合蒸気の圧力の大小に基づいて前述した冷却機５０５の上流位置の二方弁５１７の開閉が適宜、制御されるように構成されている。

【0072】

そして、このようにして構成される図２４に示す蒸気供給装置２０１や、図２５に示す蒸気供給装置５０１を使用しても低温蒸気を使用した加熱・殺菌を行うことが可能であり、前述した図１に示す蒸気供給装置６０１と同様の作用、効果を発揮することができる。
また、減圧装置３０１の構成も前述した第１の実施の形態で述べた構成に限られないし、ボイラー設備２０３の能力やマイクロ波照射装置９のマイクロ波容量も加工する被乾燥物Ａの種類や量によって適宜、可変することが可能である。
この他、蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機１の開閉扉７の構造は、前述した第１の実施の形態で述べた片開き式の開閉扉７に限らず、スライド式の開閉扉７でもよく、乾燥室本体５の大きさや被乾燥物Ａの種類に応じて被乾燥物Ａの出し入れがし易い種々の構造の開閉扉７を採用することが可能である。

【産業上の利用可能性】

【0073】

本発明の蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機は、蒸気による加熱・殺菌と乾燥とを組み合わせた乾燥食品の製造・使用分野等で利用でき、特に乾燥中の被乾燥物の重量計測が不可欠な半生モズク等の乾燥食品を効率良く風味を残した状態で製造したい場合に利用可能性を有する。

【符号の説明】

【0074】

１ 蒸気・マイクロ波併用減圧乾燥機
３ 開口部
５ 乾燥室本体
７ 開閉扉
９ マイクロ波照射装置
１１ シール部材
１３ シール構造
１７ 第１チョーク
１９ 第２チョーク
２１ マイクロ波漏洩防止機構
２３ 支持架台
２５ 乾燥室
２７ 表示部
２９ 操作ボタン
３１ 制御ボックス
３５ ガス導入部
３９ 点検窓
４１ グリップ
４３ ヒンジ部
４５ ロックハンドル
４７ 係止爪
４９ 係止フック
５９ コンテナ
６１ シール面
６３ 中間経路
６５ 遮蔽板
６７ 先端部
６９ 基端部
７１ ロードセル
７３ マイクロ波影響防止機構
７５ 遮蔽空間
７９ 支持構造
９３ 上面遮蔽板
９５ コンテナ支持フレーム
９７ 下面遮蔽板
９９ ベースフレーム
１０１ ドレンパン
１０３ 固定プレート
１０５ 固定ベース
１０７ フット
１０９ 下部フレーム
１１１ ガイドレール
１１３ 上部フレーム
１１５ 和算箱
１１７ 制御部
１１９ スペーサ
１２１ マイクロ波遮蔽パネル
１２７ インジケータ（指示計）
２０１ 蒸気供給装置
２０２ 低温蒸気生成部
２０３ ボイラー設備
２０５ 真空減圧弁
２０７ 蒸気供給経路
２０９ 蒸気循環経路
２１１ エゼクター
２１３ 蒸気調整経路
２１５ ボイラー
２１７ タンク
２１９ ラインポンプ
２２１ スチームトラップ
２２３ レベルセンサ
２２５ 二方弁
２２７ 過熱防止弁
２２９ 温度センサ
２３１ 圧力センサ
２３３ 圧力ゲージ
２３５ 排出経路
２３７ 減圧弁
２３９ 逆止弁
２４１ 分岐
２４５ バイパス弁
２４７ ニードル弁
２４９ 流量調整弁
２５１ 二方弁
２５３ 流量調整弁
２５５ 品温調整器
２５７ ステラファン
３０１ 減圧装置
３０３ 支持架台
３０５ 水封式真空ポンプ
３０７ 循環式給排水装置
３０９ 給水経路
３１１ 排水経路
３１２ 三方弁
３１３ 上部タンク
３１５ 下部タンク
３１７ 給水ノズル
３１９ ボールタップ
３２１ 温度センサ
３２３ 水中ポンプ
３２５ 循環経路
３２７ 三方弁
４１５ 計量器
４１７ プレス装置
４２１ マイクロ波減圧撹拌乾燥機
４２３ 支持フレーム
４２５ 乾燥室
４２７ 開閉扉
４２９ ハンドル
４３１ ロック装置
４３３ マイクロ波照射装置
４３５ 制御盤
４３７ 撹拌軸
４３９ 撹拌羽根
４４１ 切断羽根
４４３ 撹拌モータ
４４５ ギアヘッド
４４７ 排出口
４４９ 排出箱
４５１ 吸引パイプ
４５３ 真空ポンプ
４５５ 供給ホース
４５７ ガスボンベ
４６１ マイクロ波減圧乾燥機
４８１ 密閉容器（膨化発泡装置）
４９１ 切断機
４９３ カッタ刃
４９５ 投入ホッパ
５０１ 蒸気供給装置
５０３ ボイラー設備
５０５ 冷却機
５０７ 蒸気供給経路
５０９ ボイラー
５１１ 圧力ゲージ
５１３ 減圧弁
５１５ バイパス弁
５１７ 二方弁
５１９ 冷却ファン
５２１ 冷却管路
５２３ 温度センサ
５２５ 給水タンク
５２７ 給水経路
５２９ ミストノズル
５３１ ボールタップ
５３３ ノズル
５３５ 二方弁
５３７ 圧力センサ
６０１ 蒸気供給装置
６０３ 第１ヒーター装置
６０５ 第２ヒーター装置
６０７ 蒸気供給経路
６０９ 温水タンク
６１１ ヒーター
６１３ 温度センサ
６１５ ボールタップ
６１７ ノズル
６１９ 二方弁
６２１ 温水供給経路
６２３ 減圧加熱室
６２５ ヒーター
６２７ 温度センサ
６２９ レベルセンサ
６３１ 温度センサ
６３３ 三方弁
６３５ 圧力センサ
７０１ あん蒸保管庫
７０３ 容器本体
７０５ 蓋体
７０７ モズク容器
７０９ 蓋体
Ａ 被乾燥物
Ａ０ 原料モズク
Ａ１ 半生モズク
Ｆ１ 小粒形軽量異物
Ｆ２ 大型の軽量異物
Ｇ１ 小粒形重量異物
Ｇ２ 大型の重量異物
Ｇ ギャップ
Ｏ 中点
Ｂ 接続点
Ｃ 接点
Ｌ 距離
Ｄ 乾燥食品
ＬＤ 製造ライン
Ｓ０ 解凍工程
Ｓ１ 洗浄選別工程
Ｓ２ 目視選別工程
Ｓ３ 脱水工程
Ｓ４ 散布工程
Ｓ５ 加熱・殺菌工程
Ｓ６ 乾燥工程
Ｓ７ あん蒸工程

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】