(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0005】
以下の詳細な説明においては、特許請求に係る主題が実施され得る特定の実施形態を例として示す添付図面を参照する。それらの実施形態は、当業者が該主題を実施することを可能にするように十分詳細に説明される。理解されるように、様々な実施形態は、相異なるものであったとしても、必ずしも相互に排他的なものではない。例えば、1つの実施形態に関連してここに記載される特定の機能、構造又は特徴は、特許請求に係る主題の精神及び範囲を逸脱することなく、その他の実施形態内で用いられ得る。本明細書内での“一実施形態”のへ言及は、その実施形態に関連して説明される特定の機能、構造又は特徴が、本発明に包含される少なくとも1つの実装形態に含まれることを意味する。故に、“一実施形態”又は“一実施形態において”という言い回しの使用は、必ずしも同一の実施形態に言及しているわけではない。また、理解されるように、開示の各実施形態内の個々の要素の位置又は構成は、特許請求に係る主題の精神及び範囲を逸脱することなく変更され得る。故に、以下の詳細な説明は限定的な意味で解されるべきものではなく、主題の範囲は、添付によってのみ定められ、添付の請求項の権利範囲に均等な範囲全体とともに適切に解釈されるものである。図面において、複数の図を通して、同一あるいは同様の要素又は機能は似通った参照符号によって参照することとし、そこに示される要素は必ずしも相互に縮尺通りにされておらず、むしろ、個々の要素は、本開示の文脈にてそれらの要素を一層容易に理解できるよう、拡大あるいは縮小されていることがある。
【0006】
本開示に係る様々な実施形態において、マイクロエレクトロニクス基板は、異なる複数のマイクロエレクトロニクスデバイスがマイクロエレクトロニクス基板に選択的に取り付けられて機能マイクロエレクトロニクスパッケージを形成し得るように、重なり合う複数の接続ゾーンを有するように製造される。
【0007】
マイクロエレクトロニクスパッケージの製造において、1つ以上のマイクロエレクトロニクスデバイスは典型的に、パッケージング目的でマイクロエレクトロニクス基板上にマウントされる。当業者に理解されるように、マイクロエレクトロニクス基板は、所望の目的に適した如何なる基板であってもよく、以下に限られないが、インターポーザ、マザーボード、試験プラットフォーム、及びこれらに類するものを含む。マイクロエレクトロニクスデバイスは、以下に限られないが、マイクロプロセッサ、チップセット、グラフィックス処理デバイス、無線デバイス、メモリデバイス、特定用途向け集積回路(ASIC)、及びこれらに類するものを含む。
【0008】
マイクロエレクトロニクス基板は、一方の表面に形成された少なくとも1つの配線網を有するコアを有し得る。配線網は、複数層の誘電材料、導電配線、及び誘電材料層を貫通するビアを含むことができ、それらに、マイクロエレクトロニクスダイ、マイクロエレクトロニクスデバイス及び/又はマイクロエレクトロニクスコンポーネントが電気的に接続され得る。配線網は、その上にマウントされたマイクロエレクトロニクスダイ、マイクロエレクトロニクスデバイス及び/又はマイクロエレクトロニクスコンポーネントの間の相互接続を可能にするとともに、外部コンポーネントとの電気通信のために、例えばはんだボール又はピンなどの外部インターコネクトに接続し得る。外部インターコネクトは、マイクロエレクトロニクス基板の第1表面上、又はマイクロエレクトロニクス基板の反対側の第2表面上に形成され得る。
【0009】
図1−3は、本開示の一実施形態に従ったマイクロエレクトロニクス基板100の側断面図を例示している。
図1−3に示すように、マイクロエレクトロニクス基板100は、基板コア102の第1表面106に第1の配線網104が形成されたコア102を有し得る。基板コア102は如何なる適切な材料であってもよく、該材料は、以下に限られないが、ビスマレイミドトリアジン(BT)樹脂、難燃性グレード4材料、ポリイミド材料、ガラス繊維強化エポキシマトリックス材料、及びこれらに類するもの、並びにこれらの積層体若しくは複数層を含む。
【0010】
当業者に理解されるように、例えばマイクロプロセッサ、チップセット、メモリデバイス、ASICなどの、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)又は第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)が、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110上のボンドパッド(図示せず)から、あるいは第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120上のボンドパッド(図示せず)から第1の配線網104の内部若しくは表面上のそれぞれのコンタクトランド108まで延在する複数のインターコネクト122(
図1参照)又は124(
