特許 6130712 ガス浄化装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6130712

(24)【登録日】2017年4月21日

(45)【発行日】2017年5月17日

(54)【発明の名称】ガス浄化装置

(51)【国際特許分類】

   F04B 39/12 20060101AFI20170508BHJP

   F04B 39/06 20060101ALI20170508BHJP

   F04B 39/16 20060101ALI20170508BHJP

【ＦＩ】

   F04B39/12 101F

   F04B39/12 F

   F04B39/06 G

   F04B39/16 D

【請求項の数】8

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2013-87381(P2013-87381)

(22)【出願日】2013年4月18日

(65)【公開番号】特開2014-88869(P2014-88869A)

(43)【公開日】2014年5月15日

【審査請求日】2016年4月11日

(31)【優先権主張番号】特願2012-220162(P2012-220162)

(32)【優先日】2012年10月2日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】591252781

【氏名又は名称】ヒューグルエレクトロニクス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100091281

【弁理士】

【氏名又は名称】森田 雄一

(72)【発明者】

【氏名】秋 淵雄

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 孝宏

(72)【発明者】

【氏名】白根 智博

【審査官】 所村 陽一

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０６−１９８１２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭４９−０６８３０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−２０７４３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−０６３８８１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｆ０４Ｂ ３９／１２

Ｆ０４Ｂ ３９／０６

Ｆ０４Ｂ ３９／１６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

外部から区画された内部空間を有する密閉ケースと、
フィルタにより浄化されたガスを前記内部空間に導入するガス導入部と、
前記密閉ケースに収納され前記内部空間から吸気したガスを送気するブロワと、
前記ブロワの周囲を覆うように配置され、かつ、前記ガス導入部から前記内部空間に導入されたガスを冷却する冷却手段と、
前記ブロワが送気するガスを外部へ導出するガス導出部と、
を有する密閉送風源を備えたガス浄化装置であって、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部が、外部から供給されたガスが流入するガス流入口と、このガス流入口と前記ブロワとの間に配置されて前記内部空間へガスを放出する通孔付きの開放放出部と、を備え、前記ガス導出部が、前記ブロワにより送気されるガスが通過する送気部と、この送気部を通過したガスを外部に排出するためのガス流出口と、を有することを特徴とするガス浄化装置。

【請求項2】

外部から区画された内部空間を有する密閉ケースと、
フィルタにより浄化されたガスを前記内部空間に導入するガス導入部と、
前記密閉ケースに収納され前記内部空間から吸気したガスを送気するブロワと、
前記ブロワの周囲を覆うように配置され、かつ、前記ガス導入部から前記内部空間に導入されたガスを冷却する冷却手段と、
前記ブロワが送気するガスを外部へ導出するガス導出部と、
を有する密閉送風源を備えたガス浄化装置であって、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部が、外部から供給されたガスが流入するガス流入口と、このガス流入口と前記ブロワとの間に配置されて前記内部空間へガスを放出するパイプと、を備え、前記ガス導出部が、前記ブロワにより送気されるガスが通過する送気部と、この送気部を通過したガスを外部に排出するためのガス流出口と、を有することを特徴とするガス浄化装置。

【請求項3】

請求項１または請求項２に記載したガス浄化装置において、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部のガス流入口と、前記ガス導出部のガス流出口と、の周囲を冷却する第二冷却手段をさらに備えることを特徴とするガス浄化装置。

【請求項4】

外部から供給されたガスが通過するプレフィルタと、このプレフィルタを通ったガスが供給される請求項１〜３の何れかに記載した密閉送風源と、この密閉送風源から排出されるガスを冷却する熱交換器と、この熱交換器により冷却されたガスが通過するＨＥＰＡフィルタと、を備えたことを特徴とするガス浄化装置。

【請求項5】

請求項４に記載したガス浄化装置において、
前記プレフィルタ、前記密閉送風源、前記熱交換器及び前記ＨＥＰＡフィルタを、単一のケーシングに収納したことを特徴とするガス浄化装置。

【請求項6】

外部から供給されたガスが通過するプレフィルタと、このプレフィルタを通ったガスが供給される請求項１〜３の何れかに記載した密閉送風源と、この密閉送風源から排出されるガスが通過するＨＥＰＡフィルタと、を備えたことを特徴とするガス浄化装置。

