特許 6172006 画像形成装置、及びプロセスカートリッジ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6172006

(24)【登録日】2017年7月14日

(45)【発行日】2017年8月2日

(54)【発明の名称】画像形成装置、及びプロセスカートリッジ

(51)【国際特許分類】

   G03G 15/16 20060101AFI20170724BHJP

   G03G 5/06 20060101ALI20170724BHJP

   G03G 5/05 20060101ALI20170724BHJP

【ＦＩ】

   G03G15/16 103

   G03G5/06 312

   G03G5/06 313

   G03G5/06 372

   G03G5/06 373

   G03G5/05 104B

   G03G5/06 314B

【請求項の数】4

【全頁数】35

(21)【出願番号】特願2014-58860(P2014-58860)

(22)【出願日】2014年3月20日

(65)【公開番号】特開2015-184369(P2015-184369A)

(43)【公開日】2015年10月22日

【審査請求日】2016年7月22日

(73)【特許権者】

【識別番号】000005496

【氏名又は名称】富士ゼロックス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001519

【氏名又は名称】特許業務法人太陽国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】坂下 博一

【審査官】 石附 直弥

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１３−２３１８６６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−１３４４１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−１８６３１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００４／００１８４４０（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０３Ｇ ５／００−５／１６

Ｇ０３Ｇ １３／０２

Ｇ０３Ｇ １３／１４−１３／１６

Ｇ０３Ｇ １５／０２

Ｇ０３Ｇ １５／１４−１５／１６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

導電性基体と前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層とを有し、前記感光層が結着樹脂とヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と下記一般式（１）で表される正孔輸送材料と下記一般式（２）で表される電子輸送材料とフェノール系酸化防止剤とを含む電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備え、
プロセス速度ＰＳ（ｍｍ／ｓ）と前記転写手段の前記電子写真感光体に対する転写電流Ｉ（μＡ）との関係が下記式（１）及び下記式（２）を満たす画像形成装置。
式（１）： ＰＳ≧１８０
式（２）： ０．３２≧Ｉ／ＰＳ≧０．２５

【化1】

（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは、各々独立に０又は１を示す。）

【化2】

（一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を示す。Ｒ^１８は、炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基を示す。）

【請求項2】

前記感光層の酸化防止剤を除く固形分に対する前記フェノール系酸化防止剤の含有量が、１質量％以上３質量％以下である請求項１に記載の画像形成装置。

【請求項3】

前記電荷発生材料に対する前記フェノール系酸化防止剤の含有量が、３０質量％以上１５０質量％以下である請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。

【請求項4】

導電性基体と前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層とを有し、前記感光層が結着樹脂とヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と下記一般式（１）で表される正孔輸送材料と下記一般式（２）で表される電子輸送材料とフェノール系酸化防止剤とを含む電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備え、
プロセス速度ＰＳ（ｍｍ／ｓ）と前記転写手段の前記電子写真感光体に対する転写電流Ｉ（μＡ）との関係が下記式（１）及び下記式（２）を満し、画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
式（１）： ＰＳ≧１８０
式（２）： ０．３２≧Ｉ／ＰＳ≧０．２５

【化3】

（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは、各々独立に０又は１を示す。）

【化4】

（一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を示す。Ｒ^１８は、炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基を示す。）

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来の電子写真方式の画像形成装置においては、帯電、露光、現像、転写のプロセスを通じて電子写真感光体の表面上に形成したトナー像を被記録媒体に転写させる。

【0003】

このような電子写真方式の画像形成装置に利用する電子写真感光体の感光層には、電荷輸送能が高められた電荷輸送材料を用いることが知られている。
例えば、特定の分子構造を持たせ、電子輸送性を向上させ、感度を高めた電子輸送材料が知られている（特許文献１〜２参照）。また、特定の分子構造を持たせ、正孔輸送性を向上させた正孔輸送材料も知られている（特許文献３参照）。その他、電荷輸送材料としては、種々の材料が知られている（特許文献４参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開平６−１２３９８１号公報

【特許文献2】特開２００５−２１５６７７号公報

【特許文献3】特開平８−２９５６５５号公報

【特許文献4】特開２００８−１５２０８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明の課題は、高転写電流で発生する転写不良の発生を抑制する画像形成装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記課題は、以下の手段により解決される。

