特許 6121497 パッケージキャリアおよびその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6121497

(24)【登録日】2017年4月7日

(45)【発行日】2017年4月26日

(54)【発明の名称】パッケージキャリアおよびその製造方法

(51)【国際特許分類】

   H05K 3/46 20060101AFI20170417BHJP

   H01L 23/12 20060101ALI20170417BHJP

【ＦＩ】

   H05K3/46 Y

   H05K3/46 V

   H05K3/46 Z

   H01L23/12 N

【請求項の数】16

【外国語出願】

【全頁数】11

(21)【出願番号】特願2015-168459(P2015-168459)

(22)【出願日】2015年8月28日

(65)【公開番号】特開2016-131234(P2016-131234A)

(43)【公開日】2016年7月21日

【審査請求日】2015年8月28日

(31)【優先権主張番号】104101087

(32)【優先日】2015年1月13日

(33)【優先権主張国】TW

(73)【特許権者】

【識別番号】599110599

【氏名又は名称】旭徳科技股▲ふん▼有限公司

(74)【代理人】

【識別番号】100147485

【弁理士】

【氏名又は名称】杉村 憲司

(74)【代理人】

【識別番号】100161148

【弁理士】

【氏名又は名称】福尾 誠

(74)【代理人】

【識別番号】100134577

【弁理士】

【氏名又は名称】石川 雅章

(72)【発明者】

【氏名】王 朝民

【審査官】 原田 貴志

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１０−０８７０１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０８８３６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０６０１１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１６６５３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１３／０２４３９４１（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０５Ｋ ３／４６

Ｈ０１Ｌ ２３／１２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

接続面を有するキャリアを提供するステップと、
前記キャリアの前記接続面に、前記接続面を完全に覆う剥離型ソルダーレジスト層を形成するステップと、
相対する上表面と下表面を有する基板を提供するステップと、
前記基板の前記下表面に、前記下表面の一部を露出する第１パターニングソルダーレジスト層を形成するステップと、
前記キャリアと前記基板をラミネートして、前記剥離型ソルダーレジスト層が、前記第１パターニングソルダーレジスト層に直接接触し、前記キャリアが、前記剥離型ソルダーレジスト層を介して前記第１パターニングソルダーレジスト層に仮接合されるステップと、
を含み、
前記剥離型ソルダーレジスト層を形成するステップが、
前記キャリアの前記接続面に熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含むソルダーレジスト材料層を形成するステップと、
前記ソルダーレジスト材料層に対して光硬化プロセスを行い、前記剥離型ソルダーレジスト層を形成するステップと、
を含むパッケージキャリアの製造方法。

【請求項2】

前記光硬化プロセスの照射エネルギーが、２００ｍＪ／ｃｍ²〜１６００ｍＪ／ｃｍ²である請求項１に記載のパッケージキャリアの製造方法。

【請求項3】

前記第１パターニングソルダーレジスト層を形成する前記ステップが、
前記基板の前記下表面に、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含む第１ソルダーレジスト材料層を形成するステップと、
前記第１ソルダーレジスト材料層に対して光硬化プロセスおよび熱硬化プロセスを行い、前記第１ソルダーレジスト材料層を完全に硬化するステップと、
前記第１ソルダーレジスト材料層をパターニングして、前記第１パターニングソルダーレジスト層を形成するステップと、
を含む請求項１に記載のパッケージキャリアの製造方法。

【請求項4】

前記基板の前記上表面に前記上表面の一部を露出する第２パターニングソルダーレジスト層を形成するステップ
をさらに含む請求項１に記載のパッケージキャリアの製造方法。

【請求項5】

前記キャリアと前記基板をラミネートする前に、前記基板上に第１表面処理層および第２表面処理層を形成するステップ
をさらに含み、前記第１表面処理層が、前記第２パターニングソルダーレジスト層により露出した前記上表面の一部に配置され、前記第２表面処理層が、前記第１パターニングソルダーレジスト層により露出した前記下表面の一部に配置される請求項４に記載のパッケージキャリアの製造方法。

【請求項6】

前記キャリアと前記基板をラミネートする温度が、９０℃〜２２０℃である請求項１に記載のパッケージキャリアの製造方法。

【請求項7】

前記キャリアが、コア誘電体層と、第１銅箔層と、第２銅箔層とを含み、前記第１銅箔層および前記第２銅箔層が、それぞれ、前記コア誘電体層の相対する両側に配置される請求項１に記載のパッケージキャリアの製造方法。