【請求項7】

請求項６に記載したガス浄化装置において、
前記プレフィルタ、前記密閉送風源及び前記ＨＥＰＡフィルタを、単一のケーシングに収納したことを特徴とするガス浄化装置。

【請求項8】

請求項６に記載したガス浄化装置において、
前記プレフィルタ及び前記ＨＥＰＡフィルタが収納されたフィルタユニットと前記密閉送風源とを、ガス流路を介して連結・分離可能に形成したことを特徴とするガス浄化装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイ等の製造工程に使用して好適なガス浄化装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

有機ＥＬ素子は、二つの電極間にある有機材料を電圧により誘起し、再び元に戻る時に光を放出する現象を利用した自然発光型素子である。そして、ＲＧＢ各発光層の有機ＥＬ素子をマトリクス状に複数配置して有機ＥＬディスプレイを構成する。
この有機ＥＬディスプレイには、低消費電力で発熱が少なく、薄型軽量という特性がある。更に、有機ＥＬディスプレイの画質は、良好な色再現性、高コントラスト、動画応答性とピーク精度の高さ、視野角依存性がない等の優れた特性を持つ。

【0003】

有機ＥＬディスプレイの有機材料は、水や酸素に触れると劣化しやすいという特性がある。そこで、有機ＥＬディスプレイの製造に当たっては、真空下、または窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で、ＲＧＢ各発光層等の金属電極材料を真空蒸着によって基板に成膜し、また、大気に触れない状態でガラスの接着や封止を行っている。

【0004】

さて、有機ＥＬディスプレイを不活性ガス雰囲気下で製造する場合、長尺の製造ライン全体をカバーにより覆い、このカバーの内部に不活性ガスを充填することがある。しかしながら、製造途中で発生する塵埃や微小片（以下、単に異物という）によって不活性ガスが汚染されることがあり、通常はガス浄化装置により前記カバー内の不活性ガスをクリーニングし、異物を除去するようにしている。

【0005】

ここで、有機ＥＬディスプレイの製造に関する従来技術として、例えば、特許文献１，２に記載された装置が知られている。
特許文献１，２に記載された装置では、何れも密閉された容器に電動送風機を収納している。そして、特許文献１では、冷却板にガスを接触させて熱交換を行い、この冷却板に接する水冷パイプにより排熱を行う構造を採用している。また、特許文献２では、電動送風機が作り出す風によって送風機のモータを冷却することにより、自己冷却を行っている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２００７-１９８３６４号公報（図１〜図３等）

【特許文献2】特開２００８-１２８２２４号公報（図１〜図４等）

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

特許文献１の図１，図２に記載された装置では小型の冷却機構で熱交換するため不活性ガスとの接触面積が少なく、冷却効果が弱いという問題があった。
また、特許文献２の図１，図２，図４に記載された装置では、冷却ファンが不活性ガスを送風してモータを冷却しているため、冷却ファン機構から発する異物が不活性ガスに混入する恐れがあった。さらに冷却ファン機構を気密構造にしないと異物に加えて周囲から大気が混入する恐れがあり、大気が混入すると有機材料が水や酸素に触れて劣化し、発光できないダークスポットと呼ばれる不良部位が発生して製品の歩留まりが悪くなる等の問題があった。

【0008】

そこで、本発明の解決課題は、異物の混入や大気の侵入を防止しつつガスを浄化すると共に、ブロワ内のモータを効率よく冷却可能としたガス浄化装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記課題を解決するため、請求項１に係るガス浄化装置は、外部から区画された内部空間を有する密閉ケースと、
フィルタにより浄化されたガスを前記内部空間に導入するガス導入部と、
前記密閉ケースに収納され前記内部空間から吸気したガスを送気するブロワと、
前記ブロワの周囲を覆うように配置され、かつ、前記ガス導入部から前記内部空間に導入されたガスを冷却する冷却手段と、
前記ブロワが送気するガスを外部へ導出するガス導出部と、
を有する密閉送風源を備えたガス浄化装置であって、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部が、外部から供給されたガスが流入するガス流入口と、このガス流入口と前記ブロワとの間に配置されて前記内部空間へガスを放出する通孔付きの開放放出部と、を備え、前記ガス導出部が、前記ブロワにより送気されるガスが通過する送気部と、この送気部を通過したガスを外部に排出するためのガス流出口と、を有することを特徴とする。