【0007】

請求項１に係る発明は、
導電性基体と前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層とを有し、前記感光層が結着樹脂とヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と下記一般式（１）で表される正孔輸送材料と下記一般式（２）で表される電子輸送材料とフェノール系酸化防止剤とを含む電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備え、
プロセス速度ＰＳ（ｍｍ／ｓ）と転写電流Ｉ（μＡ）との関係が下記式（１）及び下記式（２）を満たす画像形成装置。
式（１）： ＰＳ≧１８０
式（２）： ０．３２≧Ｉ／ＰＳ≧０．２５

【0008】

【化1】

【0009】

（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは、各々独立に０又は１を示す。）

【0010】

【化2】

【0011】

（一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を示す。Ｒ^１８は、炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基を示す。）

【0012】

請求項２に係る発明は、
前記感光層の酸化防止剤を除く固形分に対する前記フェノール系酸化防止剤の含有量が、１質量％以上３質量％以下である請求項１に記載の画像形成装置。

【0013】

請求項３に係る発明は、
前記電荷発生材料に対する前記フェノール系酸化防止剤の含有量が、３０質量％以上１５０質量％以下である請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。

【0014】

請求項４に係る発明は、
導電性基体と前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層とを有し、前記感光層が結着樹脂とヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と下記一般式（１）で表される正孔輸送材料と下記一般式（２）で表される電子輸送材料とフェノール系酸化防止剤とを含む電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備え、
プロセス速度ＰＳ（ｍｍ／ｓ）と転写電流Ｉ（μＡ）との関係が下記式（１）及び下記式（２）を満し、画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
式（１）： ＰＳ≧１８０
式（２）： ０．３２≧Ｉ／ＰＳ≧０．２５

【0015】

【化3】

【0016】

（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは、各々独立に０又は１を示す。）

【0017】

【化4】

【0018】

（一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を示す。Ｒ^１８は、炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基を示す。）

【発明の効果】

【0019】

請求項１に係る発明によれば、単層型の感光層にフェノール系酸化防止剤を含まない場合に比べ、高転写電流で発生する転写不良の発生を抑制する画像形成装置が提供される。

【0020】

請求項２、又は３に係る発明によれば、フェノール系酸化防止剤の含有量が上記範囲外である場合に比べ、高転写電流で発生する転写不良の発生を抑制する画像形成装置が提供される。

【0021】

請求項４に係る発明によれば、単層型の感光層にフェノール系酸化防止剤を含まない場合に比べ、高転写電流で発生する転写不良の発生を抑制するプロセスカートリッジが提供される。

【図面の簡単な説明】

【0022】

【図1】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。

【図2】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。

【図3】他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。

【発明を実施するための形態】

【0023】

以下、本発明の一例である実施形態について説明する。

【0024】

＜画像形成装置＞
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。

【0025】

電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に単層型の感光層と、を有する正帯電有機感光体（以下、「単層型感光体」と称することがある）である。
そして、単層型の感光層は、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、一般式（１）で表される正孔輸送材料と、一般式（２）で表される電子輸送材料と、フェノール系酸化防止剤と、を含む。
なお、単層型の感光層とは、電荷発生能と共に、正孔輸送性及び電子輸送性を持つ感光層である。

【0026】

本実施形態に係る画像形成装置のプロセス速度ＰＳ（ｍｍ／ｓ）と、転写手段の電子写真感光体に対する転写電流Ｉ（μＡ）との関係が式（１）及び式（２）を満たす。
式（１）： ＰＳ≧１８０
式（２）： ０．３２≧Ｉ／ＰＳ≧０．２５

【0027】

ここで、従来、電子写真感光体としては、製造コスト、画質安定性の観点から、単層型感光体が望ましい。
一方で、単層型感光体は、その単層型の感光層内に、電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料とを含有する構成である、このため、単層型感光体は、感光層が機能分離されていないため、機能分離型の感光層を有する有機感光体（積層型感光体）に比べると、電荷の輸送制御が難しい。

【0028】

これに起因し、転写において、単層型感光体に転写電流が付与されると、感光層中の電荷発生材料、正孔輸送材料、電子輸送材料の微視的（ミクロ的）な組成不均一から局所的な電流の流れ（以下「電流リーク」とも称する）を発生し、転写不良が発生することがある。

