特許第6141627号(P6141627)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ パワー・インテグレーションズ・インコーポレーテッドの特許一覧

特許6141627シリコン基板上にGaN層を形成する方法およびGaN基板
<>
  • 特許6141627-シリコン基板上にGaN層を形成する方法およびGaN基板 図000002
  • 特許6141627-シリコン基板上にGaN層を形成する方法およびGaN基板 図000003
  • 特許6141627-シリコン基板上にGaN層を形成する方法およびGaN基板 図000004
  • 特許6141627-シリコン基板上にGaN層を形成する方法およびGaN基板 図000005
  • 特許6141627-シリコン基板上にGaN層を形成する方法およびGaN基板 図000006
  • 特許6141627-シリコン基板上にGaN層を形成する方法およびGaN基板 図000007
< >