【0010】

請求項２に係るガス浄化装置は、外部から区画された内部空間を有する密閉ケースと、
フィルタにより浄化されたガスを前記内部空間に導入するガス導入部と、
前記密閉ケースに収納され前記内部空間から吸気したガスを送気するブロワと、
前記ブロワの周囲を覆うように配置され、かつ、前記ガス導入部から前記内部空間に導入されたガスを冷却する冷却手段と、
前記ブロワが送気するガスを外部へ導出するガス導出部と、
を有する密閉送風源を備えたガス浄化装置であって、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部が、外部から供給されたガスが流入するガス流入口と、このガス流入口と前記ブロワとの間に配置されて前記内部空間へガスを放出するパイプと、を備え、前記ガス導出部が、前記ブロワにより送気されるガスが通過する送気部と、この送気部を通過したガスを外部に排出するためのガス流出口と、を有することを特徴とする。

【0011】

請求項３に係るガス浄化装置は、請求項１または請求項２に記載したガス浄化装置において、
前記密閉送風源は、前記ガス導入部のガス流入口と、前記ガス導出部のガス流出口と、の周囲を冷却する第二冷却手段をさらに備えることを特徴とする。

【0012】

請求項４に係るガス浄化装置は、外部から供給されたガスが通過するプレフィルタと、このプレフィルタを通ったガスが供給される請求項１〜３の何れかに記載した密閉送風源と、この密閉送風源から排出されるガスを冷却する熱交換器と、この熱交換器により冷却されたガスが通過するＨＥＰＡフィルタと、を備えたことを特徴とする。

【0013】

請求項５に係るガス浄化装置は、請求項４に記載したガス浄化装置において、前記プレフィルタ、前記密閉送風源、前記熱交換器及び前記ＨＥＰＡフィルタを、単一のケーシングに収納したことを特徴とする。

【0014】

請求項６に係るガス浄化装置は、外部から供給されたガスが通過するプレフィルタと、このプレフィルタを通ったガスが供給される請求項１〜３の何れかに記載した密閉送風源と、この密閉送風源から排出されるガスが通過するＨＥＰＡフィルタと、を備えたことを特徴とする。

【0015】

請求項７に係るガス浄化装置は、請求項６に記載したガス浄化装置において、前記プレフィルタ、前記密閉送風源及び前記ＨＥＰＡフィルタを、単一のケーシングに収納したことを特徴とする。

【0016】

請求項８に係るガス浄化装置は、請求項６に記載したガス浄化装置において、前記プレフィルタ及び前記ＨＥＰＡフィルタが収納されたフィルタユニットと前記密閉送風源とを、ガス流路を介して連結・分離可能に形成したことを特徴とする。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、回収したガスに異物が混入したり大気が侵入することもなく、ガスを冷却しながら浄化して再び外部に供給するガス浄化装置を提供することができる。また、密閉ケースの内部空間で冷却されたガスを用いてブロワ内のモータを冷却するようにガス流路を構成することにより、ブロワ内のモータを効率よく冷却することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の内部を側面から視た内部構成図である。

【図2】本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の内部を正面から視た内部構成図である。

【図3】本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の内部を背面から視た内部構成図である。

【図4】本発明の第１実施例に係るガス浄化装置の構成図である。

【図5】本発明の第２実施例に係るガス浄化装置の構成図である。

【図6】本発明の第３実施例に係るガス浄化装置の構成図である。

【図7】本発明の第４実施例に係るガス浄化装置の構成図である。

【図8】本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。

【図9】本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。

【図10】本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、図に沿って本発明の実施形態を説明する。
図１は、本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源１００の内部を側面から視た構成図、図２は同じく正面から視た構成図、図３は同じく背面から視た構成図である。図１〜図３において、密閉送風源１００は、蓋１０１ａおよび有底筒状の収容体１０１ｂを有する密閉ケース１０１と、この密閉ケース１０１内に収納されたボルテックスブロワ１０２と、密閉ケース１０１の内周面において螺旋状に配置された冷却管１０３とを備えている。