図2参照)を介して、第1の回線網104に取り付けられて、それら間の電気的コンタクトが為される。機械的支持や汚染保護を提供してパッケージの信頼性を向上させるために、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)又は第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)とマイクロエレクトロニクス基板100との間にアンダーフィル材料(図示せず)が広げられてもよい。
【0011】
図3(
図2中の部分A)は第1の配線網104の一実施形態を例示しており、第1の配線網104は、基板コアの第1表面106上に形成された少なくとも1つの誘電体層(要素112
1−112
4として示す)を、様々な誘電体層112
1−112
4表面及び内部に形成された複数の導電配線114とともに有している。4つの誘電体層112
1−112
4が図示されているが、如何なる好適数の層が形成されてもよい。誘電体層112
1−112
4は、以下に限られないが二酸化シリコン(SiO2)、酸窒化シリコン(SiOxNy)、窒化シリコン(Si3N4)、シリカ充填エポキシ材料及びこれらに類するものを含む如何なる適切な誘電材料であってもよく、以下に限られないが化学気相成長(“CVD”)、物理気相成長(“PVD”)、原子層成長(“ALD”)及びこれらに類するものを含む技術的に知られた如何なる技術によって形成されてもよい。導電配線114は、以下に限られないが例えば銅、金、銀、アルミニウム及びこれらの合金などを含む如何なる適切な導電材料であってもよく、個々の誘電体層112
1−112
4を貫通するビアを形成し(例えば、レーザアブレーション、イオンアブレーション及びリソグラフィエッチングなど)、導電材料層を堆積し、そして技術的に知られた何らかの技術(フォトレジスト材料が導電材料層上でパターニングされ、該フォトレジスト材料をエッチャントに対するシールドとして用いて導電材料層の一部がエッチング除去されるリソグラフィを含む)によって導電材料層をパターニングすることを含む技術的に知られた如何なる技術によって形成されてもよい。
【0012】
図3に更に示すように、最も外側の誘電体層(112
4として図示)の表面又は内部に、例えば堆積・リソグラフィパターニング技術などによって、複数のコンタクトランド108が形成され得る。コンタクトランド108は、各々が少なくとも1つの導電配線114に接触するように、最も外側の誘電体層(112
4として図示)を貫いて延在するように形成され得る。最も外側の誘電体層(112
4として図示)の上にソルダーレジスト層116がパターン形成され得る。ソルダーレジスト層116は、各コンタクトランド108の一部を露出させる複数の開口118を有する。ソルダーレジスト層116は、例えば高分子材料など、如何なる適切な材料であってもよく、当業者に理解されるように、
図1の第1のマイクロエレクトロニクスデバイスの複数のインターコネクト122又は
図2の第2のマイクロエレクトロニクスデバイスの複数のインターコネクト124の各々が所望のエリアに留まることを確実にするために使用され得る。
【0013】
図4は、本開示の一実施形態に係るマイクロエレクトロニクス基板100の上面図を示しており、異なる機能の複数のマイクロエレクトロニクスデバイスを収容して機能マイクロエレクトロニクスパッケージを形成するように適応されたコンタクトランドの構成を例示している。
図4に示すように、マイクロエレクトロニクス基板100は、要素1081及び108
cとして示す複数のコンタクトランドを含み得る。コンタクトランド108
c(明瞭化のためにハッチングされている)は、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)及び第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)に対する共通接続である。コンタクトランド108
1(すなわち、ハッチングなし)は、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)のためのものである。第1の接続ゾーン(区画)すなわちゾーン1は、コンタクトランド108
1及び108
cを含み、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)を取り付けるために使用され得る。第2の接続ゾーンすなわちゾーン2は、コンタクトランド108
cを含み、第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)を取り付けるために使用され得る。
【0014】
一実施形態において、第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)は、例えば1チャンネルメモリなど、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)より低い入力/出力カウント(例えば、
