特許 6096145 マニホールド

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6096145

(24)【登録日】2017年2月24日

(45)【発行日】2017年3月15日

(54)【発明の名称】マニホールド

(51)【国際特許分類】

   F16K 27/00 20060101AFI20170306BHJP

   F16K 51/00 20060101ALI20170306BHJP

   F16K 31/06 20060101ALI20170306BHJP

【ＦＩ】

   F16K27/00 D

   F16K51/00 B

   F16K31/06 305Z

【請求項の数】3

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2014-68007(P2014-68007)

(22)【出願日】2014年3月28日

(65)【公開番号】特開2015-190558(P2015-190558A)

(43)【公開日】2015年11月2日

【審査請求日】2015年11月19日

(73)【特許権者】

【識別番号】000106760

【氏名又は名称】ＣＫＤ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000291

【氏名又は名称】特許業務法人コスモス特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】澤田 寿夫

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 圭祐

【審査官】 加藤 一彦

(56)【参考文献】

【文献】 特開昭５２−４６５２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開平２−２７０７４（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開平５−７１５０２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｆ１６Ｋ ２７／００

Ｆ１６Ｋ ３１／０６

Ｆ１６Ｋ ５１／００

Ｂ２５Ｊ １５／０６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ベース給気流路、ベース排気流路、及びベース出力流路が形成された略直方体をなすマニホールドベースと、前記マニホールドベースの上面に互いに隣接して取り付けられ、前記ベース給気流路、前記ベース排気流路、及び前記ベース出力流路が各々連通する２以上の電磁弁とを備えるマニホールドにおいて、
前記ベース給気流路は、前記マニホールドベースの一側面側に長手方向に貫通して形成されるベース給気共通流路に連通していること、
前記ベース出力流路は、前記マニホールドベースの他の側面に形成され、
前記ベース排気流路は、前記マニホールドベースの前記他の側面に形成されたベース溝と連通していること、
前記ベース排気流路には、メッシュフィルタが設けられていること、
を特徴をするマニホールド。

【請求項2】

ベース給気流路、ベース排気流路、及びベース出力流路が形成された略直方体をなすマニホールドベースと、前記マニホールドベースの上面に互いに隣接して取り付けられ、前記ベース給気流路、前記ベース排気流路、及び前記ベース出力流路が各々連通する２以上の電磁弁とを備えるマニホールドにおいて、
前記ベース給気流路は、前記マニホールドベースの一側面側に長手方向に貫通して形成されるベース給気共通流路に連通していること、
前記ベース出力流路は、前記マニホールドベースの他の側面に形成され、
前記ベース排気流路は、前記マニホールドベースの前記他の側面に形成されたベース溝と連通していること、
前記ベース溝には、多孔質フィルタが設けられていること、
前記ベース溝の下面には、排気溝が形成されていること、
前記排気溝には、前記多孔質フィルタを保持するためのフィルタ保持凸部が形成されて
いること、
を特徴とするマニホールド。

【請求項3】

請求項２に記載のマニホールドにおいて、
前記マニホールドベースは、押出成形により成形されること、
を特徴とするマニホールド。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ベース給気流路、ベース排気流路、及びベース出力流路が形成された略直方体をなすマニホールドベースと、マニホールドベースの上面に互いに隣接して取り付けられ、ベース給気流路、ベース排気流路、及びベース出力流路が各々連通する２以上の電磁弁とを備えるマニホールドに関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来のマニホールドとして、図６に示すマニホールド１０１が実施されている。このようなマニホールド１０１は、例えば、工場で基板等にマウントするための電子部品を搬送するために用いられる。マニホールド１０１は、搬送ロボットのロボットハンド内のヘッドに搭載され、使用される。

【0003】

マニホールド１０１は、２以上の電磁弁３と、略直方体のマニホールドベース１０２を備える。図６に示すように、マニホールドベース１０２には、電磁弁３の弁給気流路１３に対応してベース給気流路１０３が形成されている。電磁弁３の弁出力流路１４に対応してベース出力流路１０４が形成されている。電磁弁３の弁排気流路１５に対応してベース排気流路１０５が形成されている。

