特許6167182エックス線を利用した薄膜層の厚さ測定方法及び装置

発明の名称　エックス線を利用した薄膜層の厚さ測定方法及び装置

出願人　ナノ　シーエムエス　カンパニー　リミテッド　（識別番号 515114153）

　　　　特許公開件数ランキング 14468 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 12296 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6167182

公報発行日　2017年7月19

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6167182

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-6167182「エックス線を利用した薄膜層の厚さ測定方法及び装置」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録