(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明の実施形態である加圧装置10について図面を参照して説明する。はじめに、本実施形態の加圧装置10での加圧の原理について
図1を参照して説明する。本実施形態における被加工物100は、熱硬化性の接着剤を用いて接着される複数の電子部品112を含む。例えば、被加工物100は、
図1に示すように、基板110と、当該基板110上に配置された回路素子等の電子部品112と、基板110および電子部品112の間に介在するシート状の接着剤114と、を含む。基板110の表面には所定のパターンで配線111が形成されている。電子部品112の基板110に対向する面(図においては下面)には、電気的な接点となるバンプ113と呼ばれる突起が設けられている。接着剤114は、熱硬化性の接着剤からなり、電子部品112と基板110との間に配置されている。接着剤114は、加圧・加熱を開始する前の初期段階では、所定の形状を有したシート状である。接着剤114は、所定のガラス転移温度Tgを越えると軟化して流動性を有し、その後、更に温度上昇して所定の硬化温度Tcを越えると不可逆的に硬化する。
【0015】
基板110に電子部品112を接合する際には、この被加工物100を上型および下型で挟持して加圧するとともに、加熱する。加熱することで、接着剤114は、ガラス転移温度Tgを越えて、軟化する。さらに、加熱を続けると、接着剤114は、硬化温度Tcに達して硬化する。この接着剤114が軟化した後、硬化するまでの期間中、被加工物100を加圧し続けることで、配線111およびバンプ113で挟まれた接着剤114の部分が圧縮され、バンプ113と配線111の間が導通状態となる。
【0016】
ここで、電子部品112および接着剤114を、その周囲(図においては上方および側方)から均等に加圧するために、本実施形態では、上型20に介在パッド24を設けている。介在パッド24は、被加工物100の形状に応じて変形する柔軟性を有している。かかる介在パッド24を介して被加工物100を加圧した場合、
図1(c)に示すように、介在パッド24が、電子部品112や接着剤114の側方へと回り込む。そして、上型20からの加圧力が、介在パッド24を介して、電子部品112および接着剤114の上方だけでなく、側方にも伝達される。
【0017】
接着剤114が硬化した後は、表裏の熱膨張差から生じる被加工物100の反りを防止するために、被加工物100を加圧した状態を保ちながら被加工物100を冷却する。そして、被加工物100の温度が、取り出し可能な温度まで低下すれば、加圧を解除して、被加工物100を型から取り出す。
【0018】
次に、こうした加圧を実現する加圧装置10について説明する。
図2は、本実施形態の加圧装置10の構成を示す図である。この加圧装置10は、被加工物100が載置される載置台12と、載置台12の上側に配された上側ユニット14と、載置台12の下側に配された下側ユニット16と、これらの駆動を制御する制御部18と、を備えている。
【0019】
載置台12は、被加工物100が載置される台である。この載置台12は、上側ユニット14および下側ユニット16から付与される加圧力および後述する加熱用下型50から付与される熱に耐えられるのであれば、その構成は、特に限定されない。しかし、処理時間を短縮するためには、載置台12は、加熱用下型50からの熱が迅速に伝わる高伝熱性材料から成ることが望ましい。高伝熱性材料としては、例えば、銅(400W/mK)や銅を含む合金であり、株式会社守谷刃物研究所社製のSTC(登録商標、630W/mK)や、株式会社サーモグラフィティクス社製のコンポロイド(商品名、1700W/mK)等を用いることができる。
【0020】
また、後に詳説するように、本実施形態では、被加工物100を真空状態とする。載置台12は、この真空による推力に耐えられる程度の強度を有することが望ましく、望ましくは5mm以上、より望ましくは8mm以上、より望ましくは10mm以上の厚みを有する。ただし、厚みが過度に大きいと、載置台12の体積、ひいては、熱容量が増加するため、加熱時に要する熱量や、冷却時に要する冷却熱量が増加し、加熱・冷却に要する時間が増加する。そこで、載置台12は、熱容量を押さえつつも、真空による推力に耐えられる強度が得られる厚み、例えば、10mm〜20mm程度とすることが望ましい。
【0021】
上側ユニット14は、載置台12の上側に配されており、ベース部材22と、被加工物100を加圧する上型20と、上型20と被加工物100の間に介在する介在パッド24と、介在パッド24を支持する枠体26と、載置台12と密着することで密閉空間を形成するサイド型28と、を備えている。
