(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の説明により本発明が限定されるものではない。また、以下の説明における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。
【0015】
図1は、外側鋳型となる乾燥成形体の構成図である。
図2は、外側鋳型となる他の乾燥成形体の構成図である。
図1に示すように、精密鋳造用鋳型は、鋳物の製造に用いる精密鋳造用鋳型であって、前記鋳物の内部の空洞部分に対応する形状のコアと、前記鋳物の外周面の形状に対応する外側鋳型と、を有し、前記外側鋳型は、内周面に形成され、粒径1.0μm以下(好適には0.3〜0.5μm:実施例に記載)の単一分散してなるジルコニア超微粒子からなる精密鋳造用鋳型スラリーを用いて乾燥してなるスラリー膜からなるプライム層(第1乾燥膜)101Aと、前記プライム層(第1乾燥膜)101Aの外側に形成され、前記精密鋳造用鋳型スラリーからなるスラリー層102と、該スラリー層102にスタッコ材を付着したスタッコ層103とにより形成し、乾燥してなる第1バックアップ層(第2乾燥膜)104−1を、複数回形成してなる複層バックアップ層105Aと、からなるものである。
【0016】
ここで、本発明でスラリーを形成するバインダである高純度超微粒のジルコニア微粒子(ジルコニア超微粒子)は、分散手段である例えばボールミルを用いて、単一分散されているものを用いる。
ジルコニア微粒子としては、イットリア安定化ジルコニア(YSZ)を用いることができる。
ここで、単一分散されているとは、例えば粒径が約0.3μmのジルコニア微粒子を用いてスラリーを形成する場合、分散処理をした結果においても、0.5μmに単一分散されている状態をいう。
ここで、ジルコニア微粒子の粒径としては、1.0μm以下、より好ましくは0.3〜0.6μmの範囲とするのが良い。
【0017】
本発明では、ジルコニア微粒子が1.0μm以下が好ましいのは、1.0μmを超えると、曲げ試験強度の結果が好ましくないことによる。
【0018】
この単一分散されたジルコニア微粒子のバインダに、フラワーとして、ジルコン粉(例えば350メッシュ)を添加して精密鋳造用鋳型スラリーを得る。
なお、本発明では、フラワーを添加しない場合も許容されうる。
【0019】
ここで、単一分散させるための分散剤として、例えばポリカルボン酸塩(例えばアンモニウム塩)を用いて、分散させるようにしている。
【0020】
また、分散手段としては、例えば直径10〜20mmボールを用いたボールミルを例示することができるが、単一分散する手段であれば、これに限定されるものではない。
【0021】
本発明では、バインダであるジルコニア微粒子を単一分散させた良好なスラリーとすることが肝要となる。
図3、
図4は、ジルコニア微粒子の粒度分布を示す図である。
単一分散としては、粒径分布が狭いことが必要となり、平均粒径が0.3μmの場合、
図3に示すように、中心粒径(d:0.3μm)から、0.8d(0.24)〜1.07d(0.32)の範囲に分布がおさまるような分散となっているのが好ましい。
【0022】
また、平均粒径が0.6μmの場合、
図4に示すように、中心粒径(d:0.6μm)から、0.8d(0.48)〜1.2d(0.72)の範囲に分布がおさまるような分散となっているのが好ましい。
【0023】
ここで、粒度分布の計測は、下記装置によった。
株式会社アイシンナノテクノロジーズ製、「CILAS 850B型」のレーザー散乱・回折式粒度分布測定装置を用いた。
【0024】
次に、精密鋳造用鋳型の製造方法を
図1及び
図2により説明する。
(第1成膜工程)
先ず、この第1成膜工程では、このジルコニア超微粒子からなる精密鋳造用鋳型スラリー(以下「スラリー」という)を用いて、ろう型30を浸漬させ、引き上げ、余分なスラリーを落下させる。その後、乾燥させることで、ろう型30表面に、スラリー膜(第1乾燥膜)を得る。
このスラリー膜が、
図1において、ろう型30の表面と接するプライム層101Aとなる。
【0025】
(第2成膜工程)
