特許 6156390 シラノール化合物の除去方法、ケミカルフィルタ及び露光装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6156390

(24)【登録日】2017年6月16日

(45)【発行日】2017年7月5日

(54)【発明の名称】シラノール化合物の除去方法、ケミカルフィルタ及び露光装置

(51)【国際特許分類】

   B01D 53/02 20060101AFI20170626BHJP

   B01J 20/20 20060101ALI20170626BHJP

   B01J 20/28 20060101ALI20170626BHJP

   C01B 32/306 20170101ALI20170626BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20170626BHJP

【ＦＩ】

   B01D53/02

   B01J20/20 B

   B01J20/28 Z

   C01B32/306

   G03F7/20 502

   G03F7/20 521

【請求項の数】9

【全頁数】17

(21)【出願番号】特願2014-547019(P2014-547019)

(86)(22)【出願日】2013年11月14日

(86)【国際出願番号】JP2013080755

(87)【国際公開番号】WO2014077304

(87)【国際公開日】20140522

【審査請求日】2016年8月15日

(31)【優先権主張番号】特願2012-252237(P2012-252237)

(32)【優先日】2012年11月16日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000110804

【氏名又は名称】ニチアス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100098682

【弁理士】

【氏名又は名称】赤塚 賢次

(74)【代理人】

【識別番号】100131255

【弁理士】

【氏名又は名称】阪田 泰之

(74)【代理人】

【識別番号】100125324

【弁理士】

【氏名又は名称】渋谷 健

(72)【発明者】

【氏名】下津 太年

(72)【発明者】

【氏名】石川 俊

(72)【発明者】

【氏名】今井 章博

【審査官】 神田 和輝

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１１−２１２５３１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−５５８０７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１１／０９９６１６（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ａ６１Ｌ ９／００−９／２２

Ｂ０１Ｄ ５３／０２−５３／１２

Ｂ０１Ｄ ５３／１４−５３／１８

Ｂ０１Ｊ ２０／００−２０／３４

Ｃ０１Ｂ ３２／３０６

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

ＪＳＴＰｌｕｓ／ＪＳＴ７５８０（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

含酸素官能基を有する活性炭であり、該含酸素官能基を有する活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある含酸素官能基を有する活性炭に、シラノール化合物を含有する被処理空気を接触させて、シラノール化合物を二量化させ、生成した該シラノール化合物の二量体を、該含酸素官能基を有する活性炭に吸着させることにより、該被処理空気中の該シラノール化合物を除去することを特徴とするシラノール化合物の除去方法。

【請求項2】

前記細孔容積分布において、細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合が、７０〜１００％であることを特徴とする請求項１記載のシラノール化合物の除去方法。

【請求項3】

前記含酸素官能基を有する活性炭の比表面積が１７００ｍ^２／ｇ以上であり、マイクロ孔容積が１ｃｍ^３／ｇ以上であることを特徴とする請求項１又は２いずれか１項記載のシラノール化合物の除去方法。

【請求項4】

前記含酸素官能基を有する活性炭は、前記含酸素官能基として、少なくとも、カルボニル基、水酸基、ラクトン基及びカルボキシル基のうちの１種又は２種以上を有することを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のシラノール化合物の除去方法。

【請求項5】

前記シラノール化合物が、トリメチルシラノールであることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のシラノール化合物の除去方法。

【請求項6】

前記シラノール化合物を含有する被処理空気の相対湿度が３０〜５５％であることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のシラノール化合物の除去方法。

【請求項7】

前記シラノール化合物を含有する被処理空気の相対湿度が、５０〜５５％であることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のシラノール化合物の除去方法。

【請求項8】

含酸素官能基を有する活性炭であり、該含酸素官能基を有する活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある含酸素官能基を有する活性炭が用いられていることを特徴とする請求項１〜７いずれか１項記載のシラノール化合物の除去方法を実施するためのケミカルフィルタ。

【請求項9】

請求項８記載のケミカルフィルタを有することを特徴とする露光装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、シラノール化合物を含有する被処理空気中のシラノール化合物を除去するためのシラノール化合物の除去方法に関する。また、本発明は、該シラノール化合物の除去方法を実施するためのケミカルフィルタ及び露光装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体・液晶をはじめとする産業では、製品の歩留まりや品質、信頼性を確保するため、クリーンルーム内の空気や製品表面の汚染制御が重要である。特に、半導体産業分野では、製品の高集積度化に伴い、回路パターンが微細化しているため、半導体の製造に用いられる露光工程においては、露光波長が短波長化してきている。現在では、光源として、波長が２４８ｎｍであるＫｒＦエキシマレーザーや、波長が１９３ｎｍであるＡｒＦエキシマレーザーが用いられている。

【0003】

半導体の製造では、ウエハの表面に水酸基があるとレジストがはじかれるので、ウエハの処理過程として、フォトレジスト塗布前にウエハの水酸基を除去し、疎水性を増すために、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）が使用される。このＨＭＤＳが加水分解すると、トリメチルシラノールが生成する。そして、トリメチルシラノールは、上記露光工程において、エネルギーの高い短波長の光と光化化学反応を起こし、露光装置の露光レンズに付着し、ヘイズ（曇り）の原因となり、露光障害を引き起こす。

【0004】

このような背景から、特許文献１（特開２００９−２９５７６５号公報）には、シラノール類を、水酸基が存在する繊維状無機化合物に接触させて、該繊維状無機化合物に化学結合でシラノール類を捕集除去する基体の浄化方法が開示されている。