【0029】

単層型感光体において、単層型の感光層に、上記の組合せの電荷発生材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含ませると、電荷発生材料の分散性が高まり、単層型の感光層中の各材料の微視的（ミクロ的）な組成の均一性が改善され、電流リークの発生が抑制されると考えられる。

【0030】

しかし、特に、プロセス速度を高め、転写における単層型感光体に対する転写電流を高めると、単層型の感光層にかかる転写電圧も高くなり、やはり、電流リークが発生し、転写不良が生じることが判明してきた。

【0031】

そこで、本実施形態に係る画像形成装置では、プロセス速度ＰＳと転写電流Ｉ（μＡ）との関係が式（１）及び式（２）を満たすようにした上で、電子写真感光体において、上記の組合せの電荷発生材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料と共に、フェノール系酸化防止剤を単層型の感光層に含ませる。これにより、高転写電流で発生する転写不良の発生が抑制される。
この理由は定かではないが、まず、プロセス速度ＰＳと転写電流Ｉ（μＡ）との関係が
式（１）及び式（２）を満たすとは、プロセス速度を高めた上で、転写電流を特定の範囲とし、過剰な転写電流により転写不良の発生を抑制することを意味している。
一方、単層型の感光層に、上記の組合せの電荷発生材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料と共に、フェノール系酸化防止剤を含ませると、電荷発生材料は更に分散性が高まり、単層型の感光層中の各材料の微視的（ミクロ的）な組成の均一性が更に改善されると考えられる。

【0032】

このため、本実施形態に係る画像形成装置では、このプロセス速度ＰＳと転写電流Ｉ（μＡ）との関係の範囲において、高転写電流で発生する転写不良の発生が抑制されると考えられる。

【0033】

本実施形態に係る画像形成装置において、プロセス速度ＰＳと転写電流Ｉ（μＡ）との関係は、高転写電流で発生する転写不良の発生を抑制する点から、下記式（２−２）を満たすことが好ましく、下記式（２−３）を満たすことがより好ましい。
式（２−２）： ０．３１≧Ｉ／ＰＳ≧０．２６
式（２−３）： ０．３０≧Ｉ／ＰＳ≧０．２７

【0034】

ここで、プロセス速度ＰＳとは、電子写真感光体の回転速度、つまり電子写真感光体の表面が周方向に移動する単位時間（１秒）当たりの移動量である。

【0035】

一方、転写手段の電子写真感光体に対する転写電流Ｉとは、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を被転写体に転写するための転写手段に付与する転写電流である。
つまり、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式を採用する場合、転写電流Ｉは、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する転写手段に付与する転写電流である。また、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体に一次転写した後、中間転写体に転写されたトナー像を記録媒体に二次転写する中間転写方式を採用する場合、転写電流Ｉは、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体に転写する一次転写手段に付与する転写電流である。

【0036】

以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る画像形成装置を詳細に説明する。

【0037】

図１は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１０１は、図１に示すように、例えば、矢印Ａで示すように、時計回り方向に回転する電子写真感光体１０と、電子写真感光体１０の上方に、電子写真感光体１０に相対して設けられ、電子写真感光体１０の表面を帯電させる帯電装置２０（帯電手段の一例）と、帯電装置２０により帯電した電子写真感光体１０の表面に露光して、静電潜像を形成する露光装置３０（静電潜像形成手段の一例）と、露光装置３０により形成された静電潜像に現像剤に含まれるトナーを付着させて電子写真感光体１０の表面にトナー像を形成する現像装置４０（現像手段の一例）と、記録紙Ｐ（記録媒体の一例）をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて記録紙Ｐに電子写真感光体１０上のトナー像を転写させる転写装置５０と、電子写真感光体１０の表面をクリーニングするクリーニング装置７０（クリーニング手段の一例）と、を備える。そして、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、トナー像が形成された記録紙Ｐを搬送しつつ、トナー像を定着させる定着装置６０を備える。