次いで、このプライム層101Aを有するろう型30を、スラリーに浸漬させた後、引上げ、余分なスラリーを落下させ、スラリー層(2層目)102を形成する。この濡れているスラリー層(2層目)102にスタッコ材としてジルコンスタッコ粒(平均粒径0.8mm)を振掛けて(スタッコイングして)、スタッコ材を付着させたスタッコ層(1層目)103を形成する。このスラリー層102とスタッコ層(1層目)103との積層体を乾燥して、プライム層(第1乾燥膜)101の上に第1バックアップ層(第2乾燥膜)104−1を形成する。
【0026】
(成形体形成工程)
この第1バックアップ層104−1の第2成膜工程と同様の操作を複数回(例えば6〜10回)繰り返し、スラリー層(n+1層目)102とスタッコ層(n層目)103とが交互に積層された所定厚みの複層バックアップ層105Aを有する外側鋳型となる乾燥成形体106Aを得る。
【0027】
この乾燥成形体を例えば150℃のオートクレーブに入れて、ろう型30を構成するワックスを融解し、排出させる。
その後、この型を1,000℃で熱処理し、精密鋳造用鋳型を得る。
【0028】
この得られた精密鋳造用鋳型は、後述する試験例に示すように、1500℃の強度試験においても変形はなく、強度が高いものであった。これに対し、従来のシリカゾルを使用したものでは軟化の挙動が確認された。
【0029】
また、
図2に示すように、プライム層において、プライムスラリー層101aに、スタッコ材を付着させてプライムスタッコ層101bを形成し、その後乾燥して、プライム層101Bとするようにしても良い。
なお、このプライム層101Bのように、スタッコ材を付着させた場合には、複層バックアップ層105Bのスラリー層の積層回数と、スタッコ層103の積層回数とは共に同数(n層)からなる複層バックアップ層105Bを有する外側鋳型となる乾燥成形体106Bを得ることとなる。
【0030】
本発明では、フラワーとしてジルコン粉を用いたが、ジルコン粉以外に、アルミナ粉を用いると共に、スタッコ材としてジルコンスタッコ粒の代わりにアルミナスタッコ粒を用いても、同様な精密鋳造用鋳型を得ることができる。
なお、フラワーとスタッコ材との関係は、限定されるものではなく、フラワーとしてジルコン粉、アルミナ粉のいずれかを用いると共に、スタッコ材として、ジルコンスタッコ粒、アルミナスタッコ粒のいずれかを用いるようにすれば良い。
【0031】
このフラワーの粒径は、350メッシュとしているが、本発明ではこれに限定されず、例えば5〜80μm程度の粒子、平均粒径としては、例えば50μm以下のものを使用することが好ましい。
【0032】
このスタッコ粒の粒径は、0.8mmとしているが、本発明ではこれに限定されず、例えば0.4mm〜2mm位の粒子、平均粒径としては例えば0.5mm以上のものを使用することが好ましい。
【0033】
以下、本発明の精密鋳造用鋳型を用いた鋳造方法について説明する。
【0034】
図5は、鋳造方法の工程の一例を示すフローチャートである。以下、
図5を用いて、鋳造方法について説明する。ここで、
図5に示す処理は、全自動で実行しても良いし、オペレータが各工程を実行する装置を操作して実行しても良い。本実施形態の鋳造方法は、鋳型を作製する(ステップS1)。鋳型は、予め作製しておいても良いし、鋳造を実行する毎に作製しても良い。
【0035】
以下、
図6から
図12を用いて、ステップS1の工程で実行する本実施形態の鋳型製造方法について説明する。
図6は、鋳型製造方法の工程の一例を示すフローチャートである。ここで、
図6に示す処理は、全自動で実行しても良いし、オペレータが各工程を実行する装置を操作して実行しても良い。
【0036】
鋳型製造方法は、コア(中子)を作製する(ステップS12)。コアは、鋳型で作製する鋳物の内部の空洞に対応する形状である。つまり、コアは、鋳物の内部の空洞に対応する部分に配置されることで、鋳造時に鋳物となる金属が流れ込むことを抑制する。以下、
図7を用いて、コアの製造工程について説明する。
図7は、コアの製造工程を模式的に示す説明図である。鋳型製造方法は、
図7に示すように金型12を準備する(ステップS101)。金型12は、コアに対応する領域が空洞となっている。コアの空洞となる部分が凸部12aとなる。なお、