【0005】

また、特許文献２（特開２０１１−１６６０８５号公報）には、多孔質体から構成される多数の吸着剤を備え、前記多数の吸着剤の少なくとも一部は、金属触媒（白金又はパラジウム）が担持されているケミカルフィルタが開示されている。該ケミカルフィルタでは、金属触媒が担持されているフィルタ部で、シラノール化合物を二量化し、その二量体を金属触媒が担持されていないフィルタ部で吸着させる方法が採用されている。

【0006】

また、特許文献３（特開２０１２−３０１６４号公報）には、シラノール化合物を含む空気を減湿して相対湿度３３％以下とする減湿手段と、前記減湿手段で減湿された空気をろ過して、前記シラノール化合物を除去するケミカルフィルタとを備えることを特徴とする空気浄化システムが開示されている。

【0007】

なお、半導体製造用の露光装置の光学系空間の空気や、半導体製造用のクリーンルーム内の空気は、通常、相対湿度が３０〜５５％に調節されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【特許文献1】特開２００９−２９５７６５号公報（特許請求の範囲）

【特許文献2】特開２０１１−１６６０８５号公報（特許請求の範囲）

【特許文献3】特開２０１２−３０１６４号公報（特許請求の範囲）

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

ところが、引用文献１では、無機状繊維化合物の表面温度を７０〜３００℃に保持する機構が必要であり、温湿度が極めて精密に制御されている露光装置等に搭載するには、現実的ではなく、また、コスト高になってしまう。

【0010】

また、引用文献２では、高価な金属触媒が使用されていること、金属触媒が担持されている部分と、シラノール化合物の二量体を吸着させる部分とが必要となるため、フィルタ層が厚くなってしまい、経済的ではない。

【0011】

また、引用文献３では、減湿を行うための除湿装置が必要になるため、コスト高になってしまう。

【0012】

従って、本発明の課題は、被処理空気中のシラノール化合物の除去効果が高いシラノール化合物の除去方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0013】

本発明者らは、上記従来技術における課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、（１）シラノール化合物、特に、トリメチルシラノールを、含酸素官能基が導入されている活性炭に接触させることにより、含酸素官能基の作用で、シラノール化合物を二量化させることができ、そして、シラノール化合物を二量化させることにより、活性炭に吸着され易くすることができること、活性炭中の含酸素官能基の量を０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上と多くすることにより、シラノール化合物、特に、トリメチルシラノール化合物の除去効果が高くなること、（２）ところが、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上の含酸素官能基を有する活性炭で、細孔径が小さいマイクロ孔を多く有するものは、被処理空気の相対湿度が４５％程度以下だと、高いシラノール化合物の除去効果を示すが、被処理空気の相対湿度が５０〜５５％程度になると、４５％程度以下の場合に比べ、シラノール化合物の除去効果が低くなってしまうこと、そして、（３）０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上の含酸素官能基を有する活性炭の細孔径分布を調節し、細孔径が大きなマイクロ孔を多くすることにより、被処理空気の相対湿度が５０〜５５％程度であっても、４５％程度以下の場合と比べたときのシラノール化合物の除去性能の低下を小さくすることができること等を見出し、本発明を完成させるに至った。

【0014】

すなわち、本発明（１）は、含酸素官能基を有する活性炭であり、該含酸素官能基を有する活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある含酸素官能基を有する活性炭に、シラノール化合物を含有する被処理空気を接触させて、シラノール化合物を二量化させ、生成した該シラノール化合物の二量体を、該含酸素官能基を有する活性炭に吸着させることにより、該被処理空気中の該シラノール化合物を除去することを特徴とするシラノール化合物の除去方法を提供するものである。

【0015】

また、本発明（２）は、含酸素官能基を有する活性炭であり、該含酸素官能基を有する活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある含酸素官能基を有する活性炭が用いられていることを特徴とする本発明（１）のシラノール化合物の除去方法を実施するためのケミカルフィルタを提供するものである。

【0016】

また、本発明（３）は、本発明（２）のケミカルフィルタを有することを特徴とする露光装置を提供するものである。

【発明の効果】

【0017】

本発明によれば、被処理空気中のシラノール化合物の除去効果が高いシラノール化合物の除去方法を提供することができる。また、本発明によれば、被処理空気中のシラノール化合物の除去効果が高いケミカルフィルタを提供することができる。また、本発明によれば、トリメチルシラノールの露光レンズへの付着による露光障害が少ない露光装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】活性炭の微分細孔容積分布を示す模式的なグラフである。

【図2】実施例で用いたトリメチルシラノール除去試験装置を示す図である。

【図3】実施例及び比較例の９０％除去寿命と被処理空気の相対湿度の関係を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0019】

本発明のシラノール化合物の除去方法は、含酸素官能基を有する活性炭であり、該含酸素官能基を有する活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある含酸素官能基を有する活性炭に、シラノール化合物を含有する被処理空気を接触させて、シラノール化合物を二量化させ、生成した該シラノール化合物の二量体を、該含酸素官能基を有する活性炭に吸着させることにより、該被処理空気中の該シラノール化合物を除去することを特徴とするシラノール化合物の除去方法である。

【0020】

本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭は、含酸素官能基が導入されている活性炭である。つまり、含酸素官能基を有する活性炭とは、活性炭の炭素原子に、含酸素官能基が結合している活性炭である。言い換えると、本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭は、酸化処理された活性炭であり、酸化処理により含酸素官能基が導入された活性炭である。

【0021】

含酸素官能基としては、カルボニル基、水酸基、ラクトン基、カルボキシル基、キノン基、無水カルボン酸基等が挙げられる。そして、含酸素官能基を有する活性炭は、含酸素官能基として、少なくとも、カルボニル基、水酸基、ラクトン基及びカルボキシル基のうちの１種又は２種以上を有することが好ましく、少なくとも、カルボニル基、水酸基、ラクトン基及びカルボキシル基を有することが特に好ましい。

