(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6174807
(24)【登録日】2017年7月14日
(45)【発行日】2017年8月2日
(54)【発明の名称】混合テンプレートを用いる高シリカCHA型分子ふるいの調製
(51)【国際特許分類】
C01B 39/48 20060101AFI20170724BHJP
【FI】
C01B39/48
【請求項の数】5
【全頁数】16
(21)【出願番号】特願2016-533292(P2016-533292)
(86)(22)【出願日】2014年3月19日
(65)【公表番号】特表2016-529195(P2016-529195A)
(43)【公表日】2016年9月23日
(86)【国際出願番号】US2014031209
(87)【国際公開番号】WO2015020699
(87)【国際公開日】20150212
【審査請求日】2016年11月22日
(31)【優先権主張番号】13/963,914
(32)【優先日】2013年8月9日
(33)【優先権主張国】US
(73)【特許権者】
【識別番号】503148834
【氏名又は名称】シェブロン ユー.エス.エー. インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110000855
【氏名又は名称】特許業務法人浅村特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】デイヴィス、トレイシー、マーガレット
【審査官】
廣野 知子
(56)【参考文献】
【文献】
特表2007−516152(JP,A)
【文献】
特表2013−511462(JP,A)
【文献】
特表2012−522718(JP,A)
【文献】
特表2010−514662(JP,A)
【文献】
特開2010−168269(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
C01B 33/00−39/54
JSTPlus(JDreamIII)
JST7580(JDreamIII)
JSTChina(JDreamIII)
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
(1)ケイ素酸化物と、(2)アルミニウム酸化物とを、20〜40である(1)の(2)に対するモル比で含む、CHA型分子ふるいを調製する方法であって、
(a)モル比で以下の表に示される組成を含む水性反応混合物を形成するステップであって、
表中、
(1)Yは、Siであり;
(2)Wは、Alであり;
(3)nは、Wの原子価状態に等しく;
(4)Mは、周期表の1族および2族からの元素からなる群から選ばれ;
(5)Qは、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンであり ;かつ
(6)Aは、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンである
上記ステップ;ならびに
(b)この反応混合物を、前記分子ふるいの結晶
が形成されるまで、密閉した反応器中で、125℃〜200℃の間の温度で自己生産の圧力下に維持するステップ
を含む、CHA型分子ふるい調製方法。
【表1】
【請求項2】
A:Qのモル比が、1:1から10:1までである、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
A:Qのモル比が、1:1から7:1までである、請求項1に記載の方法。
【請求項4】
(Q+A)/SiO2のモル比が、0.25未満である、請求項1に記載の方法。
【請求項5】
合成
されたままの無水物の状態にて、モル比で以下の表に示される組成を有するCHA型分子ふるいであって、
表中、
(1)Yは、Siであり;
(2)Wは、Alであり;
(3)nは、Wの原子価状態に等しく;
(4)Qは、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンであり、 Q>0であり;
(5)Aは、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンであり、A >0であり;かつ
(6)Mは、周期表の1族および2族からの元素からなる群から選ばれる
CHA型分子ふるい。
【表2】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、概して、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンとの組み合わせでN,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオン構造指向剤を用いて、高シリカ(high−silica)CHA型分子ふるいを調製する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
分子のふるい(molecular sieves:モレキュラーシーブ)は、商業的に重要なクラスの結晶性材料である。これらは、明瞭なX線回折パターンによって実証される秩序だった細孔構造を伴う明確な結晶構造を有する。分子ふるいの結晶構造は、その様々な種類の特徴を示す空孔及び細孔を規定する。