【0021】

また、１０４は製造ラインからの不活性ガス（例えば窒素（Ｎ_２）ガス）が供給されるガス流入口であり、このガス流入口１０４から流入した不活性ガスは、開放放出部１０５を介して内部空間へ供給されるようになっている。これらガス流入口１０４および開放放出部１０５はガス導入部の具体例である。なお、図１，図２で示すように、開放放出部１０５には多数の通孔１０５ａが設けられている。この開放放出部１０５の通孔１０５ａから不活性ガスが放出される。この不活性ガスは螺旋状の冷却管１０３に接触して冷却された後、図３で示すようにボルテックスブロワ１０２の吸気口１０２ａを介してボルテックスブロワ１０２の内部に流入し、ホースやパイプなどの送気部１０６を介してガス流出口１０７に到達するように構成されている。これら送気部１０６およびガス流出口１０７はガス導出部の具体例である。

【0022】

冷却管１０３の両端部は、冷却水供給口１０３ａ及び冷却水排出口１０３ｂに接続され、図示されていない外部の冷却ポンプから送られる冷却水が冷却管１０３を通過することにより、密閉ケース１０１の内部空間に充満しているガスが冷却される。この冷却管１０３は螺旋状に構成しており、不活性ガスとの接触面積を大幅に増大させている。なお、この密閉送風源１００における不活性ガスの冷却を一次冷却という。

【0023】

密閉ケース１０１の底面には、キャスター及びストッパーが取り付けられており、密閉送風源１００の移動及び固定を容易にしている。
また、ボルテックスブロワ１０２の内部に設けられたモータを駆動するためのインバータ等の制御ユニットは、密閉ケース１０１内に収納しても良いし、密閉ケース１０１の外部に配置しても良い。

【0024】

次に、図４は本発明の第１実施例に係るガス浄化装置の構成図である。
図４において、製造プロセスから回収された不活性ガスは、流路５０１を介してフィルタユニット２００内のプレフィルタ２０１を通り、流路５０２から前記密閉送風源１００のガス流入口１０４に流入する。
製造プロセスとしては、例えば有機ＥＬディスプレイの製造工程において、基板の表面を不活性ガスにより除塵する除塵装置が考えられ、除塵後の不活性ガスを回収して冷却しながら浄化し、冷却・浄化後のガスを除塵装置に再び供給する。前記プレフィルタ２０１は、浄化前のガスから大部分の異物を除去して一次浄化を行うために設けられている。

【0025】

密閉送風源１００における動作は前述したとおりであり、一次浄化された不活性ガスはガス流入口１０４から開放放出部１０５の通孔１０５ａを介して密閉ケース１０１内の内部空間へ放出される。この内部空間に放出された不活性ガスは冷却管１０３により一次冷却され、ボルテックスブロワ１０２の吸気口１０２ａを経てボルテックスブロワ１０２の内部に流入し、送気部１０６を介してガス流出口１０７から外部に排出される。ガス流出口１０７から排出された不活性ガスは、図４の流路５０３を介して熱交換器３００に供給される。
上記のように、一次冷却された不活性ガスをボルテックスブロワ１０２の内部に流入させて送気部１０６から排出することにより、ボルテックスブロワ１０２の内部のモータを効率よく冷却することができる。

【0026】

熱交換器３００は、密閉送風源１００から送られた不活性ガスを適宜、温度調節しながら二次冷却するためのものであり、二次冷却後のガスの温度が製造プロセスに適した温度となるように、図示されていないコントローラによって冷却水温度や水量等が制御される。
なお、製造プロセスから回収されるガスの温度は、例えば６０〜８０［℃］に達することも多く、この高温ガスを浄化して再び製造プロセスに戻すと基板や電極材料の劣化等、種々の問題を生じる。このため、熱交換器３００によってガスを例えば２３［℃］程度の常温まで冷却し、冷却後のガスを製造プロセスに供給することで、製品の劣化や不良の発生を防止し、歩留まりを向上させることができる。