【0022】

含酸素官能基を有する活性炭の１ｇ当たりの含酸素官能基の量は、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上、好ましくは０．８〜３．０ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは１．０〜２．５ｍｍｏｌ／ｇである。含酸素官能基を有する活性炭の１ｇ当たりの含酸素官能基の量が、上記範囲にあることにより、シラノール化合物の除去効果が高くなる。

【0023】

なお、含酸素官能基を有する活性炭の１ｇ当たりの含酸素官能基の量及び各官能基の量は、以下のようにして求められる。先ず、含酸素官能基を有する活性炭を、１１５℃に調節した恒温乾燥器で８〜１０時間真空乾燥後、乾燥剤としてシリカゲルを入れたデシケータ中で放冷する。次いで、４個の５０ｍｌ共栓三角フラスコ（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）を用意し、各三角フラスコに、冷却した活性炭１ｇを０．１ｍｇまで正確に量り取る。次いで、三角フラスコ（Ｄ）にＮ／１０炭酸水素ナトリウム水溶液を、三角フラスコ（Ｃ）にＮ／１０炭酸ナトリウム水溶液を、三角フラスコ（Ｂ）にＮ／１０水酸化ナトリウム水溶液を、三角フラスコ（Ａ）にＮ／１０ナトリウムエトキシドエタノール溶液を、２５ｍｌ加え、１６０ｒｐｍ、２５℃にて２４時間振盪する。振盪後、遠心分離にて上澄みと沈殿に分離し、上澄み液１０ｍｌを２０ｍｌビーカーに正確に量り、ｐＨ計を用いてｐＨが４になるまで、Ｎ／１０塩酸で滴定する。次いで、塩酸滴定量から、次式により、活性炭１ｇ当たりの各塩基の消費量を算出する。
塩基消費量（ｍｍｏｌ／ｇ）＝（０．１×（１０−ＨＣｌ滴定量）×２５）／１０
滴定の結果、炭酸水素ナトリウムの消費量がＤ（ｍｍｏｌ／ｇ）、炭酸ナトリウムの消費量がＣ（ｍｍｏｌ／ｇ）、水酸化ナトリウムの消費量がＢ（ｍｍｏｌ／ｇ）、ナトリウムエトキシドの消費量がＡ（ｍｍｏｌ／ｇ）であった場合、活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量は「Ａ（ｍｍｏｌ／ｇ）」であり、また、カルボニル基の量は「Ａ−Ｂ（ｍｍｏｌ／ｇ）」、水酸基の量は「Ｂ−Ｃ（ｍｍｏｌ／ｇ）」、ラクトン基の量は「Ｃ−Ｄ（ｍｍｏｌ／ｇ）」、カルボキシル基の量は「Ｄ（ｍｍｏｌ／ｇ）」となる。

【0024】

本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭は、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが、０．８〜１．１ｎｍ、好ましくは０．９〜１．０ｎｍにある。含酸素官能基を有する活性炭の微分細孔容積分布におけるマイクロ孔のピークのピークトップが上記範囲にあることにより、シラノール化合物の除去効果が高く、且つ、被被処理空気の相対湿度が５０〜５５％であっても、４５％程度以下の場合と比べたときのシラノール化合物の除去効果の低下を小さくすることができるという効果を奏する。

【0025】

窒素吸着等温線とは、窒素ガス吸着法により、材料を一定温度にし、圧力と吸着量の変化を測定したものである。ＭＰ法とは、吸着剤（多孔質炭素材料）に窒素を吸着させることにより、吸着等温線を求め、そして、この吸着等温線を吸着層の厚さｔに対する細孔容積に変換し（ｔプロットする）、そして、このプロットの曲率（吸着層の厚さｔの変化量に対する細孔容積の変化量）に基づき細孔分布曲線を得るものである。窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布とは、窒素吸着等温線からＭＰ法により算出される細孔径とその体積の関係を示すものであり、図１に示すように、横軸に細孔径（ｎｍ）を、縦軸にｄＶ／ｄＤ（細孔径Ｄ（ｎｍ）の変化量に対する細孔容積Ｖ（ｃｍ^３／ｇ）の変化割合）をプロットして得られる細孔容積に関する分布図である。なお、図１は、活性炭の微分細孔容積分布を示す模式的なグラフである。

【0026】

そして、微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにあるとは、微分細孔容積分布図のマイクロ孔の範囲に見られるピークのピークトップの位置が、０．８〜１．１ｎｍの範囲にあることを指す。なお、マイクロ孔とは、細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔を指す。よって、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある活性炭では、マイクロ孔である０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔について、窒素吸着等温線からＭＰ法により、細孔径に対するｄＶ／ｄＤの値を求めたときに、ｄＶ／ｄＤの最大値となるときの細孔径の値が、０．８〜１．１ｎｍの範囲にある。

【0027】

図１中、符号Ｘの微分細孔容積分布は、０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の範囲では、細孔径が０．９ｎｍの位置にピークトップがある。よって、符号Ｘの微分細孔容積分布を有する活性炭では、微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．９ｎｍにある。また、図１中、符号Ｙの微分細孔容積分布は、０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の範囲では、細孔径が０．７ｎｍの位置にピークトップがある。よって、符号Ｙの微分細孔容積分布を有する活性炭では、微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．７ｎｍにある。

【0028】

本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭は、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合（（細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の総和（ｃｍ^３／ｇ）／細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積の総和（ｃｍ^３／ｇ））×１００）が、好ましくは７０〜１００％、特に好ましくは８０〜１００％、更に好ましくは９０〜１００％である。含酸素官能基を有する活性炭の微分細孔容積分布における細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合が上記範囲にあることにより、シラノール化合物の除去効果が高く、且つ、被処理空気の相対湿度が５０〜５５％であっても、４５％程度以下の場合と比べたときのシラノール化合物の除去効果の低下を小さくすることができるという効果が高まる。