【0003】
国際ゼオライト学会(IZA)により、構造コードCHAを有するものとして認定された分子ふるいが知られている。これらの材料は、二重6員環(D6R)およびケージを含む三次元の8員環(8MR)細孔/経路システム(pore/channel system)を有するものとして特徴付けられる。CHA型分子ふるい、特に、少なくとも10のSiO
2/Al
2O
3モル比(SAR)を有する高シリカCHA型分子ふるいが、メタノール−オレフィン接触転化、および窒素酸化物(NO
x)の選択的接触還元のような種々の商業的用途で利用されている。
【0004】
米国特許第4,544,538号明細書には、構造指向剤(structure directing agent:SDA)として、N−アルキル−3−キヌクリジノールカチオン、N,N,N−トリアルキル−1−アダマントアンモニウムカチオンおよび/またはN,N,N−トリアルキル−2−exoアミノノルボルナンカチオンの存在下で調製された、SSZ−13と称されるCHA型分子ふるいが開示されている。この特許によれば、SSZ−13は、典型的には8から50のSiO
2/Al
2O
3モル比を有する。
【0005】
CHA骨格タイプを有する全シリカの結晶性分子ふるいは、構造指向剤としてN,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンを用いて水熱的に合成されているが、この合成は、濃縮フッ化水素酸の存在を必要とする。M−J.Diaz−Cabanas et al.,“Synthesis and Structure of Pure SiO
2 Chabazite: the SiO
2 Polymorph with the Lowest Framework Density,” Chem.Commun.1998,1881−1882を参照されたい。
【0006】
米国特許第6,709,644号明細書には、SSZ−62と称され、0.5ミクロン以下の結晶サイズを有するSSZ−62が開示されている。SSZ−62は、10以上のSiO
2/Al
2O
3モル比を有すると報告されている。合成は、構造指向剤としてのN,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンの存在下、水酸化物媒体中で行われる。
【0007】
米国特許第7,148,172号明細書には、フッ化物イオンの存在下で合成される、100を超える(例えば150から2000までの)SiO
2:Al
2O
3モル比を有するCHA型アルミノケイ酸塩が開示されている。用いられる構造指向剤には、N−アルキル−3−キヌクリジノール、N,N,N−トリアルキル−1−アダマントアンモニウムカチオンおよびN,N,N−トリアルキル−exoアミノノルボルナンが包含される。
【0008】
米国特許出願公開第2007/0286798号には、N,N,N−トリメチル−2−アダマントアンモニウムカチオンを含む種々のSDA類を用いたCHA型分子ふるいの調製が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
しかし、これらのSDA類は、複雑で高コストを要し、従って、これらSDA類を用いたCHA型分子ふるいの合成を複雑で高コストを要するものとしている。このように高コストを要することで、商業的プロセスにおけるCHA型分子ふるいの有用性には限界が生じ得る。従って、高シリカCHA型分子ふるいの調製において、これらのコストが高いSDA類の使用を減らすかまたは除く方法を見つけることが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【0010】
これらの複雑でコストが高いSDA類の部分的な代替物としてN,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオン構造を用いて、CHA型分子ふるいを調製可能であることが、ここで見出された。
【0011】
発明の概要
一態様において、以下が提供される:
(1)少なくとも1種の4価元素の少なくとも1種の酸化物と、(2)3価元素の酸化物、5価元素の酸化物、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる1種以上の酸化物とを、少なくとも10である(1)の(2)に対するモル比で含む、CHA型分子ふるいを調製する方法であって、
(a)モル比で以下の表に示される組成を含む水性反応混合物を形成するステップであって、
表中、(1)Yは、周期表の4〜14族からの4価の元素およびそれらの混合物からなる群から選択され;(2)Wは、周期表の3〜13族からの3価および5価の元素ならびにそれらの混合物からなる群から選択され;(3)化学量論記号nは、組成記号Wの原子価状態に等しく(例えば、Wが3価のときn=3であり、Wが5価のときn=5である。);(4)Mは、周期表の1族および2族からの元素からなる群から選ばれ;(5)Qは、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンであり;かつ(6)Aは、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンである上記ステップ;ならびに(b)この反応混合物を、前記分子ふるいの結晶を形成するのに十分な結晶化条件下に維持するステップを含む、CHA型分子ふるい調製方法。
