発明の名称 水素分離膜の処理方法及び水素分離方法
出願人 東京瓦斯株式会社 (識別番号 220262)
特許公開件数ランキング 481 位(64件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 405 位(74件)(共同出願を含む)
出願人 国立大学法人名古屋大学 (識別番号 504139662)
特許公開件数ランキング 267 位(189件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 257 位(178件)(共同出願を含む)
出願人 独立行政法人国立高等専門学校機構 (識別番号 504237050)
特許公開件数ランキング 1094 位(43件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 1904 位(30件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-6093985
公報発行日 2017年3月15
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6093985
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