【0004】

ベース給気流路１０３は、ベース給気共通流路１０６に連通している。ベース給気共通流路１０６は、マニホールドベース１０２の一側面側に長手方向（図中紙面の手前側から裏方向に）に貫通して形成されている。ベース給気共通流路１０６は、真空源（不図示）に接続される。ベース排気流路１０５は、ベース排気共通流路１０７に連通している。ベース排気共通流路１０７は、マニホールドベース１０２の他の側面側に長手方向に貫通して形成されている。ベース排気共通流路１０７は、大気に開放されている。ベース出力流路１０４は、ベース給気共通流路１０６を避けるようにしてＬ字状に形成されている。ベース出力流路１０４は、吸着パッド（不図示）に接続される。

【0005】

工場で基板等にマウントするための電子部品を搬送する際のマニホールド１０１の作用を説明する。
ベース給気共通流路１０６に接続された真空源により、ベース給気流路１０３及びベース出力流路１０４を介して空気が吸引される。このとき、電子部品は、負圧力によって吸着パッドに吸着される。吸着パッドに吸着された電子部品は、搬送ロボットによって所定の位置まで搬送される。所定の位置まで搬送されると、大気が、ベース排気流路１０５及びベース出力流路１０４を介して吸入され、吸着パッドへの負圧が開放される。これにより、吸着パッドから電子部品が離脱される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開2012-250313号公報

【特許文献2】特開2004-306238号公報

【特許文献3】特開2011-133074号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかしながら、従来のマニホールド１０１には、次のような問題があった。
すなわち、搬送ロボットを高速化させるため、ロボットハンド内のヘッドの重量を軽減し、小型化する強い要請があった。この高速化・小型化の要請により、電磁弁３の幅は約１０ｍｍ程度となっている。しかし、マニホールドベース１０２内では、ベース給気共通流路１０６とベース排気共通流路１０７が、マニホールドベース１０２内で長手方向に並列して設けられている。そのため、ベース出力流路１０４は、ベース給気共通流路１０６とベース排気共通流路１０７を避けて設けなければならず、マニホールド１０１は、水平方向及び垂直方向に大きくなっていた。その結果、ロボットハンド内のヘッドの重量は重く、搬送ロボットを高速化させることは困難であった。

【0008】

本発明は、上記問題点を解決するためのものであり、小型化・軽量化されたマニホールドベースを備えたマニホールドを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記課題を解決するために、本発明のマニホールドは、次のような構成を有している。
（１）ベース給気流路、ベース排気流路、及びベース出力流路が形成された略直方体をなすマニホールドベースと、前記マニホールドベースの上面に互いに隣接して取り付けられ、前記ベース給気流路、前記ベース排気流路、及び前記ベース出力流路が各々連通する２以上の電磁弁とを備えるマニホールドにおいて、前記ベース給気流路は、前記マニホールドベースの一側面側に長手方向に貫通して形成されるベース給気共通流路に連通していること、前記ベース出力流路は、前記マニホールドベースの他の側面に形成され、前記ベース排気流路は、前記マニホールドベースの前記他の側面に形成されたベース溝と連通していること、前記ベース排気流路には、メッシュフィルタが設けられていること、を特徴とする。

【0011】

（２）ベース給気流路、ベース排気流路、及びベース出力流路が形成された略直方体をなすマニホールドベースと、前記マニホールドベースの上面に互いに隣接して取り付けられ、前記ベース給気流路、前記ベース排気流路、及び前記ベース出力流路が各々連通する２以上の電磁弁とを備えるマニホールドにおいて、前記ベース給気流路は、前記マニホールドベースの一側面側に長手方向に貫通して形成されるベース給気共通流路に連通していること、前記ベース出力流路は、前記マニホールドベースの他の側面に形成され、前記ベース排気流路は、前記マニホールドベースの前記他の側面に形成されたベース溝と連通していること、前記ベース溝の下面には、さらに排気溝が形成されていること、前記ベース溝には、多孔質フィルタが設けられていること、前記排気溝には、前記多孔質フィルタを保持するためのフィルタ保持凸部が形成されていること、を特徴とする。