【0029】

本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭のＢＥＴ比表面積は、好ましくは１７００ｍ^２／ｇ以上、特に好ましくは１９００〜２６００ｍ^２／ｇである。含酸素官能基を有する活性炭のＢＥＴ比表面積が上記範囲にあることにより、シラノール化合物の除去効果が高く、且つ、被処理空気の相対湿度が５０〜５５％であっても、４５％程度以下の場合と比べたときのシラノール化合物の除去効果の低下を小さくすることができるという効果が高まる。

【0030】

本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭のマイクロ孔容積は、好ましくは１．０ｃｍ^３／ｇ以上、特に好ましくは１．０５〜１．２５ｃｍ^３／ｇである。なお、マイクロ孔容積とは、細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積の総和を指す。含酸素官能基を有する活性炭のマイクロ孔容積が上記範囲にあることにより、シラノール化合物の除去効果が高く、且つ、被処理空気の相対湿度が５０〜５５％であっても、４５％程度以下の場合と比べたときのシラノール化合物の除去効果の低下を小さくすることができるという効果が高まる。

【0031】

本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭は、マイクロ孔以外に、細孔径が２ｎｍを超え５０ｎｍ以下であるメソ孔、及び細孔径が５０ｎｍを超えるマクロ孔を有する。

【0032】

含酸素官能基を有する活性炭を製造する方法としては、活性炭を気相又は液相で酸化する方法が挙げられる。

【0033】

含酸素官能基を有する活性炭の製造の原料となる活性炭としては、特に制限されないが、ヤシ殻系活性炭、木質炭系活性炭、ピッチ系活性炭、フェノール樹脂系活性炭が挙げられる。原料活性炭の物性又は性状は、製造目的とする含酸素官能基を有する活性炭の物性又は性状に合わせて、適宜選択される。

【0034】

活性炭を気相で酸化する方法としては、活性炭を、オゾンガスで酸化する方法、塩素ガスで酸化する方法、空気中で加熱することにより空気酸化する方法、酸素処理と窒素酸化物処理の併用、酸素ガス又は空気による低温プラズマ処理等が挙げられる。

【0035】

また、活性炭を液相で酸化する方法としては、活性炭を、オゾン水溶液、硝酸水溶液、過酸化水素水溶液、硫酸溶液、塩素酸溶液、ヨウ素酸溶液、次亜塩素酸溶液、臭素水溶液、過マンガン酸カリウム溶液等に浸漬する方法が挙げられる。液相での活性炭の酸化を行った後は、酸化処理された活性炭を、純水で十分に洗浄し、８０〜１２０℃程度で乾燥する。

【0036】

活性炭の酸化条件は、適宜選択されるが、活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上となる条件、好ましくは０．８〜３．０ｍｍｏｌ／ｇとなる条件、特に好ましくは１．０〜２．５ｍｍｏｌ／ｇとなる条件が選択される。

【0037】

そして、活性炭を酸化することにより、活性炭の炭素の一部が酸化されて、含酸素官能基へと変換され、含酸素官能基を有する活性炭が得られる。

【0038】

本発明のシラノール化合物の除去方法では、含酸素官能基を有する活性炭には、シラノール化合物を含有する被処理空気を接触させる。

【0039】

被処理空気は、特に制限されないが、例えば、半導体製造用の露光装置の光学系設置空間の空気等のシラノール化合物を含有する空気である。

【0040】

被処理空気に含有されているシラノール化合物は、シラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）を有する化合物である。シラノール化合物としては、分子量が３００以下のシラノール化合物が好ましく、分子量が２００以下のシラノール化合物が特に好ましい。更に好ましくは、シラノール化合物としては、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール等が挙げられる。そして、本発明のシラノール化合物の除去方法では、被処理空気がトリメチルシラノールを含有する場合に、特に顕著な効果を奏する。

【0041】

被処理空気中のシラノール化合物の含有量は、特に制限されないが、例えば、半導体製造用の露光装置の光学系設置空間の空気の場合、通常、０．３〜８．０ｐｐｂである。

【0042】

含酸素官能基を有する活性炭に被処理空気を接触させる方法としては、特に制限されず、例えば、含酸素官能基を有する活性炭を充填容器に充填して、含酸素官能基を有する活性炭層を形成し、その活性炭層に被処理空気を通過させる方法、含酸素官能基を有する活性炭を担体に担持し、その担体内に被処理空気を通過させる方法等が挙げられる。

【0043】

含酸素官能基を有する活性炭に被処理空気を接触させるときの温度は、５〜４０℃、好ましくは１０〜３０℃である。

【0044】

含酸素官能基を有する活性炭に被処理空気を接触させるときの被処理空気の供給は、被処理空気中のシラノール化合物の含有量、含酸素官能基を有する活性炭の使用量等により、適宜選択される。

【0045】

本発明のシラノール化合物の除去方法では、含酸素官能基を有する活性炭にシラノール化合物を含有する被処理空気を接触させることにより、下記式（１）に示すように、含酸素官能基を有する活性炭中の含酸素官能基の酸素原子の非共有電子対と、シラノール化合物中のシラノール基の水素原子とが結合し、次いで、近隣に存在している含酸素官能基の酸素原子の非共有電子対にシラノール基の水素原子が結合している２つのシラノール化合物が、脱水縮合して、二量化するものと考えられる。二量化反応は、「２Ｒ_３ＳｉＯＨ→Ｒ_３ＳｉＯＳｉＲ_３＋Ｈ_２Ｏ」である。
式（１）：