図2の第2のマイクロエレクトロニクスデバイスインターコネクト124)の小さい本体サイズ(すなわち、フォームファクタ)を有する“ベースパッケージ”として見ることができる。第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110は、例えば2チャンネルメモリなど、第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120より高い入力/出力カウント(例えば、
図1の第1のマイクロエレクトロニクスデバイスインターコネクト122)の大きい本体サイズを有する“上位(スーパーセット)パッケージ”として見ることができ、あるいは“上位パッケージ”に付加されるその他の機能を有し得る。共通コンタクトランド108
cの位置及びカウントは、“ベースパッケージ”(例えば、
図2の第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120)と“上位パッケージ”(例えば、
図1の第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110)との間で変わりがない。“上位パッケージ”(例えば、
図1の第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110)に特有のコンタクトランド(例えば、コンタクトランド108
1)は、
図4に示すように、“ベースパッケージ”(例えば、
図2の第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120)のフォームファクタ外縁の外側に配置され、例えば、第2のコンタクトゾーン(ゾーン2)の外側であるが第1のコンタクトゾーン(ゾーン1)の内側に配置され得る。
【0015】
故に、マイクロエレクトロニクス基板100は、当該マイクロエレクトロニクス基板100への如何なる変更もなく“ベースパッケージ”(例えば、
図2の第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120)又は“上位パッケージ”(例えば、
図1の第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110)の何れかを用いることが可能なように、“上位パッケージ”のフォームファクタに基づいて設計され得る。従って、マイクロエレクトロニクス基板100のこのような設計は、当業者に理解されるように、マイクロエレクトロニクス基板100の共通コンタクトランド108
cに関して、“ベースパッケージ”(例えば、
図2の第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120)を“上位パッケージ”(例えば、
図1の第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110)にマッピングすること、及びその逆を行うことを確実にし、故に、各マイクロエレクトロニクスデバイス(例えば、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110及び第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120)は、同一のマイクロエレクトロニクス基板(例えば、マイクロエレクトロニクス基板100)上でデバイスレベル及び基板レベルで独立に、それらそれぞれの要求を満たすように機能する。
【0016】
よって、本開示に係る実施形態は、1つの共通のマイクロエレクトロニクス基板100が、スケーラブルな設計として、異なるフォームファクタ(例えば、本体サイズ)、異なる特徴及び/又は異なる機能を有し得る2つ以上の異なるマイクロエレクトロニクスデバイスに使用されることを可能にする。
【0017】
本開示に係る実施形態は、単一のマイクロエレクトロニクス基板100が複数のマイクロエレクトロニクスデバイス(例えば、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110及び第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120など)のために機能することを可能にし得るので、マイクロエレクトロニクス基板の設計コスト及び設計時間の削減が実現され得る。
【0018】
図4の実施形態は、第2の接続ゾーン(ゾーン2)、ひいては、第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)の動作用のコンタクトランドの全てが完全に第1の接続ゾーン(ゾーン1)内(すなわち、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)の動作用のコンタクトランド内)にあるものを示しているが、本開示に係る概念はそのように限定されるものではない。
図5に示すように、マイクロエレクトロニクス基板100は、部分的にのみ重なり合う第1の接続ゾーン(ゾーン1)と第2の接続ゾーン(ゾーン2)とを有していてもよい。第1の接続ゾーン(ゾーン1)と第2の接続ゾーン(ゾーン2)との重なり部分が、共通コンタクトランド108
