特許6156902リフトオフ法用レジスト剤、及び導体パターンの形成方法

発明の名称　リフトオフ法用レジスト剤、及び導体パターンの形成方法

出願人　互応化学工業株式会社　（識別番号 166683）

　　　　特許公開件数ランキング 2910 位（2件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 12424 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6156902

公報発行日　2017年7月5

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6156902

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