【0022】
ベース部材22は、図示しない昇降機構により昇降可能となっており、このベース部材22が昇降することで、上型20やサイド型28、枠体26が昇降する。このベース部材22の昇降は、制御部18により制御される。上型20は、被加工物100を上側から加圧するための型であり、被加工物100の真上に配置される。上型20は、ベース部材22に固着されており、ベース部材22と連動して昇降する。この上型20の内部には、冷媒が流れる冷媒流路30aが形成されている。図示しない冷却装置は、冷媒が、当該冷媒流路30aを通るように循環させている。すなわち、冷却装置は、冷媒を冷媒流路30aに供給する。冷媒は、冷媒流路30aを流れる過程で、上型20から熱を吸収して温度上昇する。冷却装置は、冷媒流路30aから放出された冷媒を回収して冷却したうえで、冷却された冷媒を再度、冷媒流路30aに送る。なお、
図2から明らかな通り、上型20には、加熱手段は、設けられておらず、上型20は、加熱されることなく、冷却のみが施される。
【0023】
上型20の周囲には、介在パッド24を支持する枠体26が設けられている。枠体26は、バネ部材32を介してベース部材22に取り付けられており、上型20に対して僅かに上下できるようになっている。介在パッド24は、被加工物100と上型20との間に介在する弾性体で、被加工物100の形状に応じて柔軟に変形する柔軟層34と、柔軟層34と被加工物100との間に介在する断熱層36と、を備えている。柔軟層34は、上型20の圧力を均等に伝達するためのもので、ゴムなど柔軟な材料からなる。この柔軟層34は、一層構造でもよいが、複数構造でもよい。例えば、柔軟層34は、流動性が高い一方で、反発弾性率が低い材料からなる流動性柔軟層と、シリコンスポンジ、フッ素スポンジ等の多孔質材料からなる多孔質柔軟層と、を備えた二層構造としてもよい。流動性柔軟層の材料としては、例えば、(株)ジェルテック製、高ダンピング熱伝導ゲルシート「αGEL(商標)」や、リケンテクノス(株)製、熱可塑性エラストマー、鬼怒川ゴム工業(株)超軟質エラストマー「フレンジェル(商品名)」などを用いることができる。
【0024】
断熱層36は、被加工物100と柔軟層34との間に介在する層で、被加工物100からの熱が柔軟層34に伝達することを阻害するする。この断熱層36は、例えば、ガラスウールやセラミックウール、耐熱フェルト等の熱伝導率の低い材料からなる繊維素材からなる。断熱層36は、断熱性を確保するためには、厚いことが望ましい。一方で、断熱層36は、上型20からの圧力を被加工物100に均一に伝達するために、被加工物100の形状に応じて変形する柔軟性も必要であり、過度に厚くすることは出来ない。そのため、断熱層36の厚みは、適度な断熱性と柔軟性とを両立できる厚み、例えば、2mm〜10mm、望ましくは3mm〜6mm程度である。
【0025】
なお、断熱層36を直接、被加工物100に接触させると、断熱層36が被加工物100に貼り付き、両者を離間させることが困難になる。そのため、被加工物100を加圧する際には、さらに、断熱層36と被加工物100との間には、貼り付き防止用の中間シート38を配置する。中間シート38は、柔軟性を有した薄いシート状部材で、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂や、ポリイミド等からなる。この中間シート38は、原則として、1回〜数回の使用の度に廃棄、交換される。
【0026】
サイド型28は、上型20の周囲に配されており、エアシリンダ40を介してベース部材22に取り付けられている。サイド型28は、載置台12の上面に密着することで、当該サイド型28、載置台12、上型20、枠体26で囲まれる密閉空間を形成する。この密閉空間を形成するためにサイド型28の底面には、シール部材28aが設けられている。また、サイド型28は、エアシリンダ40を駆動することで、上型20に対して昇降可能となっている。サイド型28の内部にも、冷媒が流れる冷媒流路30bが形成されており、冷却装置が、当該冷媒流路30bを通るように、冷媒を循環させることでサイド型28が冷却される。
【0027】
サイド型28には、さらに、水平方向に貫通する吸引孔42も形成されている。この吸引孔42は、吸引ポンプ44に連通されている。そして、サイド型28を載置台12に密着させて密閉空間を形成した状態で、吸引ポンプ44を駆動すれば、密閉空間の空気が吸引され、密閉空間が真空状態となる。こうした吸引ポンプ44やエアシリンダ40の駆動は、制御部18により制御される。なお、本実施形態では、サイド型28を、エアシリンダ40を介してベース部材22に取り付けているが、サイド型28の上型20に対する昇降を禁止または許容できるのであれば他の構成でもよい。例えば、エアシリンダ40に替えて、油圧シリンダや電動シリンダを用いてもよい。