【請求項8】

前記基板が、ベースと、第１導電層と、第２導電層とを含み、前記第１導電層および前記第２導電層が、それぞれ、前記ベースの相対する両側に配置される請求項１に記載のパッケージキャリアの製造方法。

【請求項9】

前記キャリアと前記基板をラミネートする時、前記剥離型ソルダーレジスト層が、前記第１パターニングソルダーレジスト層に直接接触し、且つ前記第１パターニングソルダーレジスト層により露出した前記下表面の一部を覆う請求項１に記載のパッケージキャリアの製造方法。

【請求項10】

接続面を有するキャリアと、
前記キャリアの前記接続面に配置され、且つ前記接続面を完全に覆う剥離型ソルダーレジスト層と、
相対する上表面と下表面を有する基板と、
前記基板の前記下表面に配置され、且つ前記下表面の一部を露出する第１パターニングソルダーレジスト層と、
を含み、前記キャリアが、前記剥離型ソルダーレジスト層を介して前記第１パターニングソルダーレジスト層に仮接合され、
前記剥離型ソルダーレジスト層の材料が、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含み、前記剥離型ソルダーレジスト層が、半硬化状態であるパッケージキャリア。

【請求項11】

前記第１パターニングソルダーレジスト層の材料が、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含み、前記第１パターニングソルダーレジスト層が、完全な硬化状態である請求項１０に記載のパッケージキャリア。

【請求項12】

前記基板の前記上表面に配置され、且つ前記上表面の一部を露出する第２パターニングソルダーレジスト層
をさらに含む請求項１０に記載のパッケージキャリア。

【請求項13】

前記第２パターニングソルダーレジスト層の材料が、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含み、前記第２パターニングソルダーレジスト層が、完全な硬化状態である請求項１２に記載のパッケージキャリア。

【請求項14】

前記キャリアが、コア誘電体層と、第１銅箔層と、第２銅箔層とを含み、前記第１銅箔層および前記第２銅箔層が、それぞれ、前記コア誘電体層の相対する両側に配置される請求項１０に記載のパッケージキャリア。

【請求項15】

前記基板が、ベースと、第１導電層と、第２導電層とを含み、前記第１導電層および前記第２導電層が、それぞれ、前記ベースの相対する両側に配置される請求項１０に記載のパッケージキャリア。

【請求項16】

前記剥離型ソルダーレジスト層が、複数の突出部を含み、前記突出部が、前記第１パターニングソルダーレジスト層により露出した前記下表面の一部を覆う請求項１０に記載のパッケージキャリア。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板構造およびその製造方法に関するものであり、特に、パッケージキャリア（package carrier）およびその製造方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

一般的なパッケージキャリアの製造方法は、剥離型銅箔層を介して基板にキャリアをラミネートし、キャリアを基板の支持構造として使用するとともに、基板上で後続のチップパッケージまたは多層配線層の製造プロセスが完了した後、キャリアを除去して、今日の要求を満たす薄さのパッケージ構造を形成する。

【0003】

現在、キャリアを除去する方法は、剥離により基板からキャリアを分離するステップと、その後、エッチングにより基板に残った剥離型銅箔層（残糊と称す）を除去するステップとを含む。しかしながら、エッチングプロセスの間、残った剥離型銅箔層だけでなく、基板上の配線層もエッチングされるため、その結果、製品構造信頼性が下がる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本発明は、より優れた構造信頼性を有するパッケージキャリアを提供する。

【0005】

本発明は、さらに、パッケージキャリアを製造するパッケージキャリア製造方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の１つの実施形態において、パッケージキャリアの製造方法は、接続面を有するキャリアを提供するステップと、キャリアの接続面に該接続面を完全に覆う剥離型ソルダーレジスト層を形成するステップと、相対する上表面と下表面を有する基板を提供するステップと、基板の下表面に、前記下表面の一部を露出する第１パターニングソルダーレジスト層を形成するステップと、キャリアと基板をラミネートし、剥離型ソルダーレジスト層が、第１パターニングソルダーレジスト層に直接接触し、キャリアが、剥離型ソルダーレジスト層を介して第１パターニングソルダーレジスト層に仮接合されるステップとを含む。