【0012】

（３）（２）に記載のマニホールドにおいて、前記マニホールドベースは、押出成形により成形されること、を特徴とする。

【発明の効果】

【0013】

（１）ベース給気流路、ベース排気流路、及びベース出力流路が形成された略直方体をなすマニホールドベースと、前記マニホールドベースの上面に互いに隣接して取り付けられ、前記ベース給気流路、前記ベース排気流路、及び前記ベース出力流路が各々連通する２以上の電磁弁とを備えるマニホールドにおいて、前記ベース給気流路は、前記マニホールドベースの一側面側に長手方向に貫通して形成されるベース給気共通流路に連通していること、前記ベース出力流路は、前記マニホールドベースの他の側面に形成され、前記ベース排気流路は、前記マニホールドベースの前記他の側面に形成されたベース溝と連通していること、を特徴とするので、ベース排気流路は、他の側面に形成されたベース溝を介して大気が吸入され、ベース排気共通流路をなくすことができるため、ベース溝と同じ他の側面に、ベース出力流路を形成させることができる。これにより、マニホールドベースの小型化・軽量化を実現することができる。また、前記ベース排気流路には、メッシュフィルタが設けられていること、を特徴とするので、ベース排気流路にメッシュフィルタがあることにより、大気が吸入されるとき、大気中のパーティクルが電磁弁の流路に混入しないため、弁のシール性を損なう恐れがない。

【0015】

（２）ベース給気流路、ベース排気流路、及びベース出力流路が形成された略直方体をなすマニホールドベースと、前記マニホールドベースの上面に互いに隣接して取り付けられ、前記ベース給気流路、前記ベース排気流路、及び前記ベース出力流路が各々連通する２以上の電磁弁とを備えるマニホールドにおいて、前記ベース給気流路は、前記マニホールドベースの一側面側に長手方向に貫通して形成されるベース給気共通流路に連通していること、前記ベース出力流路は、前記マニホールドベースの他の側面に形成され、前記ベース排気流路は、前記マニホールドベースの前記他の側面に形成されたベース溝と連通していること、を特徴とするので、ベース排気流路は、他の側面に形成されたベース溝を介して大気が吸入され、ベース排気共通流路をなくすことができるため、ベース溝と同じ他の側面に、ベース出力流路を形成させることができる。これにより、マニホールドベースの小型化・軽量化を実現することができる。また、前記ベース溝には、多孔質フィルタが設けられていること、前記ベース溝の下面には、排気溝が形成されていること、前記排気溝には、前記多孔質フィルタを保持するためのフィルタ保持凸部が形成されていること、を特徴とするので、ベース溝の下面に排気溝が形成されているため、大気を吸入するための流路を確保でき、多孔質フィルタによる抵抗を低減することができる。これにより、応答性を向上させることができる。また、ベース溝に多孔質フィルタが設けられ、排気溝にフィルタ保持凸部が形成されていることにより、大気が吸入されるとき、多孔質フィルタを保持しつつ、大気中のパーティクルが電磁弁の流路に混入しないため、弁のシール性を損なう恐れがない。

【0016】

（３）（２）に記載のマニホールドにおいて、前記マニホールドベースは、押出成形により成形されること、を特徴とするので、後加工を減らすことにより、安価に製品を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】第１実施形態に係るマニホールドの図２のＸ−Ｘ断面図である。

【図2】マニホールドの平面図である。

【図3】マニホールドベースの平面図である。

【図4】第２実施形態に係るマニホールドの図１に対応する断面図である。

【図5】図４のＹ部拡大図である。

【図6】従来のマニホールドの断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

＜第１実施形態＞
第１実施形態のマニホールド１について、図面を参照しながら以下に詳細に説明する。図２は、マニホールド１を平面から見た図である。図１は、第１実施形態に係るマニホールド１の、図２に示すＸ−Ｘ断面図である。図３は、マニホールドベース４単体を平面から見た図である。

【0019】

（電磁弁の構成）
図２に示すように、マニホールド１は、２以上の電磁弁３と、マニホールドベース４で構成される。まず、電磁弁３の構成を説明する。
図１に示すように、電磁弁３は、空気の流路を切り換えるための弁体１２を有する弁部１０と、弁体１２を駆動させるためのソレノイド部３０で構成される。

【0020】

弁部１０は、略直方体の弁ボディ１１を備えている。弁ボディ１１には、長手方向（図中紙面の左側から右方向に）に貫通して貫通孔１１ａが形成されている。弁ボディ１１の下面には、図中右から順に弁給気流路１３、弁出力流路１４、弁排気流路１５の一端が開口されている。各流路１３〜１５の他端は、貫通孔１１ａと連通して開口されている。また、弁ボディ１１の上面には、肉盗みのための複数の凹部１１ｂが形成されている。

