特許第6111306号(P6111306)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6111306光酸発生官能基及び塩基溶解度向上官能基を有する繰り返し単位を含むポリマー、関連フォトレジスト組成物、ならびに電子デバイスを形成する方法
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