【0007】

本発明の１つの実施形態において、剥離型ソルダーレジスト層を形成するステップは、キャリアの接続面に熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含むソルダーレジスト材料層を形成するステップと、ソルダーレジスト材料層に対して光硬化プロセスを行い、剥離型ソルダーレジスト層を形成するステップとを含む。

【0008】

本発明の１つの実施形態において、光硬化プロセスの照射エネルギーは、２００ｍＪ／ｃｍ²〜１６００ｍＪ／ｃｍ²である。

【0009】

本発明の１つの実施形態において、第１パターニングソルダーレジスト層を形成するステップは、基板の下表面に熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含む第１ソルダーレジスト材料層を形成するステップと、第１ソルダーレジスト材料層に対して光硬化プロセスおよび熱硬化プロセスを行い、第１ソルダーレジスト材料層を完全に硬化するステップと；第１ソルダーレジスト材料層をパターニングして、第１パターニングソルダーレジスト層を形成するステップとを含む。

【0010】

本発明の１つの実施形態において、前記製造方法は、さらに、基板の上表面に、前記上表面の一部を露出する第２パターニングソルダーレジスト層を形成するステップを含む。

【0011】

本発明の１つの実施形態において、前記製造方法は、さらに、キャリアと基板をラミネートする前に、基板上に第１表面処理層および第２表面処理層を形成するステップを含み、第１表面処理層は、第２パターニングソルダーレジスト層により露出した上表面の一部に配置され、第２表面処理層は、第１パターニングソルダーレジスト層により露出した下表面の一部に配置される。

【0012】

本発明の１つの実施形態において、キャリアと基板をラミネートする温度は、９０℃〜２２０℃である。

【0013】

本発明の１つの実施形態において、キャリアは、コア誘電体層と、第１銅箔層と、第２銅箔層とを含み、第１銅箔層および第２銅箔層は、それぞれ、コア誘電体層の相対する両側に配置されている。

【0014】

本発明の１つの実施形態において、基板は、ベースと、第１導電層と、第２導電層とを含み、第１導電層および第２導電層は、それぞれ、ベースの相対する両側に配置されている。

【0015】

本発明の１つの実施形態において、キャリアと基板をラミネートする時、剥離型ソルダーレジスト層は、第１パターニングソルダーレジスト層に直接接触し、且つ第１パターニングソルダーレジスト層により露出した下表面の一部を覆う。

【0016】

本発明の１つの実施形態において、パッケージキャリアは、キャリアと、剥離型ソルダーレジスト層と、基板と、第１パターニングソルダーレジスト層とを含む。キャリアは、接続面を有する。剥離型ソルダーレジスト層は、キャリアの接続面に配置され、且つ接続面を完全に覆う。基板は、相対する上表面と下表面を有する。第１パターニングソルダーレジスト層は、基板の下表面に配置され、且つ下表面の一部を露出する。キャリアは、剥離型ソルダーレジスト層を介して第１パターニングソルダーレジスト層に仮接合される。

【0017】

本発明の１つの実施形態において、剥離型ソルダーレジスト層の材料は、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含み、剥離型ソルダーレジスト層は、半硬化状態である。

【0018】

本発明の１つの実施形態において、第１パターニングソルダーレジスト層の材料は、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含み、第１パターニングソルダーレジスト層は、完全な硬化状態である。

【0019】

本発明の１つの実施形態において、パッケージキャリアは、さらに、基板の上表面に配置され、且つ上表面の一部を露出する第２パターニングソルダーレジスト層を含む。

【0020】

本発明の１つの実施形態において、第２パターニングソルダーレジスト層の材料は、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含み、第２パターニングソルダーレジスト層は、完全な硬化状態である。

【0021】

本発明の１つの実施形態において、キャリアは、コア誘電体層と、第１銅箔層と、第２銅箔層とを含み、第１銅箔層および第２銅箔層は、それぞれ、コア誘電体層の相対する両側に配置されている。

【0022】

本発明の１つの実施形態において、基板は、ベースと、第１導電層と、第２導電層とを含み、第１導電層および第２導電層は、それぞれ、ベースの相対する両側に配置されている。