【0021】

貫通孔１１ａの一端には、中空円筒状のリテーナ１６が取り付けられている。リテーナ１６の一端面には、止栓２１が取り付けられている。止栓２１は、円柱状であり、外径寸法がリテーナ１６の内径寸法よりやや小さな径にされている。止栓２１には、Ｏリング２５を装着するため、外周面に沿って凹部が環状に設けられている。止栓２１の外部に面していない側には、凹部が形成され、消音部材２４が設置されている。リテーナ１６の他の端面には、給気弁座１６ｂが形成されている。また、リテーナ１６には、弁給気流路１３と貫通孔１１ａとが連通した開口部に連通孔１６ａが形成されている。弁給気流路１３とリテーナ１６の内部は、連通孔１６ａを介して連通している。リテーナ１６の給気弁座１６ｂと貫通孔１１ａの間には、Ｏリング１８を装着するため、外周面に沿って凹部が環状に設けられている。

【0022】

リテーナ１６の内壁にはシリンダ１６ｃが構成されており、ピストン２０がシリンダ１６ｃ内を摺動可能に保持されている。ピストン２０は、ピストン部２０ａにピストンロッド２０ｂを一体的に成形したものである。ピストン部２０ａは、円柱状であり、外径寸法がシリンダ１６ｃの内径寸法よりやや小さな径にされている。ピストン部２０ａには、Ｏリング２６を装着するため、外周面に沿って凹部が環状に設けられている。ピストン部２０ａと止栓２１との間には圧縮バネ２３が介在されている。ピストンロッド２０ｂは、弁体１２を備えた円筒状のロッド２２の一端と連結している。弁体１２は、ゴム製のリング部材であって、ロッド２２の中央外周に形成された弁体保持部２２ａに嵌合されている。

【0023】

弁ボディ１１には、弁出力流路１４と弁排気流路１５との間の弁出力流路１４側の端面に排気弁座１１ｃが形成されている。排気弁座１１ｃは、給気弁座１６ｂに対向するように形成されている。給気弁座１６ｂと排気弁座１１ｃとの間であって、弁出力流路１４上に位置する空間に弁室１９が形成されている。弁室１９内には、弁体１２が収容される。弁体１２は、給気弁座１６ｂ及び排気弁座１１ｃのそれぞれに対して当接又は離間する。弁体１２は、圧縮バネ２３の付勢力によって給気弁座１６ｂから離間する方向へ付勢されている。

【0024】

図１は、コイル３２に通電されている状態を示す。可動鉄心３６は、固定鉄心３８に当接している。このとき、弁体１２は、圧縮バネ２３の付勢力によって給気弁座１６ｂから離間し、排気弁座１１ｃに当接する。これにより、弁給気流路１３と弁出力流路１４は連通孔１６ａ、リテーナ１６内及び弁室１９を介して連通し、弁出力流路１４と弁排気流路１５は遮断される。

【0025】

一方、図示しないが、コイル３２への通電が停止されると、弁体１２は、圧縮バネ２３の付勢力に抗して給気弁座１６ｂに当接し、排気弁座１１ｃから離間する。これにより、弁給気流路１３と弁出力流路１４は遮断され、弁出力流路１４と弁排気流路１５は、弁室１９及び貫通孔１１ａを介して連通する。

【0026】

ソレノイド部３０が配置されている弁ボディ１１の面には、環状の装着溝１１ｄが形成されている。装着溝１１ｄには、位置調整手段としての弾性体からなるＯリング１７が装着されている。装着溝１１ｄの深さは、Ｏリング１７の厚みよりも小さくなるように設定され、Ｏリング１７は、弁ボディ１１の装着溝１１ｄの高さよりも僅かに突出して装着溝１１ｄに装着されている。