【0028】
下側ユニット16は、加熱用下型50と、冷却用下型52と、切り替え機構(図示せず)と、を備えている。切り替え機構は、加熱用下型50の上部に、冷却用下型52を挿入することで、加熱用下型50と、冷却用下型52とを使い分ける機構である。加熱用下型50は、被加工物100を加熱しつつ加圧するための型で、その内部には、加熱手段として機能するヒータ54が設けられている。ヒータ54は、加熱用下型50を所定の処理温度Tpまで加熱でき、また、規定のプレス荷重Ppに耐えられるものであれば、特に、限定されない。本実施形態では、ヒータ54として、発熱線(ニクロム線)を棒状のセラミックに巻き付けたものを耐熱性パイプの中に挿入してカートリッジ化したカートリッジヒータを用いている。制御部18は、ヒータ54の駆動を制御して、加熱用下型50を所定の処理温度Tpに維持する。ここで、処理温度Tpは、被加工物100、特に、被加工物100の一部を構成する熱硬化性の接着剤114を、当該接着剤114の硬化温度Tcよりも高い温度まで加熱できる温度である。例えば、硬化温度Tcが150〜200度の場合、処理温度Tpは、硬化温度Tcよりも十分に高い温度、例えば、300度に設定される。
【0029】
加熱用下型50の周囲には、第一断熱部材56が設けられており、ヒータ54の熱が側方に漏れることが防止されている。また、ヒータ54の下部には、第二断熱部材58が設けられており、ヒータ54の熱が下方に漏れることが防止されている。加熱用下型50は、この第二断熱部材58により上下に仕切られており、第二断熱部材58より下側には、冷媒が流れる冷媒流路30dが形成されている。冷媒は、当該冷媒流路30dを通るように、冷却装置により循環される。
【0030】
冷却用下型52は、被加工物100を冷却しつつ加圧するための型で、その内部には、冷媒が流れる冷媒流路30eが形成されている。冷媒は、当該冷媒流路30eを通るように冷却装置により循環される。また、冷却用下型52の底面には断熱部材60が設けられている。かかる断熱部材60を設けることで、冷却用下型52を加熱用下型50の真上に配した際に、加熱用下型50からの伝熱が防止される。
【0031】
切り替え機構は、処理の進行状況に応じて、冷却用下型52を移動させる。具体的には、切り替え機構は、冷却用下型52を水平移動させる水平移動機構を有している。水平移動機構は、冷却用下型52を、加熱用下型50の真上位置と、加熱用下型50から水平方向にずれた位置との間で移動させる。また、この加圧装置10には、上側ユニット14を昇降させる昇降機構が設けられおり、上側ユニット14を、下側ユニット16に向かって下降させ、載置台12を加熱用下型50または加熱用下型50の上に位置する冷却用下型52に押し当てて、被加工物100を加圧する。つまり本実施形態では、加熱用下型50の上に冷却用下型52が位置する状態で、上側ユニット14を下降させることで、被加工物100を冷却しつつ加圧でき、加熱用下型50の上に冷却用下型52が存在しない状態で、上側ユニット14を下降させることで、被加工物100を加熱しつつ加圧できる。別の見方をすれば、本実施形態では、昇降機構で上側ユニット14を昇降させることで、加圧の実行・解除が制御され、水平機構で冷却用下型52を水平移動させることで、加圧に寄与する下型を加熱用下型50または冷却用下型52に切り替えることができる。かかる昇降機構および水平機構の駆動は、制御部18により制御される。
【0032】
次に、こうした加圧装置10での被加工物100の加圧処理について
図3〜
図7を参照して説明する。被加工物100を加圧する際には、予め、加熱用下型50をヒータ54で加熱し、所定の処理温度Tpまで加熱しておく。また、上型20や、サイド型28、冷却用下型52は、冷媒を用いて冷却しておき、被加工物100に設けられた接着剤114のガラス転移温度Tgよりも十分に低い温度、例えば常温にしておく。
【0033】
被加工物100が載置された載置台12が、上型20の真下に搬送されれば、制御部18は、まず、
図3に示すように、上側ユニット14を下降、または、載置台12を上昇させて、サイド型28の底面を載置台12に密着させる。このとき、上型20や介在パッド24が被加工物100に当接しないように、制御部18は、エアシリンダ40に空気圧を付与して伸長させ、サイド型28を上型20等よりも下方に突出した状態にしておく。また、このとき、加熱用下型50および冷却用下型52は、いずれも、載置台12から離間している。したがって、この状態において、被加工物100には、加圧力は付与されていない。