【0023】

本発明の１つの実施形態において、剥離型ソルダーレジスト層は、複数の突出部を含み、突出部は、第１パターニングソルダーレジスト層により露出した下表面の一部を覆う。

【発明の効果】

【0024】

以上のように、本発明のパッケージキャリアは、剥離型ソルダーレジスト層を介して基板上の第１パターニングソルダーレジスト層にキャリアを仮接合する。そのため、基板上で後続のチップパッケージまたは多層配線層の製造プロセスが完了した後、基板から直接剥離することにより、基板からキャリアを分離することができる。キャリアを剥離してから、基板に残った剥離型銅箔層をエッチングにより除去する従来の関連技術と比較して、本発明のパッケージキャリアの製造方法は、残糊等の問題が生じることなく、後続の工程ステップを簡易化することができるため、製造コストを効果的に下げることができ、製品信頼性を向上させることができる。

【0025】

本発明の上記および他の目的、特徴、および利点をより分かり易くするため、図面と併せた幾つかの実施形態を以下に説明する。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1a】本発明の１つの実施形態に係るキャリアパッケージの製造方法を示す概略的断面図である。

【図1b】本発明の１つの実施形態に係るキャリアパッケージの製造方法を示す概略的断面図である。

【図1c】本発明の１つの実施形態に係るキャリアパッケージの製造方法を示す概略的断面図である。

【図1d】本発明の１つの実施形態に係るキャリアパッケージの製造方法を示す概略的断面図である。

【図1e】本発明の１つの実施形態に係るキャリアパッケージの製造方法を示す概略的断面図である。

【図1f】本発明の１つの実施形態に係るキャリアパッケージの製造方法を示す概略的断面図である。

【図1g】本発明の１つの実施形態に係るキャリアパッケージの製造方法を示す概略的断面図である。

【図2】本発明の別の実施形態に係るキャリアパッケージを示す概略的断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0027】

図１ａ〜図１ｇは、本発明の１つの実施形態に係るキャリアパッケージの製造方法を示す概略的断面図である。本発明に係るキャリアパッケージの製造方法は、まず、図１ａを参照すると、接続面１１１を有するキャリア１１０を提供する。

【0028】

詳しく説明すると、図１ａに示すように、本実施形態のキャリア１１０は、コア誘電体層１１２、第１銅箔層１１４および第２銅箔層１１６により形成される。第１銅箔層１１４および第２銅箔層１１６は、それぞれ、コア誘電体層１１２の相対する両側に設置されるが、本発明はこの構造に限定されない。

【0029】

そして、再度図１ａを参照すると、キャリア１１０の接続面１１１にソルダーレジスト材料層１２０ａを形成する。ソルダーレジスト材料層１２０ａの材料は、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含む。この場合、図１ａに示すように、ソルダーレジスト材料層１２０ａは、キャリア１１０の接続面１１１を完全に覆うように具現される。

【0030】

それから、図１ｂを参照すると、ソルダーレジスト材料層１２０ａに対して光硬化プロセスを行い、剥離型ソルダーレジスト層１２０を形成する。この場合、光硬化プロセスは、例えば、紫外線Ｌを用いた照射プロセスにより行われ、光硬化プロセスの照射エネルギーは、例えば、２００ｍＪ／ｃｍ²〜１６００ｍＪ／ｃｍ²である。本実施形態のソルダーレジスト材料層１２０ａは、熱硬化と光硬化の両方の材料特性を有するため、光硬化プロセスにより形成された剥離型ソルダーレジスト層１２０は、完全に硬化されない。つまり、形成された剥離型ソルダーレジスト層１２０は、半硬化状態である。この状況において、剥離型ソルダーレジスト層１２０は、キャリア１１０の接続面１１１を完全に覆う。

【0031】

そして、図１ｃを参照すると、相対する上表面１３１と下表面１３３を有する基板１３０を提供する。詳しく説明すると、本実施形態の基板１３０は、ベース１３２、第１導電層１３４および第２導電層１３６により形成される。第１導電層１３４および第２導電層１３６は、それぞれ、ベース１３２の相対する両側に配置される。

【0032】

それから、再度図１ｃを参照すると、基板１３０の下表面１３３に第１ソルダーレジスト材料層１４０ａを形成する。この後、他の配線層を製造する必要がない場合、第１ソルダーレジスト材料層１４０ａを形成すると同時に、基板１３０の上表面１３１に第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂを形成してもよい。つまり、この工程ステップにおいて、第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂの製造は、選択的に行われる。第１ソルダーレジスト材料層１４０ａおよび第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂの材料は、いずれも、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含むことができる。つまり、第１ソルダーレジスト材料層１４０ａおよび第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂは、いずれも、熱硬化と光硬化の材料特性を有する。もちろん、別の実施形態において、第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂの材料が第１ソルダーレジスト材料層１４０ａの材料と異なってもよく、この場合もなお本発明に適用可能な技術的解決法であり、本発明の保護範囲に入るものとする。