【0027】

ソレノイド部３０は、図１に示すように、ボンネット３１を備えている。ボンネット３１の内側には、円筒状のボビン３３に導線を複数券回したコイル３２が配設されている。磁気コア３４の内部であって、弁ボディ１１が位置する側には、磁気回路を形成する磁気回路形成部材として機能するガイドリング３５が設けられている。ガイドリング３５及びボビン３３内には、略円柱状の可動鉄心３６が摺動可能に保持されている。可動鉄心３６の一端は、貫通孔１１ａに入り込むように設置され、その端面はロッド２２の端面に当接している。また、可動鉄心３６の一端には、外方に突出する鍔部３６ａが形成されている。ガイドリング３５と鍔部３６ａとの間には、圧縮バネ３７が介在されている。可動鉄心３６は、圧縮バネ３７の付勢力によりロッド２２を押圧する方向へ付勢されている。

【0028】

ボビン３３内には円柱状の固定鉄心３８が設けられている。固定鉄心３８の一端面は磁極面となっており、この磁極面が可動鉄心３６の他端面と対向するように同軸上に配設されている。固定鉄心３８の外径は、ボビン３３の内径とほぼ同じ径になっている。ボビン３３の一端には一対のコイル端子３９が嵌挿されている。コイル端子３９の一端はコイル３２と電気的に接続されるとともに、コイル端子３９の他端はソレノイド部３０の上部に取り付けられる端子台４０の接続端子４１と電気的に接続されている。

【0029】

（マニホールドベースの構成）
次に、マニホールドベース４の説明をする。
マニホールドベース４は、略直方体のベースボディ５１を備える。ベースボディ５１の上面には、図３に示すように、１つの電磁弁３に対し、ベース給気流路５２、ベース出力流路５４、ベース排気流路５５の開口部が各々形成されている。図１に示すように、ベースボディ５１の一側面５１ａ側には、長手方向（図中紙面の手前側から裏方向に）に貫通してベース給気共通流路５３が形成されている。ベース給気流路５２の一端は、ベース給気共通流路５３に連通している。ベース給気流路５２の他端は、電磁弁３の弁給気流路１３に連通している。ベース給気流路５２は、ベース給気共通流路５３を介して真空源（不図示）に接続され、空気が吸引される。

【0030】

ベース出力流路５４は、ベースボディ５１にＬ字形状に形成されている。ベース出力流路５４には、パーティクルを取り除くためのメッシュフィルタ５６が備えられている。ベース出力流路５４の一端には、ベースボディ５１の他の側面５１ｂに開口部が形成されている。ベース出力流路５４の他端は、弁出力流路１４に連通している。ベース出力流路５４は、電子部品を吸着するための吸着パッド（不図示）に接続される。

【0031】

ベース排気流路５５の一端は、矩形のベース溝５８と連通している。ベース溝５８は、ベースボディ５１の他の側面５１ｂに形成されている。ベース排気流路５５の他端は、電磁弁３の弁排気流路１５に連通している。ベース排気流路５５には、パーティクルを取り除くためのメッシュフィルタ５７が設置されている。メッシュフィルタ５７は、帽子のような形状をしており、鍔部５７ａを有する。鍔部５７ａは、ベース排気流路５５の径より僅かに大きく形成されている。メッシュフィルタ５７をベース排気流路５５に組み込むとき、鍔部５７ａを小さくし、ベース排気流路５５でもとの形に戻すことにより、そのテンションを利用してベース排気流路５５内に固定されている。

【0032】

（マニホールドの作用効果）
図１に示すように、コイル３２に通電されると、可動鉄心３６が図中左方向に移動して固定鉄心３８に当接し、圧縮バネ２３の付勢力によって弁体１２は、給気弁座１６ｂから離間する。このとき、ロッド２２が可動鉄心３６に当接する。この状態では、弁体１２は、排気弁座１１ｃに当接する。
これにより、弁給気流路１３と弁出力流路１４は、連通孔１６ａ、リテーナ１６内及び弁室１９を介して連通し、弁出力流路１４と弁排気流路１５は遮断される。ベース給気共通流路５３に接続された真空源により、ベース給気流路５２及びベース出力流路５４を介して空気が吸引される。電子部品は、その負圧力によって吸着パッドに吸着される。吸着パッドに吸着された電子部品は、搬送ロボットによって所定の位置まで搬送される。