【0046】

【化1】

【0047】

本発明者らは、活性炭に導入されている含酸素官能基の作用により、５〜４０℃、好ましくは１０〜３０℃の低温でも、シラノール化合物の二量化が起こること、及びシラノール化合物を二量化することにより、除去対象物の分子量を大きくすることができるので、活性炭に吸着され易くすることができること、活性炭中の含酸素官能基の量を特定の範囲とすることにより、シラノール化合物の除去効果が高くなることを見出した。そして、含酸素官能基を有する活性炭の１ｇ当たりの含酸素官能基の量を、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上、好ましくは０．８〜３．０ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは１．０〜２．５ｍｍｏｌ／ｇとすることにより、シラノール化合物の除去効果が高くなることを見出した。そのため、本発明のシラノール化合物の除去方法によれば、従来、分子量が小さいために、活性炭では吸着除去し難いと考えられていたトリメチルシラノール等の低分子量のシラノール化合物であっても、活性炭に吸着させて除去することができる。また、本発明のシラノール化合物の除去方法によれば、５〜４０℃、好ましくは１０〜３０℃と低温で、被処理空気中のシラノール化合物の除去を行うことができる。

【0048】

更に、本発明者らは、含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上、好ましくは０．８〜３．０ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは１．０〜２．５ｍｍｏｌ／ｇである含酸素官能基を有する活性炭であっても、細孔径が小さいマイクロ孔を多く有する活性炭は、被処理空気の相対湿度が５０〜５５％になると、４５％程度以下の場合に比べ、シラノール化合物の除去性能が低くなってしまうことを見出した。そして、相対湿度と活性炭の水分吸着量との関係について検討を重ねたところ、微分細孔容積分布におけるマイクロ孔のピークのピークトップが０．８ｎｍ未満にある活性炭は、相対湿度を低湿度から高湿度に変化させた場合、相対湿度が４５％程度以下では、空気中の水分を殆ど吸収しないが、相対湿度が４５％程度より高くなると水分を吸収し始め、相対湿度が５０％程度より高くなると水分の吸収量が多くなること、それに対して、微分細孔容積分布におけるマイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある活性炭は、相対湿度を低湿度から高湿度に変化させた場合、相対湿度が５５％程度以下では、空気中の水分を殆ど吸収せず、水分を吸収し始めるのは相対湿度５５％程度より高くなったときであり、水分の吸収量が多くなり始めるのは相対湿度６０％程度より高くなったときであることを見出した。これらのことから、１ｇ当たりの含酸素官能基の量が、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上、好ましくは０．８〜３．０ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは１．０〜２．５ｍｍｏｌ／ｇである含酸素官能基を有する活性炭について、その細孔分布を調節して、微分細孔容積分布におけるマイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにあるようにすることにより、被処理空気の相対湿度が４５％より高く５５％以下であっても、更には、５０〜５５％であっても、４５％以下の場合と比べたときのシラノール化合物の除去性能の低下を小さくすることができることを見出した。

【0049】

このことから、本発明のシラノール化合物の除去方法では、被処理空気の相対湿度を４５％より高く５５％以下としても、更に、５０〜５５％としても、相対湿度を４５％以下とした場合と比べたときのシラノール化合物の除去効果の低下が小さく、シラノール化合物の除去効果が高いという効果を示す。そのため、被処理空気の相対湿度が４５％より高く５５％以下である場合、更に、５０〜５５％である場合には、本発明のシラノール化合物の除去方法は、含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ未満である含酸素官能基を有する活性炭を用いるシラノール化合物の除去方法に比べ、シラノール化合物の除去効果が高くなるという効果を有する。そして、更に、含酸素官能基を有する活性炭の微分細孔容積分布における細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合を上記範囲とすること、含酸素官能基を有する活性炭のＢＥＴ比表面積を上記範囲とすること、含酸素官能基を有する活性炭のマイクロ孔容積を上記範囲とすること等により、効果が高くなる。

【0050】

また、本発明のシラノール化合物の除去方法では、被処理空気の相対湿度を４５％より高く５５％以下としても、更に、５０〜５５％としても、相対湿度を４５％以下とした場合と比べたときのシラノール化合物の除去性能の低下を小さくすることができるので、被処理空気の相対湿度が３０〜５５％の範囲で、シラノール化合物の除去効果が高く且つ安定しているという効果を有する。そして、更に、含酸素官能基を有する活性炭の微分細孔容積分布における細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合を上記範囲とすること、含酸素官能基を有する活性炭のＢＥＴ比表面積を上記範囲とすること、含酸素官能基を有する活性炭のマイクロ孔容積を上記範囲とすること等により、効果が高くなる。

【0051】

なお、本発明のシラノール化合物の除去方法は、被処理空気の相対湿度が４５％以下である場合にも、含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ未満である含酸素官能基を有する活性炭を用いるシラノール化合物の除去方法に比べ、シラノール化合物の除去効果が高くなるという効果を有する。そして、更に、含酸素官能基を有する活性炭の微分細孔容積分布における細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合を上記範囲とすること、含酸素官能基を有する活性炭のＢＥＴ比表面積を上記範囲とすること、含酸素官能基を有する活性炭のマイクロ孔容積を上記範囲とすること等により、効果が高くなる。

【0052】

本発明のケミカルフィルタは、本発明のシラノール化合物の除去方法を実施するためのケミカルフィルタであり、含酸素官能基を有する活性炭であり、該含酸素官能基を有する活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある含酸素官能基を有する活性炭が用いられていることを特徴とするケミカルフィルタである。