【0033】

以下のステップにおいて、第１ソルダーレジスト材料層１４０ａおよび第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂが同時に形成されたものを例として説明するが、本発明はこれに限定されない。

【0034】

次に、図１ｄを参照すると、第１ソルダーレジスト材料層１４０ａおよび第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂに対して光硬化プロセスおよび熱硬化プロセスを行い、完全に硬化された第１ソルダーレジスト材料層１４０ａ’および完全に硬化された第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂ’を形成する。ここで、光硬化プロセスは、例えば、紫外線Ｌ’を用いた照射プロセスにより行われ、光硬化プロセスの照射エネルギーは、例えば、２００ｍＪ／ｃｍ²〜１６００ｍＪ／ｃｍ²である。一方、熱硬化プロセスは、例えば、加熱プロセスＴにより行われ、加熱プロセスＴの温度は、９０℃〜２２０℃であり、加熱プロセスＴの時間は、３０分〜１２０分である。ここで、光硬化プロセスと熱硬化プロセスを行う順番は、特に限定されない。

【0035】

そして、図１ｅを参照すると、第１ソルダーレジスト材料層１４０ａ’および第２ソルダーレジスト材料層１４０ｂ’をパターニングして、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａおよび第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂを形成する。この状況において、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａおよび第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂは、それぞれ、基板１３０の下表面１３３および上表面１３１の上に形成される。第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａおよび第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂは、それぞれ、下表面１３３の一部および上表面１３１の一部を露出する。図１ｅに示すように、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａは、第２導電層１３６の一部を露出し、第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂは、第１導電層１３４の一部を露出する。この状況において、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａおよび第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂは、完全に硬化される。

【0036】

そして、露出した第１導電層１３４および第２導電層１３６の構造特性を維持するため、図１ｆに示すように、基板１３０に第１表面処理層１５０ａおよび第２表面処理層１５０ｂを形成してもよい。第１表面処理層１５０ａは、第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂにより露出した上表面１３１に形成され、第２表面処理層１５０ｂは、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａにより露出した下表面１３３に形成される。

【0037】

最後に、図１ｇを参照すると、キャリア１１０と基板１３０をラミネートする。剥離型ソルダーレジスト層１２０は、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａに直接接触し、キャリア１１０は、剥離型ソルダーレジスト層１２０を介して第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａに仮接合される。この場合、キャリア１１０と基板１３０をラミネートする温度は、例えば、９０℃〜２２０℃である。これで、パッケージキャリア１００の製造が完了する。

【0038】

構造については、再度図１ｇを参照すると、パッケージキャリア１００は、キャリア１１０と、剥離型ソルダーレジスト層１２０と、基板１３０と、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａとを含む。キャリア１１０は、接続面１１１を有する。剥離型ソルダーレジスト層１２０は、キャリア１１０の接続面１１１に配置され、且つ接続面１１１を完全に覆う。基板１３０は、相対する上表面１３１と下表面１３３を有する。第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａは、基板１３０の下表面１３３に配置され、且つ下表面１３３の一部を露出する。キャリア１１０は、剥離型ソルダーレジスト層１２０を介して第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａに仮接合される。

【0039】

詳しく説明すると、本実施形態のキャリア１１０は、コア誘電体層１１２と、コア誘電体層１１２の相対する両側に配置された第１銅箔層１１４および第２銅箔層１１６により形成される。基板１３０は、ベース１３２と、ベース１３２の相対する両側に配置された第１導電層１３４および第２導電層１３６により形成される。特に、本実施形態の剥離型ソルダーレジスト層１２０は、半硬化状態であり、剥離型ソルダーレジスト層１２０の材料は、例えば、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料を含む。また、第１導電層１３４を保護するため、パッケージキャリア１００は、第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂを含んでもよい。第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂは、基板１３０の上表面１３１に配置され、且つ上表面１３１の一部を露出する。