【0038】

以下、本実施形態に係る画像形成装置１０１における主な構成部材の詳細について説明する。

【0039】

［電子写真感光体］
図２は、本実施形態に係る電子写真感光体１０の一部の断面を概略的に示している。
図２に示した電子写真感光体１０は、例えば、導電性基体４を備え、導電性基体４上に、下引層１、単層型の感光層２、及び保護層３がこの順で設けられて構成されている。
なお、下引層１、及び保護層３は、必要に応じて、設けられる層である。

【0040】

以下、電子写真感光体１０の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。

【0041】

（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ未満であることをいう。

【0042】

導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。

【0043】

粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。

【0044】

粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。

【0045】

陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。

【0046】

陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。

【0047】

導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。

【0048】

ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。

【0049】

（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。

【0050】

無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０^２Ωｃｍ以上１０^１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。

【0051】

無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ^２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。

【0052】

無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。

【0053】

無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。

【0054】

表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤が好ましい。

【0055】

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【0056】

シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【0057】

表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。

【0058】

表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。

【0059】

ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。

【0060】

電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。

【0061】

電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。

【0062】

電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着せる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。

【0063】

乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。

【0064】

湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。

【0065】

なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。

【0066】

電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。

【0067】

下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。

【0068】

これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。

【0069】

下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。

【0070】

添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。

【0071】

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

【0072】

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

【0073】

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

【0074】

これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。

【0075】

下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。

【0076】

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。

【0077】

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。

【0078】

下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。

【0079】

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。

【0080】

下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。

【0081】

（中間層）
図示は省略するが、下引き層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。

【0082】

これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。

【0083】

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

【0084】

中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。

【0085】

（単層型の感光層）
単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、酸化防止剤と、必要に応じて、その他添加剤と、を含んで構成される。

【0086】

−結着樹脂−
結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
これらの結着樹脂の中でも、特に、感光層の成膜性の観点から、例えば、粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂がよい。

【0087】

結着樹脂の感光層の全固形分に対する含有量は、３５質量％以上６０質量％以下であることがよく、好ましくは４０質量％以上５０質量％以下である。

【0088】

−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種が適用される。
電荷発生材料としては、これら顔料を単独で用いてもよいが、必要に応じて併用してもよい。そして、電荷発生材料としては、感光体の高感度化、及び画像の点欠陥抑制の観点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。

【0089】

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から好ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。

【0090】

また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが好ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより好ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ^２／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍ^２／ｇ以上であることがより好ましく、５５ｍ^２／ｇ以上１２０ｍ^２／ｇ以下であることが特に好ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積値が４５ｍ^２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される傾向があり、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい傾向にあり、それにより画質欠陥を生じ易くなることがある。

【0091】

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが好ましく、１．０μｍ以下であることがより好ましく、より好ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、黒点が発生しやすい傾向にある。

【0092】

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ^２／ｇ以上であることが好ましい。

【0093】

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが好ましい。

【0094】

一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、 電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが好ましい。
クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。

【0095】

電荷発生材料の感光層の全固形分に対する含有量は、１質量％以上５質量％以下がよく、望ましくは１．２質量％以上４．５質量％以下である。

【0096】

−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、一般式（１）で表される正孔輸送材料が適用される。

【化5】

【0097】

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは。各々独立に、０又は１を示す。

【0098】

一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６が示す低級アルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
これらの中でも、低級アルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。

【0099】

一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。

【0100】

一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

【0101】

一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６が示すフェニル基としては、例えば、未置換のフェニル基；ｐ−トリル基、２，４−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基；ｐ−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基置換のフェニル基；ｐ−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
なお、フェニル基に置換し得る置換基としては、例えば、Ｒ^１〜Ｒ^６が示す低級アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。

【0102】

一般式（１）で表される正孔輸送材料として、高感度化、及び画像の点欠陥抑制の観点から、ｍ及びｎが１を示す正孔輸送材料がよく、特に、Ｒ^１〜Ｒ^６が各々独立に、水素原子、低級アルキル基、又はアルコキシ基を示し、ｍ及びｎが１を示す正孔輸送材料が好ましい。

【0103】

以下、一般式（１）で表される正孔輸送材料の例示化合物を示すがこれに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（１−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（１−１５）」と以下表記する。