【0053】

本発明のケミカルフィルタに係る含酸素官能基を有する活性炭は、本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭と同様である。つまり、本発明のケミカルフィルタは、本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭が用いられている。

【0054】

本発明のケミカルフィルタとしては、含酸素官能基を有する活性炭であり、該含酸素官能基を有する活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある含酸素官能基を有する活性炭が、通気性を有する充填容器に充填され、活性炭層が形成されているケミカルフィルタが挙げられる。

【0055】

また、本発明のケミカルフィルタとしては、含酸素官能基を有する活性炭であり、該含酸素官能基を有する活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、窒素吸着等温線からＭＰ法により求められる微分細孔容積分布において、マイクロ孔のピークのピークトップが０．８〜１．１ｎｍにある含酸素官能基を有する活性炭が、担体に担持されているケミカルフィルタが挙げられる。

【0056】

担体に含酸素官能基を有する活性炭が担持されている本発明のケミカルフィルタにおいて、含酸素官能基を有する活性炭が担持される担体としては、特に制限されず、ケミカルフィルタの担体として用いられるものであればよく、例えば、無機繊維で構成される無機繊維質基材（ペーパー）をハニカム構造やプリーツ構造に成形した無機繊維質担体、有機繊維で構成される有機繊維質基材（ペーパー）をハニカム構造やプリーツ構造に成形した有機繊維質担体等が挙げられる。これらのうち、担体としては、プリーツ構造が、単位体積あたりの活性炭量を増やせること、低圧力損失であることから、好ましい。

【0057】

担体に含酸素官能基を有する活性炭が担持されている本発明のケミカルフィルタでは、含酸素官能基を有する活性炭の担持方法は特に制限されない。例えば、担体に含酸素官能基を有する活性炭が担持されている本発明のケミカルフィルタにおいて、含酸素官能基を有する活性炭は、担体にバインダーを用いて担持されていてもよいし、また、無機繊維質又は有機繊維質のシートにより、含酸素官能基を有する活性炭が挟み込むまれることにより、担持されていてもよい。

【0058】

そして、本発明のケミカルフィルタ内に、シラノール化合物を含有する被処理空気、例えば、半導体製造用の露光装置の光学系設置空間の空気を導入し、ケミカルフィルタ内に被処理空気を通過させて、担体に担持されている含酸素官能基を有する活性炭に、被処理空気を接触させることにより、本発明のケミカルフィルタを用いて、本発明のシラノール化合物の除去方法を実施することができる。

【0059】

上述したように、本発明のシラノール化合物の除去方法に係る含酸素官能基を有する活性炭は、被処理空気の相対湿度が４５％より高く５５％以下、更には、５０〜５５％であっても、相対湿度が４５％以下である場合と比べたときのシラノール化合物の除去性能の低下が小さく、シラノール化合物の除去性能が高いので、そのような活性炭が用いられている本発明のケミカルフィルタは、被処理空気の相対湿度が４５％より高く５５％以下である場合、更に、５０〜５５％である場合に、含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ未満である含酸素官能基を有する活性炭を用いるケミカルフィルタに比べ、シラノール化合物の除去性能が高くなるという効果を有する。また、本発明のケミカルフィルタは、被処理空気の相対湿度が３０〜５５％の範囲で、シラノール化合物の除去性能が高く且つ安定しているという効果を有する。また、本発明のケミカルフィルタは、被処理空気の相対湿度が４５％以下である場合にも、含酸素官能基の量が０．５ｍｍｏｌ／ｇ未満である含酸素官能基を有する活性炭を用いるケミカルフィルタに比べ、シラノール化合物の除去性能が高くなるという効果を有する。

【0060】

本発明の露光装置は、本発明のケミカルフィルタを有する露光装置である。

【0061】

本発明の露光装置に係るケミカルフィルタは、本発明のケミカルフィルタと同様である。

【0062】

本発明の露光装置の構造は、特に制限されず、通常、半導体の製造に用いられている露光装置であればよい。

【0063】

本発明の露光装置には、光学系部材と露光対象物が設置され外部空気とは遮断可能な光学系設置空間が設けられている。また、本発明の露光装置は、光学系設置空間内の空気を抜き出し、再び、光学系設置空間内に戻す光学系設置空間内の空気の循環経路と、クリーンルーム内の空気を光学系設置空間内に取り込む外部空気取り込み経路と、を有する。そして、本発明の露光装置では、循環経路中及び外部空気取り込み経路中のそれぞれに、本発明のケミカルフィルタが設置される。

【0064】

本発明の露光装置は、リレーレンズ系、コンデンサーレンズ系及び投影光学系レンズ（以下、光学系部材とも記載する。）並びに露光対象物の設置部を有する。そして、本発明の露光装置では、外部空気とは遮断可能な小室内に、光学系部材及び露光対象物が設置されることにより、光学系部材及び露光対象物が設置される設置部の空間（以下、光学系設置空間とも記載する。）は、外部空気とは遮断されている。

【0065】

本発明の露光装置は、光学系設置空間内の空気を抜き出し、再び、光学系設置空間内に戻す光学系設置空間内の空気の循環経路と、クリーンルーム内の空気を光学系設置空間内に取り込む外部空気取り込み経路と、を有し、その循環経路中と外部空気取り込み経路中のそれぞれに、本発明のケミカルフィルタが設置されている。そして、本発明の露光装置では、循環経路において、光学系設置空間から抜き出された光学系設置空間内の空気が、循環経路内に設置されているケミカルフィルタを通過することにより、抜き出された光学系設置空間内の空気中のシラノール化合物、特に、トリメチルシラノールが除去される。トリメチルシラノール等のシラノール化合物が除去された空気は、再び、光学系設置空間に戻される。また、本発明の露光装置では、外部空気取り込み経路において、クリーンルームから取り込こまれる空気が、外部空気取り込み経路内に設置されているケミカルフィルタを通過することにより、取り込まれたクリーンルーム内の空気中のシラノール化合物、特に、トリメチルシラノールが除去される。トリメチルシラノール等のシラノール化合物が除去された空気は、光学系設置空間に供給される。

