特許6158564半導体装置の製造方法及びハイドライド気相成長装置

発明の名称　半導体装置の製造方法及びハイドライド気相成長装置

出願人　古河機械金属株式会社　（識別番号 165974）

　　　　特許公開件数ランキング 9160 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 837 位（4件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6158564

公報発行日　2017年7月5

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6158564

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