c(明瞭化のためにハッチングされている)を有することになる。第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)に特有のコンタクトランド(要素108
1)は、共通コンタクトランド108
cの外側且つ第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)に特有のコンタクトランド要素108
2の外側である。同様に、第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)に特有のコンタクトランド(要素108
2)は、共通コンタクトランド108
cの外側且つ第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)に特有のコンタクトランド要素108
1の外側である。
【0019】
また、理解されるように、少なくとも部分的に第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110(
図1参照)又は第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120(
図2参照)の何れかの機能に応じて、全ての共通コンタクトランド108
cが第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110又は第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120によって使用される必要はない。
【0020】
さらに理解されるように、
図1、2、4及び5の実施形態は、2つのマイクロエレクトロニクスデバイス(すなわち、
図1の第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110及び
図2の第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120)を択一的に収容するように構成されたマイクロエレクトロニクス基板100を示しているが、マイクロエレクトロニクス基板100は、如何なる好適数の代替的なマイクロエレクトロニクスデバイスを収容するように構成されてもよく、少なくとも1つのコンタクトランド(例えば、
図5及び6のコンタクトランド108cなど)がそれらマイクロエレクトロニクスデバイスの間で共通に使用される。
【0021】
また、理解されるように、
図1、2、4及び5に示された実施形態は、2つのマイクロエレクトロニクスデバイス(すなわち、
図1の第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110及び
図2の第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120)を択一的に収容するように構成されたマイクロエレクトロニクス基板100を示しているが、本開示に係る概念はそのように限定されるものではない。理解されるように、マイクロエレクトロニクス基板100は、少なくとも1つの共通コンタクトランドを有する如何なる好適数の代替的なマイクロエレクトロニクスデバイスを有する如何なる好適数のコンタクトセットを収容するように構成されてもよい。
図6は、第1のコンタクトセット(コンタクトセット1)及び第2のコンタクトセット(コンタクトセット2)として示される複数組のコンタクトを有するマイクロエレクトロニクス基板100の一実施形態を例示している。第1のコンタクトセット(コンタクトセット1)は、要素108
1及び108
cとして示される複数のコンタクトランドを含み得る。コンタクトランド108
c(明瞭化のためにハッチングされている)は、上述のように、“上位パッケージ”及び“ベースパッケージ”に対する共通接続とし得る。コンタクトランド108
1(ハッチングなし)は、“上位パッケージ”のためのものとし得る。第1のコンタクトセット(コンタクトセット1)の第1の接続ゾーン(ゾーン1)は、コンタクトランド108
1及び108
cを含み、“上位パッケージ”を取り付けるために使用され得る。第1のコンタクトセット(コンタクトセット1)の第2の接続ゾーン(ゾーン2)は、コンタクトランド108
cを含み、“ベースパッケージ”を取り付けるために使用され得る。同様に、第2のコンタクトセット(コンタクトセット2)は、要素108
1’及び108
c’として示される複数のコンタクトランドを含み得る。コンタクトランド108
c’(明瞭化のためにハッチングされている)は、上述のように、“上位パッケージ”及び“ベースパッケージ”に対する共通接続とし得る。コンタクトランド108
1’(ハッチングなし)は、“上位パッケージ”のためのものとし得る。第2のコンタクトセット(コンタクトセット2)の第1の接続ゾーン(ゾーン1’)は、コンタクトランド108
1’及び108