図7では、金型12の断面で示しているが、金型12は、空間に材料を注入する開口や空気を抜く穴以外は、基本的にコアに対応する領域の全周を覆う空洞となっている。鋳型鋳造方法は、矢印14に示すようにセラミックスラリー16を、金型12の空間に材料を注入する開口から金型12の内部に注入する。具体的には、セラミックスラリー16を金型12の内部に噴射する、いわゆる射出成形でコア18を作製する。鋳型製造方法は、金型12の内部にコア18を作製したら、金型12からコア18を取り外し、取り外したコア18を焼成炉20に設置し、焼成させる。これにより、セラミックで形成されたコア18を焼き固める(ステップS102)。鋳型鋳造方法は、以上のようにしてコア18を作製する。なお、コア18は、鋳物が固まった後に化学処理等の脱コア処理で取り除ける材料で形成される。
【0037】
鋳型製造方法は、コア18を作製したら、外部金型の作製を行う(ステップS14)。外部金型は、内周面が鋳物の外周面に対応した形状となる。金型は、金属で形成しても良いし、セラミックで形成しても良い。
図8は、金型の一部を模式的に示す斜視図である。
図8に示す金型22aは、内周面に形成された凹部が鋳物の外周面に対応している。なお、
図8では、金型22aのみを示したが、金型22aに対応し、内周面に形成された凹部を塞ぐ向きに金型22aに対応する金型も作製する。鋳型製造方法は、2つの金型を合わせることで、内周面が鋳物の外周面に対応した型となる。
【0038】
鋳型製造方法は、外部金型を作製したら、ろう型(ワックス型)の作製を行う(ステップS16)。以下、
図9を用いて説明する。
図9は、ろう型の製造工程を模式的に示す説明図である。鋳型製造方法は、金型22aの所定位置にコア18を設置する(ステップS110)。その後、金型22aに対応する金型22bを、金型22aの凹部が形成されている面に被せ、コア18の周囲を金型22a、22bで囲み、コア18と金型22a、22bとの間に空間24を形成する。鋳型製造方法は、矢印26に示すように、空間24と連結された配管から空間24の内部に向けてWAX28の注入を開始する(ステップS112)。WAX28は、所定の温度以上に加熱されると溶けるような、融点が比較的低温の物質、例えばろうである。鋳型製造方法は、空間24の全域にWAX28を充填させる(ステップS113)。その後、WAX28を固化させることで、コア18の周囲をWAX28が囲んだろう型30を形成する。ろう型30は、基本的にWAX28で形成される部分が製造する目的の鋳物と同じ形状となる。その後、鋳物製造方法は、ろう型30を金型22a、22bから分離し、湯口32を取り付ける(ステップS114)。湯口32は、鋳造時に溶けた金属である溶湯が投入される口である。鋳型製造方法は、以上のようにして、内部にコア18を含み、鋳物と同一の形状のWAX28で形成されたろう型30を作製する。
【0039】
鋳型製造方法は、ろう型30を作製したら、スラリー塗布(ディッピング)を行う(ステップS18)。
図10は、ろう型にスラリーを塗布する構成を模式的に示す説明図である。鋳型製造方法は、
図10に示すように、スラリー40が貯留された貯留部41にろう型30を浸漬させ、取り出した後、乾燥を行う(ステップS19)。これにより、ろう型30の表面にプライム層101Aを形成することができる。
ここで、ステップS18で塗布するスラリーは、ろう型30に直接塗布されるスラリーである。このスラリー40は、ジルコニア超微粒子が単一分散されたスラリーを用いる。このスラリー40には、フラワーとして350メッシュ程度の耐火性の微粒子、例えばジルコニアを用いることが好ましい。また、分散剤としてポリカルボン酸
塩を用いることが好ましい。また、スラリー40には、消泡剤(シリコン系の物質)や、濡れ性改善剤を微量、例えば0.01%添加することが好ましい。濡れ性改善剤を添加することで、スラリー40のろう型30への付着性を向上させることができる。
【0040】
鋳型製造方法は、図
10に示すように、スラリー40でスラリー塗布を行って、乾燥しプライム層(第1乾燥膜)101Aを有するろう型を、さらにスラリー塗布(ディッピング)を行う(ステップS20)。この濡れているスラリーの表面にスタッコ材54としてジルコンスタッコ粒(平均粒径0.8mm)を振掛けるスタッコイングを行う(ステップS21)。その後スラリー層の表面にスタッコ材が付着されたものを乾燥し、プライム層(第1乾燥膜)101Aの上に第1バックアップ層(第2乾燥膜)104−1を形成した(ステップS22)。
この第1バックアップ層(第2乾燥膜)104−1の形成工程と同様の操作を複数回(例えばn:6〜10回)繰り返す判断を行う(ステップS23)。所定回数(n)の第nバックアップ層104−nを積層させ(ステップS23:Yes)、複層バックアップ層105Aが形成された厚みが例えば10mmの外側鋳型となる乾燥成形体106Aを得る。