【実施例】

【0066】

（分析方法及び評価方法）
＜含酸素官能基量の測定方法＞
測定対象の活性炭を、１１５℃に調節した恒温乾燥器で８〜１０時間真空乾燥後、乾燥剤としてシリカゲルを入れたデシケータ中で放冷した。次いで、４個の５０ｍｌ共栓三角フラスコ（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）を用意し、各三角フラスコに、冷却した活性炭１ｇを０．１ｍｇまで正確に量り取った。次いで、三角フラスコ（Ｄ）にＮ／１０炭酸水素ナトリウム水溶液を、三角フラスコ（Ｃ）にＮ／１０炭酸ナトリウム水溶液を、三角フラスコ（Ｂ）にＮ／１０水酸化ナトリウム水溶液を、三角フラスコ（Ａ）にＮ／１０ナトリウムエトキシドエタノール溶液を、２５ｍｌ加え、１６０ｒｐｍ、２５℃にて２４時間振盪した。振盪後、遠心分離にて上澄みと沈殿に分離し、上澄み液１０ｍｌを２０ｍｌビーカーに正確に量り、ｐＨ計を用いてｐＨが４になるまで、Ｎ／１０塩酸で滴定した。次いで、塩酸滴定量から、次式により、活性炭１ｇ当たりの各塩基の消費量を算出した。
塩基消費量（ｍｍｏｌ／ｇ）＝（０．１×（１０−ＨＣｌ滴定量）×２５）／１０
炭酸水素ナトリウムの消費量がＤ（ｍｍｏｌ／ｇ）、炭酸ナトリウムの消費量がＣ（ｍｍｏｌ／ｇ）、水酸化ナトリウム水溶液の消費量がＢ（ｍｍｏｌ／ｇ）、ナトリウムエトキシドの消費量がＡ（ｍｍｏｌ／ｇ）であった場合、活性炭１ｇ当たりの含酸素官能基量は「Ａ（ｍｍｏｌ／ｇ）」であり、また、カルボニル基の量は「Ａ−Ｂ（ｍｍｏｌ／ｇ）」、水酸基の量は「Ｂ−Ｃ（ｍｍｏｌ／ｇ）」、ラクトン基の量は「Ｃ−Ｄ（ｍｍｏｌ／ｇ）」、カルボキシル基の量は「Ｄ（ｍｍｏｌ／ｇ）」である。

【0067】

＜微分細孔容積分布の測定＞
測定対象の活性炭を、日本ベル株式会社製ベルソープｍｉｎｉで測定し、窒素吸着等温線を求めた。次いで、得られた窒素吸着等温線からＭＰ法により、微分細孔容積分布を求めた。

【0068】

＜トリメチルシラノールの除去試験＞
図１に示すように、内径２０ｍｍ、長さ３００ｍｍの中空ガラス管２内に、支持部材４で試験試料を挟み込むようにして、厚さ５ｍｍ又は７ｍｍ（被処理空気の通気方向の長さ）の試験試料層（活性炭層）３を形成させて、トリメチルシラノール除去試験装置１を作製した。
次いで、１５０ｐｐｂのトリメチルシラノール含有空気（温度：２３℃、所定の相対湿度）を、ガス入口２１から供給し、ガス出口２２から排出して、試験試料層３に被処理空気を風速０．３ｍ／秒で通気した。所定時間が経過する毎に、通気時のガス入口２１側のトリメチルシラノール含有空気と、ガス出口２２側のトリメチルシラノール含有空気を、専用の分析用炭素系吸着管にて捕集し、ガスクロマトグラフ質量分析計を用いて分析し、各捕集空気のトリメチルシラノール濃度を分析した。下記式により、各経時時間のトリメチルシラノール除去率を求めた。
トリメチルシラノール除去率（％）＝（（入口側のトリメチルシラノール濃度−出口側のトリメチルシラノール濃度）／入口側のトリメチルシラノール濃度）×１００

【0069】

＜９０％除去寿命＞
上記トリメチルシラノールの除去試験で求めたトリメチルシラノールの除去率の経時変化から、トリメチルシラノールの除去率が９０％に達する時間を、９０％除去寿命（時間）とした。

【0070】

（実施例１）
破砕形状の平均粒径が３２／６０メッシュ（０．２５〜０．５０ｍｍ）、比表面積が２４００ｍ^２／ｇである活性炭ａ ２０ｇを、１％オゾン雰囲気に８時間曝露して、酸化を行った。得られた含酸素官能基を有する活性炭Ａの含酸素官能基量を測定したところ、含酸素官能基量は１．２５ｍｍｏｌ／ｇ、カルボニル基量は０．４１ｍｍｏｌ／ｇ、水酸基量は０．４５ｍｍｏｌ／ｇ、ラクトン基量は０．２３ｍｍｏｌ／ｇ、カルボキシル基量は０．１６ｍｍｏｌ／ｇであった。また、含酸素官能基を有する活性炭Ａの微分細孔容積分布を求めたところ、マイクロ孔のピークのピークトップの位置は、０．９ｎｍであり、細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合は、９４％であった。また、含酸素官能基を有する活性炭Ａの比表面積は２４００ｍ^２／ｇであり、細孔径０ｎｍより大きく２ｎｍ以下のマイクロ孔容積は１．１２ｃｍ^３／ｇであった。
次いで、図１に示すトリメチルシラノール除去試験装置１に、含酸素官能基を有する活性炭Ａを充填し、１５０ｐｐｂのトリメチルシラノール含有空気として、温度が２３℃、相対湿度が表１に示す相対湿度の１５０ｐｐｂのトリメチルシラノール含有空気を用いて、トリメチルシラノールの除去試験を行った。その結果を表１に示す。