【0040】

第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａおよび第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂは、完全に硬化され、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａおよび第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂの材料は、いずれも、例えば、熱硬化性ソルダーレジスト材料および光硬化性ソルダーレジスト材料である。つまり、剥離型ソルダーレジスト層１２０、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａおよび第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂの材料は、いずれも、熱硬化と光硬化のソルダーレジスト材料の組成物である。もちろん、別の実施形態において、第２パターニングソルダーレジスト層１４２ｂの材料が第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａの材料と異なってもよく、この場合もなお本発明の保護範囲に入るものとする。

【0041】

言及すべきこととして、本実施形態のパッケージキャリア１００は、実質的に、半製品構造であるため、この後、基板１３０上でチップパッケージプロセスまたは多層配線層プロセスを行ってもよい。本発明のキャリアパッケージ１００の基板１３０とキャリア１１０は、剥離型ソルダーレジスト層１２０を介して互いに仮接合されているため、チップパッケージプロセスまたは多層配線層プロセスが完了した後、剥離することにより、キャリア１１０と基板１３０を互いに分離することができる。剥離型ソルダーレジスト層１２０の材料特性により、剥離ステップにおいて基板１３０に残糊が残らないため、他の付加プロセスにより洗浄操作を行う必要がない。

【0042】

さらに、別の実施形態において、図１ｂのステップにおいて、ソルダーレジスト材料層１２０ａに硬化プロセスを行うことによって形成された剥離型ソルダーレジスト層１２０は、実質的に、不完全に硬化される。そのため、キャリア１１０と基板１３０をラミネートしている間、図２に示すように、剥離型ソルダーレジスト層１２０ａは、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａに直接接触し、且つ第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａにより露出した下表面１３３の一部を覆う。つまり、パッケージキャリア１００ａの剥離型ソルダーレジスト層１２０ａは、複数の突出部１２２ａを含んでもよく、突出部１２２ａは、第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａにより露出した下表面１３３の一部を覆う。さらに詳しく説明すると、図２に示すように、突出部１２２ａは、第２表面処理層１５０ｂに直接接触し、且つ第１パターニングソルダーレジスト層１４２ａの間隙を充填する。

【0043】

以上のように、本発明のパッケージキャリアは、剥離型ソルダーレジスト層を介して基板上の第１パターニングソルダーレジスト層にキャリアを仮接合する。そのため、基板上で後続のチップパッケージまたは多層配線層の製造プロセスが完了した後、剥離することにより、キャリアと基板を分離することができる。キャリアを剥離してから、基板に残った剥離型銅箔層をエッチングにより除去する従来の関連技術と比較して、本発明のパッケージキャリアの製造方法は、残糊等の問題が生じることなく、後続の工程ステップを簡易化することができるため、製造コストを効果的に下げることができ、製品信頼性を向上させることができる。

【0044】

以上のごとく、この発明を実施形態により開示したが、もとより、この発明を限定するためのものではなく、当業者であれば容易に理解できるように、この発明の技術思想の範囲内において、適当な変更ならびに修正が当然なされうるものであるから、その特許権保護の範囲は、特許請求の範囲および、それと均等な領域を基準として定めなければならない。

【産業上の利用可能性】

【0045】

本発明は、残糊等の問題が生じることなく後続の工程ステップを簡易化することのできるパッケージキャリアおよびその製造方法に関するものである。

【符号の説明】

【0046】

１００、１００ａ パッケージキャリア
１１０ キャリア
１１１ 接続面
１１２ コア誘電体層
１１４ 第１銅箔層
１１６ 第２銅箔層
１２０ 剥離型ソルダーレジスト層
１２０ａ ソルダーレジスト材料層
１２２ａ 突出部
１３０ 基板
１３１ 上表面
１３２ ベース
１３３ 下表面
１３４ 第１導電層
１３６ 第２導電層
１４０ａ、１４０ａ’ 第１ソルダーレジスト材料層
１４０ｂ、１４０ｂ’ 第２ソルダーレジスト材料層
１４２ａ 第１パターニングソルダーレジスト層
１４２ｂ 第２パターニングソルダーレジスト層
１５０ａ 第１表面処理層
１５０ｂ 第２表面処理層
Ｌ、Ｌ’ 紫外線
Ｔ 加熱プロセス

【図1a】

【図1b】

【図1c】

【図1d】

【図1e】

【図1f】

【図1g】

【図2】