c’を含み、“上位パッケージ”を取り付けるために使用され得る。第2のコンタクトセット(コンタクトセット2)の第2の接続ゾーン(ゾーン2’)は、コンタクトランド108
c’を含み、“ベースパッケージ”を取り付けるために使用され得る。
【0022】
図7を参照するに、本開示に係るマイクロエレクトロニクス基板100の配線層及び利用を支援するよう、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110及び第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120は実質的に同じ位置にコンポーネント群を有し得る。
図7は、第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120の上に重ねて第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110を示している。図示のように、第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110の、例えば中央演算処理ユニット又はグラフィックス処理ユニット用の2チャンネルメモリなどであるマイクロエレクトロニクスダイ130が、第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120の、例えば中央演算処理ユニット又はグラフィックス処理ユニット用の1チャンネルメモリなどであるマイクロエレクトロニクスダイ130’と同様の箇所に位置付けられている。第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110及び第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120の何れの機能にも必要な共通コンポーネントは同様の箇所に位置付けられることができ、且つ第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110と第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120とのうちの小さい方のフットプリント内(この例示においては、破線で示された第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120のフットプリント内)にされることができる。共通コンポーネント(明瞭化のため点線で示されている)は、以下に限られないが、入力電圧回路132、周辺機器制御回路134(例えば、PCIE(peripheral component interconnect express)など)、チップ間信号バス回路136、ディスプレイ回路138、メモリ142(例えば、デュアルデータレートメモリなど)、及び補助動作回路144を含み得る。例えば追加のメモリ146(例えば、追加のデュアルデータレートメモリなど)(3つのセクションとして図示されている)などの第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110に特有のコンポーネントは、第2のマイクロエレクトロニクスデバイス120のフットプリントの外側且つ第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110のフットプリントの内部にされることができる。
【0023】
図8は、本発明の一実施形態に従ったマイクロエレクトロニクスデバイスパッケージ160を例示している。マイクロエレクトロニクスデバイスパッケージ160は、基板コア102を含んだマイクロエレクトロニクス基板150に取り付けられた第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110を含み得る。マイクロエレクトロニクス基板150は、基板コア102の第1表面106に形成された第1の配線網104と、基板コア第1表面106から基板コア102の反対側の第2表面156まで延在する少なくとも1つの導電ビア152(例えば、めっきされたスルーホールビアなど)と、第1の配線網104に関して上述したようにして基板コア第2表面156に形成された第2の配線網154とを含んでいる。導電ビアは、第1の配線網内の少なくとも1つの導電配線114を、第2の配線網154内の少なくとも1つの導電配線158に電気的に接続し得る。
【0024】
第1のマイクロエレクトロニクスデバイス110は、当業者に理解されるように、当該マイクロエレクトロニクスデバイス110上のボンドパッド(図示せず)から、それらそれぞれの、第1の配線網104の内部又は表面上のコンタクトランド108まで延在してそれらの間の電気コンタクトをなす複数のインターコネクト122(はんだボールとして図示)によって取り付けられ得る。第2の配線網154は、その内部又は表面上に形成された複数の外部コンタクトランド162を含み得る。これら複数の外部コンタクトランド162上に、複数の外部はんだインターコネクト164(例えばボールグリッドアレイであり、はんだボールとして図示)が形成され得る。外部はんだインターコネクト164は、当業者に理解されるように、マイクロエレクトロニクスデバイスパッケージ160をC4(Control Collapse Chip Connection)によって外部部品(図示せず)に接続するために使用され得る。故に、マイクロエレクトロニクス基板150は、マイクロエレクトロニクスデバイス110と外部部品(図示せず)との間で信号をルーティングするインターポーザとして機能し得る。