【0041】
鋳型製造方法は、プライム層101Aと複層バックアップ層105Aの複数層が形成された乾燥成形体106Aを得たら、当該乾燥成形体106Aに対して熱処理を行う(ステップS24)。具体的には、外側鋳型とコアとの間にあるWAXを除去し、さらに外側鋳型とコアとを焼成させる。以下、
図12を用いて説明する。
図12は、鋳型製造方法の一部工程を模式的に示す説明図である。鋳型製造方法は、ステップS130に示すように、プライム層101Aと複層バックアップ層105Aの複数層が形成された外側鋳型となる乾燥成形体106をオートクレーブ60の内部に入れ、加熱する。オートクレーブ60は、内部を加圧蒸気で満たすことで、乾燥成形体106内のろう型30を加熱する。これにより、ろう型30を構成するWAXが溶け、溶融WAX62が乾燥成形体106で囲まれた空間64から排出される。
鋳型製造方法は、溶けたWAX62を空間64から排出することで、ステップS131に示すように、外側鋳型となる乾燥成形体106と、コア18との間のWAXが充填されていた領域に空間64が形成された鋳型72が作製される。その後、鋳型製造方法は、ステップS132に示すように、外側鋳型となる乾燥成形体106とコア18との間に空間64が形成された鋳型72を、焼成炉70で加熱する。これにより、鋳型72は、外側鋳型となる乾燥成形体106に含まれる水成分や不要な成分が除去され、さらに、焼成されることで硬化され、外側鋳型61が形成される。鋳物製造方法は、以上のようにして鋳型72を作製する。
【0042】
図5と
図13を用いて、鋳造方法の説明を続ける。
図13は、鋳造方法の一部工程を模式的に示す説明図である。鋳造方法は、ステップS1で鋳型を作製したら、鋳型の予熱を行う(ステップS2)。例えば、鋳型を炉(真空炉、焼成炉)内に配置し、800℃以上900℃以下まで加熱する。予熱を行うことで、鋳物の製造時に鋳型に溶湯(溶けた金属)を注入した際に鋳型が損傷することを抑制することができる。
【0043】
鋳造方法は、鋳型を予熱したら、注湯を行う(ステップS3)。つまり、
図13のステップS140に示すように、溶湯80、つまり溶解した鋳物の原料(例えば鋼)を鋳型72の開口から外側鋳型61とコア18との間に注入する。
【0044】
鋳造方法は、鋳型72に注いだ溶湯80を固化させたら、外側鋳型61を除去する(ステップS4)。つまり、
図13のステップS141に示すように、鋳型72の内部で溶湯が固まって鋳物90となったら、外側鋳型61を粉砕して破片61aとして、鋳物90から取り外す。
【0045】
鋳造方法は、外側鋳型61を鋳物90から除去したら、脱コア処理を行う(ステップS5)。つまり、
図13のステップS142に示すように、オートクレーブ92の内部に鋳物90を入れ、脱コア処理を行うことで、鋳物90の内部のコア18を溶解し、溶解した溶解コア94を鋳物90の内部から排出する。具体的にはオートクレーブ92の内部で鋳物90をアルカリ溶液に投入し、加圧、減圧を繰り返すことで、鋳物90から溶解コア94を排出する。
【0046】
鋳造方法は、脱コア処理を行ったら、仕上げ処理を行う(ステップS6)。つまり、鋳物90の表面や内部に仕上げ処理を行う。また、鋳造方法では、仕上げ処理と共に鋳物の検品を行う。これにより、
図13のステップS143に示すように、鋳物100を製造することができる。
【0047】
本実施形態の鋳造方法は、以上のように、WAX(ワックス)を用いたロストワックス鋳造法を用いて鋳型を作製し、鋳物を作製する。ここで、本実施形態の鋳型製造方法、鋳造方法及び鋳型は、鋳型の外側の部分である外側鋳型を、スラリーとしてジルコニア超微粒子を用いて内周面となるプライム層(初層である第1乾燥膜)101Aを形成し、このプライム層101Aの外部に複数層のバックアップ層105Aを形成しての多層構造としている。
なお、前述したように、プライム層として、スタッコ材を添加したスラリー層101aとスタッコ層101bとからなるプライム層101Bとしてもよい(
図2参照)。
【0048】
(実施例1)
以下、実施例を用いて、本実施形態の鋳型製造方法及び鋳造方法について説明する。なお、以下の実施例では、外側鋳型が形成される前のろう型を幅30mm、厚さ8mm、長さ300mmの部材とし、このろう型にスラリー層からなるプライム層(第1乾燥膜)、スラリーとスタッコ材による複層のバックアップ層を形成して鋳型を作製した。