【0071】

【表1】

【0072】

（比較例１）
破砕形状の平均粒径が３２／６０メッシュ（０．２５〜０．５０ｍｍ）、比表面積が１５００ｍ^２／ｇである活性炭ｂ ２０ｇを、１％オゾン雰囲気に８時間曝露して、酸化を行った。得られた含酸素官能基を有する活性炭ｃの含酸素官能基量を測定したところ、含酸素官能基量は１．５７ｍｍｏｌ／ｇ、カルボニル基量は０．３５ｍｍｏｌ／ｇ、水酸基量は０．５９ｍｍｏｌ／ｇ、ラクトン基量は０．３３ｍｍｏｌ／ｇ、カルボキシル基量は０．３０ｍｍｏｌ／ｇであった。また、含酸素官能基を有する活性炭ｃの微分細孔容積分布を求めたところ、マイクロ孔のピークのピークトップの位置は、０．７ｎｍであり、細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合は、４３％であった。また、含酸素官能基を有する活性炭ｃの比表面積は１５００ｍ^２／ｇであり、細孔径０ｎｍより大きく２ｎｍ以下のマイクロ孔容積は０．６５ｃｍ^３／ｇであった。
次いで、図１に示すトリメチルシラノール除去試験装置１に、含酸素官能基を有する活性炭ｃを充填し、１５０ｐｐｂのトリメチルシラノール含有空気として、温度が２３℃、相対湿度が表２に示す相対湿度の１５０ｐｐｂのトリメチルシラノール含有空気を用いて、トリメチルシラノールの除去試験を行った。その結果を表２に示す。

【0073】

【表2】

【0074】

（比較例２）
破砕形状の平均粒径が３２／６０メッシュ（０．２５〜０．５０ｍｍ）、比表面積が１５００ｍ^２／ｇである活性炭ｂの含酸素官能基量を測定したところ、含酸素官能基量は０．３９ｍｍｏｌ／ｇ、カルボニル基量は０．１４ｍｍｏｌ／ｇ、水酸基量は０．２０ｍｍｏｌ／ｇ、ラクトン基量は０．０２ｍｍｏｌ／ｇ、カルボキシル基量は０．０３ｍｍｏｌ／ｇであった。また、活性炭ｂの微分細孔容積分布を求めたところ、マイクロ孔のピークのピークトップの位置は、０．７ｎｍであり、細孔径が０ｎｍより大きく２ｎｍ以下の細孔の細孔容積に対する細孔径が０．７〜１．２ｎｍの細孔の細孔容積の割合は、４３％であった。また、活性炭ｂの比表面積は１５００ｍ^２／ｇであり、細孔径０ｎｍより大きく２ｎｍ以下のマイクロ孔容積は０．６５ｃｍ^３／ｇであった。
次いで、図１に示すトリメチルシラノール除去試験装置１に、含酸素官能基を有する活性炭ｂを充填し、１５０ｐｐｂのトリメチルシラノール含有空気として、温度が２３℃、相対湿度が表３に示す相対湿度の１５０ｐｐｂのトリメチルシラノール含有空気を用いて、トリメチルシラノールの除去試験を行った。その結果を表３に示す。

【0075】

【表3】

【0076】

実施例１、比較例１及び比較例２の活性炭の９０％除去寿命と被処理空気の相対湿度の関係を、図３に示す。この結果から分かるように、実施例１の活性炭Ａは、相対湿度が３５〜５５％の全範囲で、比較例２の活性炭ｂに比べ、除去寿命特性が高くなり、また、相対湿度５０〜５５％での除去寿命特性は、相対湿度が４５％以下の場合と比べたときの除去寿命特性の低下が小さく、相対湿度が３５〜５５％で安定した除去性能を有することが分かった。一方、比較例１の活性炭ｃは、相対湿度が４５％以下だと、比較例２の活性炭ｂに比べ、非常に高い除去寿命特性を示すものの、相対湿度が５０％以上になると、相対湿度が４５％以下の場合に比べて、除去寿命特性が大きく低下し、相対湿度が５５％の場合には、比較例２の活性体ｂよりも除去寿命特性が低くなってしまった。

【0077】

（シラノール化合物の二量体の吸着量の分析）
実施例１−Ａ、比較例１−Ｂ及び比較例２−Ｂにおいて、トリメチルシラノール除去試験を行った後の活性炭（実施例１では２１７．３時間試験後のもの、比較例１では２３４．１時間試験後のもの、比較例２では９９．３時間試験後のもの）を、それぞれ、バイアル瓶に０．１ｇ採取した。次いで、バイアル瓶に、ジクロロメタン２ｍＬを加えてから振とうし、抽出を行った。次いで、抽出液を、ＧＣ−ＭＳにて定量分析し、活性炭に吸着されていた物質中のトリメチルシラノールとトリメチルシラノールの二量体の比率を求めた。その結果、実施例１−Ａでは、トリメチルシラノールが５質量％、トリメチルシラノールの二量体が９５質量％であった。また、比較例１−Ｂでは、トリメチルシラノールが１２質量％、トリメチルシラノールの二量体が８８質量％であった。また、比較例２−Ｂでは、トリメチルシラノールが７６質量％、トリメチルシラノールの二量体が２４質量％であった。

【図1】

【図2】

【図3】