【表1】
【0012】
「少なくとも10のモル比」という言葉は、酸化物(2)が存在しないこと、すなわち酸化物(1)の酸化物(2)に対するモル比が無限大である場合を含む。この場合、分子ふるいは、本質的に全て、1種または複数種の5価元素の酸化物で構成される。
【0013】
また、以下が提供される:
合成後の(as−synthesized:合成されたままの、合成された直後の)無水物の状態にて、モル比で、以下の表に示される組成を有するCHA型分子ふるいであって、
表中、(1)Yは、周期表の4〜14族からの4価の元素およびそれらの混合物からなる群から選択され;(2)Wは、周期表の3〜13族からの3価および5価の元素ならびにそれらの混合物からなる群から選択され;(3)nは、Wの原子価状態に等しく;(4)Qは、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンであり、Q>0であり;(5)Aは、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンであり、A>0であり;かつ(6)Mは、周期表の1族および2族からの元素からなる群から選ばれるCHA型分子ふるい。
【表2】
【図面の簡単な説明】
【0014】
【
図1】
図1は、例1で調製された分子ふるいの粉末X線回折(XRD)パターンである。
【
図2】
図2は、例9で調製された分子ふるいの粉末X線回折パターンである。
【
図3】
図3は、例1の生成物の走査電子顕微鏡(SEM)画像である。
【0015】
発明の詳細な説明
序論
以下の用語は、本明細書を通じて用いられ、特にそれ以外の意味が示されない限り、以下の意味を有する。
【0016】
用語「周期表」は、IUPAC元素周期表の2007年6月22日付け版を指し、周期表の族の番号付け方式は、Chem.Eng.News,63(5),26−27(1985)に記載されているとおりである。
【0017】
CHA型分子ふるいの調製において、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオン構造指向剤が、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオン構造指向剤と組み合わせて用いられる。このSDA類は、それぞれ、以下の構造(1)および(2)によって表される。
【化1】
【0018】
SDAカチオンは、分子ふるいの形成に悪影響を与えないいかなるものであってもよいアニオンと結合される。代表的なアニオンには、周期表の17族からの元素のアニオン(例えば、フッ化物アニオン、塩化物アニオン、臭素化物アニオン、およびヨウ素化物アニオン)、ヒドロキシド(水酸化物アニオン)、アセタート(酢酸アニオン)、サルファート(硫酸アニオン)、テトラフルオロボラート(テトラフルオロホウ酸アニオン)、カルボキシラート(カルボン酸アニオン)等が包含される。
【0019】
一般に、CAH型分子ふるいは、(a)(1)少なくとも1種の4価の元素の酸化物の少なくとも1つの供給源;(2)任意選択で、3価の元素の酸化物、5価の元素の酸化物およびそれらの混合物からなる群から選ばれる1つ以上の酸化物の1つ以上の供給源;(3)周期表の1族および2族から選ばれる元素の少なくとも1つの供給源;(4)水酸化物イオン;(5)N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオン;(6)N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオン;ならびに(7)水を含む反応混合物を準備すること;そして(b)この反応混合物を、分子ふるいの結晶を形成するために十分な条件下に維持することによって調製される。
【0020】
形成された分子ふるいが中間体の分子ふるいである場合、このプロセスは、ヘテロ原子格子置換技法や酸浸出のような合成後の処理法を用いて、目標の分子ふるいを合成するための更なる工程を包含する。
【0021】
分子ふるいの形成原料である反応混合物の組成は、モル比で、以下の表1に示されるとおりであり、
表中、(1)Yは、周期表の4〜14族からの4価の元素およびそれらの混合物からなる群から選択され;(2)Wは、周期表の3〜13族からの3価および5価の元素ならびにそれらの混合物からなる群から選択され;(3)nは、Wの原子価状態に等しく;(4)Mは、周期表の1族および2族からの元素からなる群から選ばれ;(5)Qは、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンであり;かつ(6)Aは、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンである。
【表3】
【0022】