【0033】

所定の位置まで搬送され、コイル３２への通電が停止されると、可動鉄心３６は、圧縮バネ３７の付勢力により、図中右方向に移動し、ロッド２２に当接する（不図示）。弁体１２は、圧縮バネ２３の付勢力に抗して給気弁座１６ｂに当接し、排気弁座１１ｃから離間する。これにより、弁給気流路１３と弁出力流路１４が遮断され、弁出力流路１４と弁排気流路１５が、弁室１９及び貫通孔１１ａを介して連通する。大気が、ベース排気流路５５及びベース出力流路５４を介して吸入され、吸着パッドへの負圧が開放される。これにより、吸着パッドから電子部品が離脱される。

【0034】

ここで、従来のマニホールド１０１は、図６に示すようにベース排気共通流路１０７を有している。しかし、第１実施形態に係るマニホールド１は、ベース排気共通流路１０７を用いなくても、他の側面５１ｂにベース溝５８を形成し、ベース排気流路５５と連通することで、容易に大気を吸入することができる。これにより、マニホールドベース４の小型化・軽量化を実現し、さらに真空から大気圧への切り換えの応答時間が短く、応答性を高めることができる。

【0035】

また、大気に開放する際、メッシュフィルタ５７が大気中のパーティクルを除去するため、電磁弁の流路にパーティクルが入り込むことなく、弁のシール性を保持することができる。なお、メッシュフィルタ５７は、そのテンションによりベース排気流路５５に保持されている。万が一、大気の吸入により、上方へ押し上げられたとしても、電磁弁３があるため外れることはない。また、下方へ落下したとしても、矩形のベース溝５８により、ベースボディ５１から落下することはない。

【0036】

以上、説明したように、第１実施形態に係るマニホールド１によれば、
（１）ベース給気流路５２、ベース排気流路５５、及びベース出力流路５４が形成された略直方体をなすマニホールドベース４と、マニホールドベース４の上面に互いに隣接して取り付けられ、ベース給気流路５２、ベース排気流路５５、及びベース出力流路５４が各々連通する２以上の電磁弁３とを備えるマニホールド１において、ベース給気流路５２は、マニホールドベース４の一側面５１ａ側に長手方向に貫通して形成されるベース給気共通流路５３に連通していること、ベース出力流路５４は、マニホールドベース４の他の側面５１ｂに形成され、ベース排気流路５５は、マニホールドベース４の他の側面５１ｂに形成されたベース溝５８と連通していること、を特徴とするので、ベース排気流路５５は、他の側面５１ｂに形成されたベース溝５８を介して大気が吸入され、ベース排気共通流路をなくすことができるため、ベース溝５８と同じ他の側面５１ｂに、ベース出力流路５４を形成させることができる。これにより、マニホールドベース４の小型化・軽量化を実現することができる。

【0037】

（２）（１）に記載のマニホールド１において、ベース排気流路５５には、メッシュフィルタ５７が設けられていること、を特徴するので、ベース排気流路５５にメッシュフィルタ５７があることにより、大気が吸入されるとき、大気中のパーティクルが電磁弁３の流路に混入しないため、弁のシール性を損なう恐れがない。

【0038】

＜第２実施形態＞
第２実施形態のマニホールド２について、図面を参照しながら説明する。図４は、第２実施形態に係るマニホールド２の図１に対応する断面図である。図５は、図４のＹ部拡大図である。図２及び図３に示す第１実施形態に係るマニホールド１及びマニホールドベース４の平面図は、第２実施形態に係るマニホールド２及びマニホールドベース５の平面図と共通であるため、図２及び図３では、第２実施形態に係るマニホールド２及びマニホールドベース５を括弧書きで示している。なお、第１実施形態と共通する構成については、第１実施形態と同一の符号を図面に付し、説明を割愛する。
第１実施形態に係るマニホールド１では、マニホールドベース４に対し、メッシュフィルタ５７を用いて説明した。しかし、第２実施形態に係るマニホールド２では、図４に示すように、マニホールドベース５に対し、メッシュフィルタ５７ではなく、多孔質フィルタ５９を用いて構成される。多孔質フィルタ５９は、メッシュフィルタ５７と比較して、細かいパーティクル等をろ過することができるため、よりクリーンな状態を欲する場合に適用できる。なお、多孔質フィルタ５９は、大気に開放する際、空気抵抗が大きいため、十分な大気の流通が得られず、応答性が悪いという懸念がある。