【0025】
図9は、本発明の一実施形態に従ったマイクロエレクトロニクスデバイスパッケージ170を例示している。マイクロエレクトロニクスデバイスパッケージ170は、
図8に示した実施形態と同じあるいは同様のコンポーネントを幾つか有し得る。ピングリッドアレイ型のデバイスを形成するように、(
図8の外部はんだインターコネクト164に代えて)複数のピン型インターコネクト166が複数の外部コンタクトランド162に取り付けられ得る。故に、当業者に理解されるように、マイクロエレクトロニクスデバイスパッケージ170は、外部部品(図示せず)に搭載されたソケット(図示せず)に取り付けられ得る。
【0026】
幾つかのマイクロエレクトロニクス用途を参照して本開示に係るマイクロエレクトロニクス基板を説明したが、理解されるように、これらの概念は多様な用途に適用され得るものである。そのような用途は、以下に限られないが、試験装置、移動式装置(モバイル機器)、中央演算処理ユニット及び/又はグラフィックス処理ユニットを備えるデスクトップ及びサーバシステム、高解像度マルチメディアインタフェースマザーボード、並びにこれらに類するものを含む。また、マイクロエレクトロニクスパッケージングの分野での具体例を用いて本開示に係るマイクロエレクトロニクス基板を説明したが、当業者に理解されるように、ここで開示される概念は、多様なエレクトロニクス用途及びマイクロエレクトロニクス用途に適用され得る。
【0027】
図10は、ポータブル(可搬式)システム/装置200(例えば、ポータブルコンピュータ、携帯電話、デジタルカメラ、デジタル音楽プレーヤ、ウェブタブレット/パッド装置、携帯情報端末、ポケットベル、インスタントメッセージ装置、又はその他の装置)の一実施形態を例示している。ポータブルシステム/装置200は、例えば無線ローカルエリアネットワーク(WLAN)システム、無線パーソナルエリアネットワーク(WPAN)システム及び/又は携帯電話ネットワークなどを介して、無線で情報の送信及び/又は受信を行うように適応され得る。ポータブルシステム/装置200は、筐体220内に基板210を有し得る。基板210は、自身に電気的に結合された様々なマイクロエレクトロニクスデバイス230を有し得る。それらマイクロエレクトロニクスデバイス230は、以下に限られないが、マイクロエレクトロニクスデバイスパッケージ、マイクロプロセッサ(例えば、中央演算処理ユニット(CPU)、チップセット、グラフィックス処理ユニット、ASIC、又はその他のコマンド/データ処理デバイス)、メモリデバイス、並びにこれらに類するものを含む。基板210は、例えばキーパッドなどの入力装置240と、例えばLCDディスプレイなどの表示装置250とを含む様々な周辺装置に取り付けられ得る。理解されるように、表示装置250がタッチ感知式である場合、表示装置250は入力装置としても機能し得る。本開示の実施形態は、ポータブルシステム/装置200のコンポーネントのうちの何れか(以下に限られないが、基板210及び/又はマイクロエレクトロニクスコンポーネント220を含む)に組み込まれ得る。
【0028】
図11は、例えばデスクトップコンピュータ及びサーバなどのコンピュータシステム300の一実施形態を例示している。コンピュータシステム300は、筐体320内に基板又はマザーボード310を有し得る。マザーボード310は、自身に電気的に結合された様々なマイクロエレクトロニクスデバイス330を有し得る。それらマイクロエレクトロニクスデバイス330は、以下に限られないが、マイクロプロセッサ(例えば、中央演算処理ユニット(CPU)、チップセット、グラフィックプロセッサ、ASIC、又はその他のコマンド/データ処理デバイス)、メモリデバイス(例えば、DRAM、フラッシュメモリ、BIOSチップ、及びソリッドステートドライブなど)、並びにその他の適切な電気部品を含む。基板又はマザーボード310は、例えばキーボード340及び/又はマウス350などの入力装置と、例えばモニタ360などの表示装置とを含む様々な周辺装置に取り付けられ得る。本開示の実施形態は、コンピュータシステム300のコンポーネントのうちの何れか(以下に限られないが、マザーボード310及び/又はマイクロエレクトロニクスデバイス330を含む)に組み込まれ得る。
【0029】
本発明の実施形態を詳細に説明した。理解されるように、本発明の精神又は範囲を逸脱することなく数多くの明らかな変形が可能であり、故に、添付の請求項によって定められる発明は、以上にて説明された特定の詳細事項に限定されるものではない。