反応混合物においてN,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオン構造指向剤(A)を用いることにより、反応混合物中に使用されるN,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオン構造指向剤(Q)の量を減らすことが可能になり、その結果大幅なコストの削減につながる。典型的には、反応混合物のA:Qモル比は、0.5:1以上であり、例えば、1:1から10:1まで、1:1から7:1まで、または1:1から5:1までである。
【0023】
複数の実施形態において、反応混合物の(Q+A)/SiO
2のモル比は、0.25未満であり、例えば、0.10から0.25未満、0.12から0.25未満、0.14から0.25未満、0.10から0.21まで、0.12から0.21まで、または0.14から0.21までである。
【0024】
サブの一実施形態にて、CHA型分子ふるいの形成原料である反応混合物の組成は、モル比で、以下の表2に示されるとおりであり、
表中、(1)Mは、周期表の1族および2族からの元素からなる群から選ばれ;(2)Qは、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンであり;かつ(3)Aは、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンである。
【表4】
【0025】
本明細書に記載された各実施形態について上述のとおり、Yは、周期表の4〜14族からの4価元素からなる群から選択される。サブの一実施形態において、Yは、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、チタン(Ti)およびこれらの混合物からなる群から選ばれる。サブの別の実施形態において、Yは、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)およびこれらの混合物からなる群から選ばれる。サブの別の実施形態において、Yは、Siである。組成記号Yについて選ばれる元素の供給源には、WおよびYについて選択された元素(単数種または複数種)の酸化物、水酸化物、アセタート、オキサラート、アンモニウム塩およびサルファートが包含される。サブの一実施形態において、組成記号Yについて選択される元素(単数種または複数種)の各供給源は、酸化物である。
【0026】
YがSiである場合、本明細書で有用なSiの供給源には、溶融シリカ、沈降シリカ、シリカヒドロゲル、ケイ酸、コロイドシリカ、テトラアルキルオルトケイ酸塩(例えば、テトラエチルオルトケイ酸塩)、シリカ水酸化物が包含される。CHA型分子ふるいの高シリカ形態を製造するために有用なシリカ供給源の例には、溶融シリカ(例えば、CAB−O−SIL(登録商標)M−5、Cabot社)および水和シリカ(例えば、HI−SIL(商標)233、PPGインダストリー)ならびにそれらの混合物が含まれる。固形物含量が30〜40重量%SiO
2であるコロイドシリカ類はまた有用であり、これらの材料は、少量のナトリウムまたはアンモニウムカチオンによって安定化されていてよい。さらには、望ましい本発明のSiO
2/Al
2O
3比を与えるために、アルミニウムがシリカゾル中に分散されたコロイド状ゾルを用いてもよい。本明細書にて有用なGeの供給源には、ゲルマニウム酸化物およびゲルマニウムエトキシドが含まれる。
【0027】
本明細書に記載された各実施形態について、Wは、周期表の3〜13族からの3価および5価の元素からなる群から選択される。サブの一実施形態において、Wは、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、およびこれらの混合物からなる群から選ばれる。サブの別の実施形態において、Wは、B、Alおよびこれらの混合物からなる群から選ばれる。サブの一実施形態において、Wは、Alである。組成記号Wについて選ばれる元素の供給源には、Wについて選択された元素(単数種または複数種)の酸化物、水酸化物、アセタート、オキサラート、アンモニウム塩およびサルファートが包含される。
【0028】
アルミニウム酸化物の典型的な供給源には、アルミン酸塩、アルミナ、ならびに、AlCl
3、Al
2(SO
4)
3、Al(OH)
3、カオリンクレイ、および他のゼオライトのようなアルミニウム化合物群が包含される。アルミニウム酸化物の供給源の例は、ゼオライトLZ−210(Yゼオライトの一種)である。
【0029】
本明細書にて上記したように、各実施形態について、反応混合物は、周期表の1族および2族から選ばれる元素(本明細書ではMと称される)の少なくとも1種の供給源を用いて形成することができる。サブの一実施形態において、反応混合物は、ナトリウム(Na)の供給源を用いて形成される。結晶化プロセスに悪影響を及ぼさないM含有化合物のいかなるものも、好適に用いられる。このような1族および2族の元素の供給源には、それら元素の酸化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、シュウ酸塩、クエン酸塩、および酢酸塩が含まれる。
【0030】
本明細書にて上記した各実施形態について、分子ふるいの反応混合物は、複数の供給源によって供給され得る。また、2種以上の反応成分が、1つの供給源によって提供され得る。
【0031】