【0104】

【化6】

【0105】

【化7】

【0106】

【化8】

【0107】

【化9】

【0108】

なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・４−Ｍｅ：フェニル基の４−位に置換するメチル基
・３−Ｍｅ：フェニル基の３−位に置換するメチル基
・４−Ｃｌ：フェニル基の４−位に置換する塩素原子
・４−ＭｅＯ：フェニル基の４−位に置換するメトキシ基
・４−Ｆ：フェニル基の４−位に置換するフッ素原子
・４−Ｐｒ：フェニル基の４−位に置換するプロピル基
・４−ＰｈＯ：フェニル基の４−位に置換するフェノキシ基

【0109】

正孔輸送材料の感光層の全固形分に対する含有量は、１０質量％以上４０質量％以下がよく、望ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。
なお、この正孔輸送材料の含有量は、一般式（１）で表される正孔輸送材料と他の正孔輸送材料を併用した場合、その正孔輸送材料全体の含有量である。

【0110】

−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、一般式（２）で表される電子輸送材料が適用される。

【0111】

【化10】

【0112】

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２．Ｒ^１３．Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を示す。Ｒ^１８は、炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基を示す。

【0113】

一般式（２）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

【0114】

一般式（２）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。

【0115】

一般式（２）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。

【0116】

一般式（２）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、トリル基等が挙げられる。
これらの中でも、フェニル基が好ましい。

【0117】

一般式（２）で表される電子輸送材料として、高感度化、及び画像の点欠陥抑制の観点から、特に、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、Ｒ^１８が炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。

【0118】

以下、一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物を示すがこれに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（２−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（２−１５）」と以下表記する。

【0119】

【化11】

【0120】

電子輸送材料の感光層の全固形分に対する含有量は、７質量％以上２２質量％以下がよく、望ましくは１０質量％以上１６質量％以下である。
なお、この電子輸送材料の含有量は、一般式（２）で表される電子輸送材料と他の電子輸送材料を併用した場合、その電子輸送材料全体の含有量である。

【0121】

−その他電荷輸送材料−
上記特定の正孔輸送材料及び電子輸送材料以外にも、機能を損ねない範囲で、他の電荷輸送材料（他の正孔輸送材料、他の電子輸送材料）を併用してもよい。但し、他の電荷輸送材料は、正孔輸送材料及び電子輸送材料全体に対して１０質量％以下で併用することがよい。

【0122】

他の電荷輸送材料としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物；トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの他の電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。

【0123】

他の電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（Ｂ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式（Ｂ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。

【0124】

【化12】

【0125】

構造式（Ｂ−１）中、Ｒ^Ｂ１は、水素原子またはメチル基を示す。ｎ１１は１または２を示す。Ａｒ^Ｂ１およびＡｒ^Ｂ２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^Ｂ３）＝Ｃ（Ｒ^Ｂ４）（Ｒ^Ｂ５）、または−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ６）（Ｒ^Ｂ７）を示し、Ｒ^Ｂ３乃至Ｒ^Ｂ７はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。

【0126】

【化13】

【0127】

（構造式（Ｂ−２）中、Ｒ^Ｂ８およびＲ^Ｂ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。Ｒ^Ｂ９、Ｒ^Ｂ９’、Ｒ^Ｂ１０、およびＲ^Ｂ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ^Ｂ１１）＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１２）（Ｒ^Ｂ１３）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１４）（Ｒ^Ｂ１５）を示し、Ｒ^Ｂ１１乃至Ｒ^Ｂ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。）

【0128】

ここで、構造式（Ｂ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および構造式（Ｂ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ６）（Ｒ^Ｂ７）」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１４）（Ｒ^Ｂ１５）」を有するベンジジン誘導体が好ましい。

【0129】

−正孔輸送材料と電子輸送材料との質量比−
正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が望ましく、より望ましくは６０／４０以上８０／２０以下である。
なお、本比率は、他の電荷輸送材料を併用した場合、その合計での比率である。

