特許第6103633号(P6103633)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6103633オゾン支援による高品質均質金属酸化物薄膜作製技術、及び、該薄膜作製技術による酸化物薄膜トランジスタの製造方法
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