【0049】
高純度超微粒のジルコニア(比表面積10m
2/g、粒径約0.3μm)のスラリーを、分散剤としてポリカルボン酸
塩を用い、ボールミルを用いて24時間混練してスラリー化し、ジルコニアスラリーを得た。得られたジルコニアスラリーの固形分濃度は50wt%である。
このジルコニアスラリーでは、分散処理の結果ジルコニア粒子は0.3μmに単一分散されていることが確認された。
このジルコニアスラリーに、フラワーとして350メッシュのジルコン粉を添加して、精密鋳造用鋳型スラリーとした。
また、同時に、消泡剤としてシリコン系のものを0.01%、濡れ性改善剤を0.01%添加して、使用スラリーとした。
【0050】
幅30mm、厚さ8mm、長さ300mmのワックス体を準備し、得られたスラリーにワックス体を浸漬し、引き上げてワックス表面に使用スラリーを付着させた後、余分な使用スラリーを落下させ、乾燥することによりワックス体の表面にスラリーのプライム層(第1乾燥膜)を得た。
【0051】
次に、第2乾燥膜を得るため、プライム層を有するワックス体を使用スラリーに浸漬した後、引き上げ余分な使用スラリーを落下させた。
濡れているスラリーに、平均粒系0.8mmのジルコンスタッコ粒を付着させた後乾燥し、第2乾燥膜(第1バックアップ層)を形成した。
【0052】
この第2乾燥膜(第1バックアップ層)の形成と同等の操作を6回繰り返して複層のバックアップ層を有する、厚み約10mmの成形体を得た。
この得られた乾燥成形体を150℃のオートクレーブに入れて、ワックスを融解し、排出した。
次いで、この型を1000℃で熱処理し、実施例1の鋳型を得た。
【0053】
[比較例]
比較のため、従来と同様のシリカゾル(粒径20nm程度の球状シリカ粒子が分散された液)を使用したスラリーを用い、実施例と同様の操作を行い比較例の鋳型も同時に試作した。
【0054】
[試験]
得られた実施例1の鋳型及び比較例の鋳型から、10mm×50mm、厚さ5mmの強度試験片を加工し、高温強度試験を実施した。
1500℃の強度試験では、従来のシリカゾルを使用したものでは軟化の挙動が確認された。
また、その結果、比較例の試験片の切断は明瞭でなく、曲がってしまった。
これに対し、本実施例のジルコニアスラリー(スタッコ材としてジルコン粒)を使用した試験片は変形もなく、100MPaでの破断であった。
ここで、強度試験は、JIS R 1601による「セラミックスの曲げ強さ(1981)」に準拠しておこなった。
【0055】
本試験結果より、バインダを、耐熱性が高い超微粒子ジルコニア(融点2,715℃)のスラリーとし、スタッコ材をジルコン粒(融点2,715℃)とすることで、従来のシリカゾル使用に対して耐熱温度が向上し、一方向凝固翼製造における高温(1,550℃)で長時間保持した場合でも変形が生じない鋳型が得ることができた。
【0056】
(実施例2)
実施例1において、フラワーとして、ジルコン粉の代わりに、350メッシュのアルミナ粉を添加して、精密鋳造用鋳型スラリーとした。
また、スタッコ材として、平均粒径0.8mmのアルミナスタッコ粒を用いた以外は、実施例1と同様に操作して、実施例2の鋳型を得た。
【0057】
[試験]
得られた実施例2の鋳型及び比較例の鋳型から、10mm×50mm、厚さ5mmの強度試験片を加工し、実施例1と同様の高温強度試験を実施した。
本実施例のジルコニアスラリー(スタッコ材としてアルミナ粒)を使用した試験片は変形もなく、100MPaでの破断であった。
【0058】
本試験結果より、バインダを、耐熱性が高い超微粒子ジルコニア(融点2,715℃)のスラリーとし、スタッコ材をアルミナ粒(融点2,070℃)とすることで、従来のシリカゾル使用に対して耐熱温度が向上し、一方向凝固翼製造における高温(1,550℃)長時間保持でも変形が生じない鋳型が得られることができた。
【0059】
以上より、バインダを、耐熱性が高いジルコニア超微粒子スラリーの単一分散物をスラリーとし、ジルコン粉またはアルミナ粉のスタッコ材とすることで、従来のシリカゾルを使用した場合よりも、得られた鋳型の耐熱温度が向上し、一方向凝固翼製造における高温(1,550℃)で長時間保持した場合でも変形が生じない鋳型が得ることができた。