【0130】

−酸化防止剤−
酸化防止剤として、フェノール系酸化防止剤が適用される。フェノール系酸化防止剤は、フェノール環を有する酸化防止剤である。

【0131】

フェノール系酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール環を有する酸化防止剤が好適に挙げられる。つまり、フェノール系酸化防止剤としては、例えば、次のものが挙げられる。
１）炭素数４以上８以下のアルキル基（例えば炭素数４以上８以下の分岐状のアルキル基）が少なくとも一つ置換されたフェノール環を一つ有する酸化防止剤。
２）炭素数４以上８以下のアルキル基（例えば炭素数４以上８以下の分岐状のアルキル基）が少なくとも一つ置換されたフェノール環を２つ以上４つ以下有し、且つ直鎖又は分岐状の２価以上４価以下の脂肪族炭化水素基からなる連結基、又は２価以上４価以下の脂肪族炭化水素基の炭素−炭素の結合間に、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−）及びエーテル結合（−Ｏ−）の少なくとも一方が介在した連結基で、２つ以上４つ以下のフェノール環が連結された酸化防止剤。

【0132】

以下、フェノール系酸化防止剤の具体的を示すが、これに限られるわけではない。

【化14】

【0133】

【化15】

【0134】

フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ（登録商標） ＭＤＰ−Ｓ（住友化学（株）製）」、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ（登録商標） ＧＳ（住友化学（株）製）、「アデカスタブ Ａ０−３０（旭電化工業（株）製）」、「アデカスタブ Ａ０−６０（旭電化工業（株）製）」等が挙げられる。

【0135】

感光層の酸化防止剤を除く固形分に対するフェノール系酸化防止剤の含有量は、高転写電流で発生する転写不良を抑制し易くする点から、例えば、１質量％以上３質量％以下がよく、好ましくは１．２質量％以上２．８質量％以下、より好ましくは１．５質量％以上２．５質量％以下である。このフェノール系酸化防止剤の含有量を上記範囲とすると、高転写電流で発生する転写不良の発生と共に、電子写真感光体の電気特性の低下も抑制される。

【0136】

一方、電荷発生材料に対するフェノール系酸化防止剤の含有量は、高転写電流で発生する転写不良を抑制し易くする点から、例えば、３０質量％以上１５０質量％以下がよく、好ましくは３５質量％以上１４０質量％以下、より好ましくは４５質量％以上１３０質量％以下である。このフェノール系酸化防止剤の含有量を上記範囲とすると、高転写電流で発生する転写不良の発生と共に、電子写真感光体の電気特性の低下も抑制される。

【0137】

−その他添加剤−
単層型の感光層には、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。

【0138】

−単層型の感光層の形成−
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。

【0139】

感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。

【0140】

感光層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。

【0141】

単層型の感光層の膜厚は、好ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲に設定される。

【0142】

（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。

【0143】

１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）

【0144】

反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲ^Ｑ１_３−Ｑｎ（ＯＲ^Ｑ２）_Ｑｎ［但し、Ｒ^Ｑ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ｒ^Ｑ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。_Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。

【0145】

連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。

【0146】

反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。

【0147】

これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。

【0148】

保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。

【0149】

保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。

【0150】

保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。

【0151】

保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。

【0152】

保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。

【0153】

［帯電装置］
帯電装置２０としては、例えば、導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。また、帯電装置２０としては、例えば、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も挙げられる。帯電装置２０としては、接触型帯電器がよい。

【0154】

［露光装置］
露光装置３０としては、例えば、電子写真感光体１０表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体１０の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザの波長としては、例えば、７８０ｎｍ前後に発振波長を有する近赤外がよい。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、露光装置３０としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。

【0155】

［現像装置］
現像装置４０は、例えば、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を収容する容器内に、現像領域で電子写真感光体１０に対向して配置された現像ロール４１が備えられた構成が挙げられる。現像装置４０としては、２成分現像剤により現像する装置であれば、特に制限はなく、周知の構成が採用される。

【0156】

ここで、現像装置４０に使用される現像剤は、トナーからなる一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤であってもよい。

【0157】

［転写装置］
転写装置５０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。

【0158】

［クリーニング装置］
クリーニング装置７０は、例えば、筐体７１と、クリーニングブレード７２と、クリーニングブレード７２の電子写真感光体１０回転方向下流側に配置されるクリーニングブラシ７３と、を含んで構成されている。また、クリーニングブラシ７３には、例えば、固形状の潤滑剤７４が接触して配置されている。

【0159】

以下、本実施形態に係る画像形成装置１０１の動作について説明する。まず、電子写真感光体１０が矢印ａで示される方向に沿って回転すると同時に、帯電装置２０により正に帯電する。