反応混合物は、バッチ方式あるいは連続方式のいずれによって準備されてもよい。本明細書に記載された分子ふるいの結晶サイズ、結晶形態および結晶化時間は、反応混合物の性質および結晶化条件によって変化し得る。
【0032】
結晶化処理および合成後の処理
実際上、CHA型分子ふるいは、(a)上記のように反応混合物を準備すること、および(b)この反応混合物を、分子ふるいの結晶を形成するために十分な結晶化条件下に維持することによって調製される。
【0033】
反応混合物は、分子ふるいが形成されるまで高められた温度で維持される。水熱結晶化は、通常加圧下にて行われ、また、通常オートクレーブ中にて行われ、その結果、反応混合物は、125℃〜200℃の間の温度で自己生産の圧力に晒される。
【0034】
反応混合物は、結晶化工程の間に穏和なかき混ぜ(stirring)または撹拌(agitation)にかけてよい。本明細書に記載された分子ふるいが、不純物、例えば、非晶性物質、および/または他の不純物(例としては有機物である炭化水素)を含み得ることは、当業者によって理解されるであろう。
【0035】
水熱結晶化工程の間、分子ふるいの結晶は、同時に反応混合物からの核形成を行うことが可能である。種(seed:シード)材料としての分子ふるいの結晶の使用は、完全な結晶化が起こるのに必要な時間を減少させる点において有利であり得る。さらに、種付け(seeding:シーディング)により、いかなる望ましくない相の上においても、分子ふるいの核形成および/または形成を促進することで得られる生成物の純度を増大させることが可能になる。種として用いられるとき、種結晶は、反応混合物中にて使用されるYO
2の重量に基づいて1〜10重量%の量で添加される。
【0036】
いったん分子ふるいの結晶が生成されると、ろ過等の標準的な機械的分離技法によって反応混合物から固体生成物が分離される。結晶は、水洗され、次いで乾燥されることで、合成後の分子ふるい結晶(as−synthesized molecular sieve crystals)が得られる。乾燥工程は、大気圧下または減圧下にて行われてよい。
【0037】
CHA型分子ふるいは、合成後の状態で用いられるが、典型的には熱処理(か焼)される。用語「合成後の」(“as−synthesized”:合成されたままの、合成された直後の)は、結晶化後であって、その有機材料の除去の前の形態である分子ふるいを指す。有機材料は、好ましくは、酸化的雰囲気(例えば、空気、0kPaより大きい酸素分圧を有する気体)中で、分子ふるいから有機物を除くのに十分な温度(当業者によって容易に決定可能である)で、熱処理(例えば、か焼)によって除去することができる。また、米国特許第6,960,327号明細書に記載されているような光分解技法(例えば、分子ふるいから選択的に有機化合物を除くのに十分な条件下で可視光より短い波長を有する光または電磁放射線に、SDA含有分子ふるい生成物を暴露すること)によって、有機材料を除去することもできる。
【0038】
続いて、CHA型分子ふるいは、1時間から48時間までの範囲あるいはそれより長い時間の期間にわたって、200℃から800℃までの範囲の温度で、ストリーム中、空気中または不活性ガス中でか焼することができる。通常、余分な骨格カチオン(例えばNa
+)をイオン交換または他の公知の方法によって除去し、それを水素イオン、アンモニウムイオンまたは他の好ましいイオンのいずれかで置換することが望ましい。
【0039】
分子ふるいの特徴付け
本明細書に開示された方法に従って調製されたCHA型分子ふるいは、合成後、無水状態で、モル比として表3に記載されたとおりの組成を有し、
表中、(1)Yは、周期表の4〜14族からの4価の元素およびそれらの混合物からなる群から選択され;(2)Wは、周期表の3〜13族からの3価および5価の元素ならびにそれらの混合物からなる群から選択され;(3)nは、Wの原子価状態に等しく;(4)Qは、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンであり、Q>0であり;(5)Aは、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンであり、A>0であり;かつ(6)Mは、周期表の1族および2族からの元素からなる群から選ばれる。
【表5】
【0040】
サブの一実施形態において、本明細書に開示された方法に従って調製されたCHA型分子ふるいは、合成後、モル比として表4に記載されたとおりの組成を有し、
表中、(1)Qは、N,N,N−トリメチル−1−アダマントアンモニウムカチオンであり、Q>0であり;(2)Aは、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルピペリジニウムカチオンであり、A>0であり;かつ(3)Mは、周期表の1族および2族からの元素からなる群から選ばれる。
【表6】
【0041】
本明細書に記載された方法に従って調製されたCHA型分子ふるいは、AEI骨格型の材料のような不純物を実質的に含まない。これらの不純物の存在は、試料の粉末X線回折パターンの分析によって、測定し、定量化できる。
【0042】