【0027】

図４において、熱交換器３００を通った二次冷却後のガスは、流路５０４を介してフィルタユニット２００内のＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタ２０２により二次浄化され、流路５０５を介して製造プロセスに供給される。ＨＥＰＡフィルタ２０２は、二次冷却後のガス（一次浄化ガス）から高い粒子捕集率（例えば、定格風量で粒径が０．３［μｍ］の粒子に対して９９．９７［％］以上：ＪＩＳ Ｚ ８１２２）により微小な異物を除去するものである。
ここで、流路５０１〜５０５は、パイプまたはホースにより構成されている。

【0028】

上記のように、第１実施例のガス浄化装置においては、プレフィルタ２０１により一次浄化した不活性ガスを密閉送風源１００の密閉ケース１０１内に充満させて一次冷却し、その後に一次冷却ガスを熱交換器３００により二次冷却して温度調節を行うと共に、ＨＥＰＡフィルタ２０２により高効率の二次浄化を行ってから製造プロセスに供給している。
従って、密閉ケース１０１内の不活性ガスに対して、更に外部から異物が混入する恐れがなく、仮にボルテックスブロワ１０２のモータ等から若干の異物が発生したとしても、その異物は後段のＨＥＰＡフィルタ２０２により確実に除去されるので、高純度の浄化ガスが製造プロセスに供給されることになる。
加えて、密閉送風源１００による不活性ガスの一次冷却、熱交換器３００による温度調節を伴った二次冷却を行うことにより、製造プロセスから回収された不活性ガスが高温である場合でも、これを所定温度に冷却して再び製造プロセスに供給することができ、適切な温度条件のもとで基板の除塵等を行うことが可能である。

【0029】

次に、図５は本発明の第２実施例に係るガス浄化装置の構成図である。
図４に示した第１実施例では、プレフィルタ２０１及びＨＥＰＡフィルタ２０２を単一のケーシングに収納してフィルタユニット２００を形成することを予定しているが、図５に示すように、密閉送風源１００、熱交換器３００、プレフィルタ２０１及びＨＥＰＡフィルタ２０２を、単一のケーシング４０１に収納してもよい。この場合、各機器の配置を工夫し、流路５０２〜５０４の長さを最短に設定することにより、全体的に小型のガス浄化装置を実現することができる。

【0030】

図６は本発明の第３実施例に係るガス浄化装置の構成図である。
この第３実施例は、図５の第２実施例から熱交換器３００を除去したものに相当し、密閉送風源１００、プレフィルタ２０１及びＨＥＰＡフィルタ２０２が単一のケーシング４０２に収納されている。
製造プロセスから回収されるガスがそれほど高温にならない場合や、密閉送風源１００での一次冷却時に温度調節が可能な場合等には、図６のように熱交換器３００を除去することにより、第１実施例、第２実施例よりも構成が簡単で一層小型のガス浄化装置を実現することができる。

【0031】

図７は本発明の第４実施例に係るガス浄化装置の構成図である。
この第４実施例は、フィルタユニット２００と密閉送風源１００とを分離し、密閉送風源１００の流路５０２，５０３の端部に取り付けたジョイント５１２，５１３によってフィルタユニット２００内のプレフィルタ２０１及びＨＥＰＡフィルタ２０２に連結するように構成されている。なお、この第４実施例でも、熱交換器３００は用いられていない。

【0032】

図６の第３実施例では、ガス浄化装置の全体をケーシング４０１に収納しているが、設置スペースに余裕がなくケーシング４０１を設置できないこともある。そのような場合には、第４実施例に示すようにフィルタユニット２００と密閉送風源１００とを分離し、流路５０２，５０３を例えば可撓性のあるホース等により形成すれば、フィルタユニット２００と密閉送風源１００とを任意の位置関係で設置できるため、狭いスペースを有効的に利用することができる。同時に、フィルタユニット２００と密閉送風源１００とが分離されていれば、各部の保守点検作業も容易になり、メンテナンス性に優れたガス浄化装置を提供することができる。

【0033】

なお、図５の第２実施例、図６の第３実施例におけるケーシング４０１，４０２内の各部の相対的な位置関係は特に限定されず、各部を平面的に配置し、または垂直方向に積層して配置する等、ガス浄化装置の設置スペースを考慮しながら任意に設計すれば良い。