【0160】

帯電装置２０によって表面が正に帯電した電子写真感光体１０は、露光装置３０により露光され、表面に潜像が形成される。

【0161】

電子写真感光体１０における潜像の形成された部分が現像装置４０に近づくと、現像装置４０（現像ロール４１）により、潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。

【0162】

トナー像が形成された電子写真感光体１０が矢印ａに方向にさらに回転すると、転写装置５０によりトナー像は記録紙Ｐに転写される。これにより、記録紙Ｐにトナー像が形成される。
その後、クリーニング装置７０により電子写真感光体１０の表面をクリーニングされる。そして、再び、帯電装置２０によって、帯電がなされて、次のサイクル（画像プロセス）が行われる。

【0163】

画像が形成された記録紙Ｐは、定着装置６０でトナー像が定着される。

【0164】

なお、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、例えば、図３に示すように、筐体１１内に、電子写真感光体１０、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、及びクリーニング装置７０を一体に収容させたプロセスカートリッジ１０１Ａを備えた形態であってもよい。このプロセスカートリッジ１０１Ａは、複数の部材を一体的に収容し、画像形成装置１０１に脱着させるものである。
プロセスカートリッジ１０１Ａの構成は、これに限られず、例えば、少なくとも、電子写真感光体１０、及び転写装置５０を備えてえればよく、その他、例えば、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、及びクリーニング装置７０から選択される少なくとも一つを備えていてもよい。

【0165】

また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体１０の周囲であって、転写装置５０よりも電子写真感光体１０の回転方向下流側でクリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置２０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体１０の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。

【0166】

また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体１０に形成したトナー像を中間転写体に転写した後、記録紙Ｐに転写する中間転写方式の画像形成装置を採用してもよいし、タンデム方式の画像形成装置を採用してもよい。

【実施例】

【0167】

以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。

【0168】

＜電子写真感光体１の作製＞
電荷発生材料（表１中「ＣＧＭ」と表記）としてＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料 ３質量部と、結着樹脂（表１中「ＢＲ」と表記）としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万） ４７質量部と、表１に示す電子輸送材料（表１中「ＥＴＭ」と表記） １３質量部と、表１に示す正孔輸送材料（表１中「ＨＴＭ」と表記） ３７質量部と、表１に示す酸化防止剤（表１中「ＡＯ」と表記） １質量部と、溶剤としてテトラヒドロフラン２５０質量部と、からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散し、感光層形成用塗布液を得た。
この感光層形成用塗布液を浸漬塗布法にて、直径３０ｍｍ、長さ２４４．５ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１４０℃、３０分の乾燥硬化を行い、厚さ３０μｍの単層型の感光層を形成した。
以上の工程を経て、電子写真感光体１（表１中「ＯＰＣ１」と表記）を作製した。

【0169】

＜電子写真感光体２〜９の作製＞
表１に従って、電子輸送材料（ＥＴＭ）、正孔輸送材料（ＨＴＭ）、電荷発生材料（ＣＧＭ）、酸化防止剤（ＡＯ）、及び結着樹脂（ＢＲ）の種類及び量を変更した以外は、電子写真感光体１と同様にして、電子写真感光体２〜９（表１中「ＯＰＣ２〜９」と表記）を作製した。なお、表１中の「部」は質量部を示している。

【0170】

＜比較電子写真感光体１〜３の作製＞
表１に従って、電子輸送材料（ＥＴＭ）、正孔輸送材料（ＨＴＭ）、電荷発生材料（ＣＧＭ）、酸化防止剤（ＡＯ）、及び結着樹脂（ＢＲ）の種類及び量を変更した以外は、電子写真感光体１と同様にして、電子写真感光体２〜３（表１中「Ｃ−ＯＰＣ１〜３」と表記）を作製した。なお、表１中の「部」は質量部を示している。また、酸化防止剤（ＡＯ）の「％」は、電荷発生材料に対する含有量（質量％）を示している。