【0039】

図４に示すように、マニホールド２は、電磁弁３と、マニホールドベース５で構成される。マニホールドベース５のベース溝５８には、断面が長方形の形状を有する多孔質フィルタ５９が長手方向に嵌め込まれ、設置されている。ベース溝５８の下面には、大気の流路を確保するための排気溝５８ａが形成されている。排気溝５８ａには、多孔質フィルタ５９を保持するためのフィルタ保持凸部５８ｂが形成されている。

【0040】

ここで、多孔質フィルタ５９を、ベース溝５８に対し、長手方向ではなく、短手方向に嵌め込むことも考えられる。しかし、短手方向に嵌め込むと、マニホールドベースは大きくなってしまう。マニホールドベースが大きくなることを避けるため、第２実施形態に係るマニホールド２では、多孔質フィルタ５９を長手方向に嵌め込んでいる。しかし、長手方向に嵌め込んだ場合、大気に開放する際、多孔質フィルタ５９による空気抵抗により、十分な大気の流通が得られなかった。また、多孔質フィルタ５９内の大気の流れは、図５に示す矢印Ｐ１に限定されていた。
そこで、ベース溝５８に大気の流路を確保するための排気溝５８ａを形成することにより、矢印Ｐ１だけでなく、矢印Ｐ２、Ｐ３の大気の流れを生じさせ、大容量の大気を吸入することができるようにした。これにより、短い時間で大容量の大気を吸入させることができ、応答性が向上する。
また、多孔質フィルタ５９を設置・交換するなどのメンテナンスの際、電磁弁３を外すことなく交換することができる。そのため、作業の効率性を向上させることができる。

【0041】

以上、説明したように、第２実施形態に係るマニホールド２によれば、ベース溝５８には、多孔質フィルタ５９が設けられていること、ベース溝５８の下面には、排気溝５８ａが形成されていること、排気溝５８ａには、多孔質フィルタ５９を保持するためのフィルタ保持凸部５８ｂが形成されていること、を特徴とするので、ベース溝５８の下面に排気溝５８ａが形成されているため、大気を吸入するための流路を確保でき、多孔質フィルタ５９による抵抗を低減することができる。これにより、応答性を向上させることができる。また、ベース溝５８に多孔質フィルタ５９が設けられ、排気溝５８ａにフィルタ保持凸部５８ｂが形成されていることにより、大気が吸入されるとき、多孔質フィルタ５９を保持しつつ、大気中のパーティクルが電磁弁３の流路に混入しないため、弁のシール性を損なう恐れがない。

【0042】

上記に記載のマニホールド２において、マニホールドベース５は、押出成形により成形されること、を特徴とするので、後加工を減らすことにより、安価に製品を提供することができる。

【0043】

なお、本実施形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で様々な改良、変形が可能である。
例えば、本発明のマニホールドは、真空と大気開放の負圧用３ポート弁に用いられているが、正圧用としても用いることができる。この場合、大気の流れは逆になる。例えば、第２実施形態に係るマニホールド２では、大気の流れを示す図５の矢印Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は、逆の方向を向くようになる。
また、第１実施形態に係るマニホールド１では、ベース出力流路５５にメッシュフィルタ５７を設けているが、パーティクルの懸念がなければ、メッシュフィルタ５７を設けなくてもよい。同様に、第２実施形態に係るマニホールド２では、ベース溝５８に多孔質フィルタ５９を設けているが、パーティクルの懸念がなければ、多孔質フィルタ５９を設けなくてもよい。多孔質フィルタ５９のないベース溝５８に、排気溝５８ａが形成された状態では、さらに高い応答性が得られる。
また、第１実施形態に係るマニホールド１では、メッシュフィルタ５７を設けている場合、ベース溝５８に排気溝５８ａは形成されていないが、排気溝５８ａを設けてもよい。

【符号の説明】

【0044】

１、２ マニホールド
３ 電磁弁
４、５ マニホールドベース
１０ 弁部
１３ 弁給気通路
１４ 弁出力流路
１５ 弁排気流路
３０ ソレノイド部
５１ ベースボディ
５１ａ 一側面
５１ｂ 他の側面
５２ ベース給気流路
５３ ベース給気共通流路
５４ ベース出力流路
５５ ベース排気流路
５７ メッシュフィルタ
５８ ベース溝
５８ａ 排気溝
５８ｂ フィルタ保持凸部
５９ 多孔質フィルタ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】