【0034】

次に、図８は、本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。この密閉送風源１００Ａでは、開放放出部１０５に代えて通常のパイプ１０８を配置したものである。このパイプ１０８は通孔がない管であり、下側の一個の開口のみから不活性ガスが噴射される。これらガス流入口１０４およびパイプ１０８はガス導入部の具体例である。

【0035】

すなわち、外部の流路５０２（図４〜図７を参照）から供給される不活性ガスはガス流入口１０４からパイプ１０８を経て密閉ケース１０１の内部空間に放出される。この不活性ガスは冷却管１０３に接触して冷却された後、ボルテックスブロワ１０２の吸気口１０２ａからボルテックスブロワ１０２の内部および送気部１０６を経てガス流出口１０７から外部の流路５０３（図４〜図７を参照）に排出される。このような密閉送風源としても良い。
なお、図８の密閉送風源１００Ａは、図４〜図７に示したガス浄化装置のすべてに適用可能である。

【0036】

次に、図９は、本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。この密閉送風源１００Ｂでは、ガス流入口１０４およびガス流出口１０７の周囲を冷却水が通過するようにして不活性ガスをさらに冷却する構成を採用する。密閉ケース１０１は、蓋１０１ａ、収容体１０１ｂに加え、さらに冷却水供給口１０１ｃ、冷却水排出口１０１ｄを備える。蓋１０１ａには冷却水供給口１０１ｃおよび冷却水排出口１０１ｄを通過する流路が形成されており、冷却水供給口１０１ｃからの冷却水はこの流路を通過して冷却水排出口１０１ｄから流出される。これらは第二冷却手段として機能する。

【0037】

このような密閉送風源１００Ｂでは、蓋１０１ａのガス流入口１０４で冷却された不活性ガスを密閉ケース１０１の内部空間内に放出してボルテックスブロワ１０２へ供給する。これによりボルテックスブロワ１０２の内部の温度を更に下げる効果が見込める。ボルテックスブロワ１０２の内部温度を下げることでブロワ内のベアリング寿命延長など各種の利点がある。そして、蓋１０１ａのガス流出口１０７付近で更に不活性ガスを冷却した上で送気する。これにより不活性ガスの更なる冷却効果も見込める。

【0038】

次に、図１０は、本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。この密閉送風源１００Ｃでは、不活性ガスの流路が図１の例と逆になっている。
すなわち、外部の流路５０２（図４〜図７を参照）から供給される不活性ガスはガス流入口１０４Ａから送気部１０６を経てボルテックスブロワ１０２の内部に供給され、ボルテックスブロワ１０２の排気口１０２ｂから密閉ケース１０１の内部空間に放出された不活性ガスは冷却管１０３に接触して冷却された後、開放収集部１０５Ａの通孔１０５Ｂを介してガス流出口１０７Ａから外部の流路５０３（図４〜図７を参照）に排出される。

【0039】

この密閉送風源１００Ｃは、ボルテックスブロワ１０２内のモータの冷却機能は図１の密閉送風源１００より若干劣っているが、回収したガスを密閉空間内で冷却して再び外部に供給する点では図１の密閉送風源１００と同等の機能を持つものである。
なお、図１０の密閉送風源１００Ｃは、図４〜図７に示したガス浄化装置のすべてに適用可能である。

【産業上の利用可能性】

【0040】

本発明のガス浄化装置は、有機ＥＬディスプレイ等の製造工程における不活性ガスの浄化に限らず、各種の製造設備、空調設備、測定・試験設備などにおけるガスの浄化に利用することができる。

【符号の説明】

【0041】

１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ：密閉送風源
１０１：密閉ケース
１０２：ボルテックスブロワ
１０２ａ：吸気口
１０２ｂ：排気口
１０３：冷却管
１０３ａ：冷却水供給口
１０３ｂ：冷却水排出口
１０４，１０４Ａ：ガス流入口
１０５：開放放出部
１０５ａ：通孔
１０５Ａ：開放収集部
１０５Ｂ：通孔
１０６：送気部
１０７，１０７Ａ：ガス流出口
２００：フィルタユニット
２０１：プレフィルタ
２０２：ＨＥＰＡフィルタ
３００：熱交換器
４０１，４０２：ケーシング
５０１〜５０５：流路
５１２，５１３：ジョイント

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】