【0171】

＜実施例１〜１０、比較例１〜６＞
表１に従って電子写真感光体（ＯＰＣ）を、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製の画像形成装置ＨＬ５４５０Ｄ改造機（プロセス速度ＰＳ、及び転写電流Ｉを可変可能に改造した改造機）に搭載した。但し、転写電流は、
そして、プロセス速度ＰＳ（表１中「ＰＳ」と表記）、及び転写電流Ｉ（表１中「Ｉ」と表記）を表１に示す条件に設定した画像形成装置を実施例１〜１０、比較例１〜６とした。

【0172】

＜評価＞
各例の画像形成装置について次の評価を行った。

【0173】

（転写性（初期））
転写性（初期）の評価は、次にようにして評価した。
ＨＨ環境下（温度２８℃、湿度８５％ＲＨ環境下）において、用紙としてＪ紙（富士ゼロックス製）に、画像濃度Ｃｉｎ１００％のべた画像を出力した。このときの画像の絶対濃度をＸ-Ｒｉｔｅ９３８を用いて測定した。このときの画像濃度測定位置は画像中央部とする。
そして、べた画像の濃度、及び均一性について評価した。評価基準は以下の通りである。

【0174】

−べた画像の濃度の評価基準−
Ａ： 画像濃度１．３以上
Ｂ： 画像濃度１．２以上１．３未満
Ｃ： 画像濃度１．２未満

【0175】

−べた画像の均一性の評価基準
Ａ： 目視で全面ムラが気にならないレベル
Ｂ： 目視で端部での濃度低下があるが許容レベル
Ｃ： 目視で端部での濃度低下があり、許容できないレベル

【0176】

（転写性（印字試験後）））
転写性（印字試験後）は、次にようにして評価した。
ＨＨ環境下（温度２８℃、湿度８５％ＲＨ環境下）において、用紙としてＪ紙（富士ゼロックス製）に、画像密度７％のテキスト画像を５００枚出力した後に、画像濃度Ｃｉｎ１００％のべた画像を出力した。このときのべた画像の絶対濃度をＸ−Ｒｉｔｅ９３８を用いて測定した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ： 画像濃度１．３以上
Ｂ： 画像濃度１．２以上１．３未満
Ｃ： 画像濃度１．２未満

【0177】

【表1】

【0178】

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、転写性の評価について良好な結果が得られていることがわかる。
これにより、本実施例では、比較例に比べ、高転写電流で発生する転写不良の発生が抑制されていることがわかる。

【0179】

以下、表１中の略称の詳細について示す。

【0180】

−電子輸送材料（ＥＴＭ）−
・（２−１）： 一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物（２−１）

【0181】

−正孔輸送材料（ＨＴＭ）−
・（１−１）： 一般式（１）で表される正孔輸送材料の例示化合物（１−１）
・化合物Ａ： Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン

【0182】

−電荷発生材料（ＣＧＭ）−
・ＨＯＧａＰＣ： Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝ ８２０ ｎｍ、平均粒径＝０．１２μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝６０ｍ^２／ｇ）
・ＣｌＧａＰＣ： Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝７８０ｎｍ、平均粒径＝０．１５μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝５６ｍ^２／ｇ）

【0183】

−酸化防止剤（ＡＯ）−
・ＢＨＴ： フェノール系酸化防止剤の例示化合物（Ｐ−１）［２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−フェノール］
・ＭＤＰ−Ｓ： フェノール系酸化防止剤の例示化合物（Ｐ−１０）［２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、「ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ（登録商標） ＭＤＰ−Ｓ（住友化学（株）製）」］
・ＬＳ−４４０： アミン系酸化防止剤「サノールＬＳ−４４０（三共ライフテック（株）製）」
・２１１２： リン系酸化防止剤「アデカスタブ ２１１２（旭電化工業（株）製）」

【0184】

−結着樹脂（ＢＲ）−
・ＰＣＺ： ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）

【符号の説明】

【0185】

１ 下引層、２ 単層型の感光層、３ 保護層、４ 導電性基体、１０ 電子写真感光体、１１ 筐体、２０ 帯電装置、３０ 露光装置、４０ 現像装置、４１ 現像ロール、５０ 転写装置、６０ 定着装置、７０ クリーニング装置、７１ 筐体、７２ クリーニングブレード、７３ クリーニングブラシ、７４ 潤滑剤、１０１Ａ プロセスカートリッジ、１０１ 画像形成装置

【図1】

【図2】

【図3】