表5のX線回折パターン線は、本明細書に記載された方法に従って得られた合成後のCHA型分子ふるいの代表例である。その回折パターンの僅かな変動は、特定の試料の骨格種の格子定数の変化に因るモル比の変動から生じ得る。さらに、十分に小さい結晶は、ピークの形および強度に影響し、ピークの大きな広がりにつながる。回折パターンの僅かな変動はまた、調製に用いられた有機化合物の変化、および試料ごとのY/Wモル比の変動から生じ得る。か焼もまた、XRDパターンの僅かなシフトの原因となり得る。これらの小さい摂動群にもかかわらず、基本的な結晶格子構造は、変更ないままである。
【表7】
(a)±0.20
(b)提供された粉末XRDパターンは、相対強度スケールに基づくものであり、ここで、X線パターンの最も強い回折線が100の値に割り当てられている。表中、W=weak(弱い、>0であり<20まで)、M=medium(中程度、20〜40の間)、S=strong(強い、40〜60の間)、VS=very strong(>60であり≦100まで)
【0043】
表6のX線回折パターン線は、本明細書に記載された方法に従って製造された、か焼済みCHA型分子ふるいの代表例である。
【表8】
(a)±0.20
(b)提供された粉末XRDパターンは、相対強度スケールに基づくものであり、ここで、X線パターンの最も強い回折線が100の値に割り当てられている。表中、W=weak(弱い、>0であり<20まで)、M=medium(中程度、20〜40の間)、S=strong(強い、40〜60の間)、VS=very strong(>60であり≦100まで)
【0044】
本明細書にて提供されている粉末X線回折パターンは、標準的な技法によって収集された。その放射線は、CuK
α放射線であった。θがブラッグ角である場合の2θの関数として、そのピークの高さおよび位置を、ピークの相対強度およびd(記録された回折線に相当する面間隔であり、計算可能である)から読み取った。
【実施例】
【0045】
以下に例証される諸例は、非限定的なものとして意図される。
【0046】
例1−12
モル比で、以下の表7に示される組成を有するゲル組成物(すなわち反応混合物)を調製することによって分子ふるいを合成した。ケイ素酸化物の供給源は、ケイ酸ナトリウムまたはHi−Sil(商標)233水和シリカ(PPGインダストリー社)のいずれかであった。アルミニウム酸化物の供給源は、ゼオライトLZ−210(ユニオンカーバイド社)またはF−2000アルミニウム水酸化物(Reheis社)であった。得られたゲルを、Parrオートクレーブ内に配置し、オーブン中140℃で加熱した。オートクレーブを7日間43rpmで回転させた。次いでオートクレーブを取り出し、室温で冷却した。次いで固形物をろ過で除き、脱イオン水で完全に水洗した。
【表9】
【0047】
合成後の生成物の全てを、X線回折によって分析した。
図1は、例1にて調製された生成物の粉末XRDパターンであり、これは、純粋な相のCHA骨格型材料に典型的なパターンを示している。
図2は、例9にて調製された生成物の粉末XRDパターンであり、これは、生成物がCHA骨格型およびAEI骨格型の混合物であることを実証している。
図3は、例1の生成物のSEM画像を示す。
【0048】
本明細書および添付の特許請求の範囲について、それと逆の事項が示されない限り、本明細書および特許請求の範囲に用いられた量、パーセントまたは割合、および他の数値を表す全ての数は、全ての場合において、用語「約」によって修飾されているものと理解すべきである。従って、それと逆の事項が示されない限り、この明細書および添付の特許請求の範囲に記載された数値パラメータ群は、得ることが求められる所望の特性次第で変化し得る概数である。本明細書および添付の特許請求の範囲にて用いるとき、単数形“a”、“an”および“the”は、特に明白に1つの指示対象に限定されていない限りは、複数の指示を包含する。本明細書にて用いるとき、用語“include”(「含む」)およびその文法上の変形物は、非限定的であることが意図され、その結果、リストにおける項目群の記載は、そのリストの項目群に置換あるいは添加され得る他の同様の項目群の排除を意図するものではない。本明細書にて用いるとき、用語“comprising”(「含む」)は、その用語に続いて同定される要素群または工程群を包含することを意味するが、そのような要素群または工程群のいずれも排他的でなく、一実施形態は他の要素群または工程群を包含し得る。
【0049】
それと逆の事項が示されない限り、要素群、材料群または他の要素群の上位概念(genus)であって、そこから個別の成分または成分の混合物が選択されうるような上位概念の記載は、リストにある少し下位概念に属する成分群およびそれらの混合物の全ての可能な組み合わせを包含するものと意図される。
【0050】
特許可能な範囲は、特許請求の範囲によって規定され、当業者にとって想起される他の例を包含し得る。そのような他の例が特許請求の範囲の文言と相違しない構造的な要素群を有する場合、あるいは、そのような他の例が特許請求の範囲の文言に対する些細な相違を有する同等の構造的要素群を包含する場合には、当該他の例は特許請求の範囲内であることが意図される。本願明細書と不整合ではない限度内において、その中で言及される全ての引用物は、参照することによってここに援用される。