【0034】
サイド型28の底面を載置台12に密着させることで、サイド型28、上型20、枠体26、載置台12で囲まれる密閉空間が形成される。この状態になれば、制御部18は、吸引ポンプ44を駆動して、密閉空間の内部の空気を吸引し、密閉空間を真空状態とする。これにより、被加工物100の周囲の空気が除去される。接着剤114が軟化する前に接着剤114の周囲の空気が除去されることで、軟化後の接着剤114の内部に空気が入り込むエア噛みが効果的に防止される。
【0035】
密閉空間の真空吸引が完了すれば、制御部18は、エアシリンダ40の圧力を解除し、エアシリンダ40を収縮可能にする。エアシリンダ40が収縮可能になると、上型20およびサイド型28は、真空圧により(密閉空間と外部空間との圧力差により)、被加工物100が載置台12に向かって相対移動する。そして、最終的に、介在パッド24が被加工物100に接触し、被加工物100は、真空圧に応じた荷重Pbで予備加圧されることになる。この予備加圧の荷重Pbは、後述する本加圧で付与されるプレス荷重Ppよりも十分に低い。また、これまでの説明や
図4から明らかな通り、この予備加圧は、載置台12と加熱用下型50とが離間した状態で行われる。換言すれば、予備加圧は、被加工物100が加熱されず、接着剤114が軟化する前の状態で行われる。かかる予備加圧を行うことで、介在パッド24は、被加工物100の表面形状に応じて変形し、被加工物100の周囲、特に、軟化前の接着剤114の周囲に回り込んで、被加工物100をホールドする。
【0036】
予備加圧により、介在パッド24が、被加工物100に密着することに、続いて、制御部18は、
図5に示すように、載置台12が真空吸着された上側ユニット14を下降させて、載置台12を加熱用下型50で下側から押圧する本加圧を実施する。本加圧において、被加工物100は、上型20および加熱用下型50で挟持され、規定のプレス荷重Ppで加圧される。また、既述した通り、加熱用下型50は、予め、所定の処理温度Tpまで加熱されている。この加熱用下型50の熱は、伝熱性に優れた載置台12を介して被加工物100に伝達される。つまり、本加圧において、被加工物100は、規定のプレス荷重Ppで加圧されつつ規定の処理温度Tpまで加熱される。この本加圧を所定の時間実行することで、被加工物100に設けられた熱硬化性の接着剤114は、ガラス転移温度Tgに達して軟化した後、硬化温度Tcに達して、硬化する。そして、これにより、電子部品112と基板110とが接着される。なお、このとき、加熱用下型50の熱は、載置台12、被加工物100を介して介在パッド24にも伝達される。ただし、介在パッド24の下部には断熱層36が設けられているため、柔軟層34には、熱は伝わりにくく、柔軟層34やその上に位置する上型20が過度に高温になることが防止されている。
【0037】
十分な時間、本加圧が実行できれば、制御部18は、
図6に示すように、上側ユニット14を上昇させて、加熱用下型50を載置台12から離間させる。加熱用下型50と載置台12との間に十分な空間が形成できれば、制御部18は、
図7に示すように、載置台12と加熱用下型50の間に冷却用下型52を配置する。そして、この状態で、載置台12とともに上側ユニット14を下降させて、被加工物100を規定の冷却時荷重Pcで加圧する。このとき、冷却用下型52は、冷媒により予め冷却されているため、被加工物100を迅速に冷却することができる。また、冷却期間中、被加工物100は、冷却用下型52および上型20で挟持され、加圧されているため、熱膨張差に起因する反り等が効果的に防止される。なお、冷却時荷重Pcは、被加工物100の変形を防止できればよいため、プレス荷重Ppよりも小さくてもよい。被加工物100が、取り出し可能な温度(例えば常温)まで冷却できれば、制御部18は、載置台12とともに上側ユニット14を上昇させて、加圧を解除する。また、制御部18は、エアシリンダ40に圧力を付与して当該エアシリンダ40を伸長させることで、上型20を上昇させ、介在パッド24と被加工物100とを離間させる。また、吸引孔42を大気解放し、密閉空間を大気圧にする。そして、最後に、上側ユニット14をさらに上昇させて、上型20ユニットを載置台12から離間させれば、載置台12を、所定の搬出位置(図示せず)へと搬送する。
【0038】
図8は、加圧処理の実行中における被加工物100の周辺環境の圧力、被加工物100の温度、被加工物100に付与される荷重の変化の一例を示すグラフである。これまでの説明で明らかな通り、加圧処理の開始時(時刻t0)において、被加工物100の周辺環境の圧力は、大気圧Paである。また、時刻t0において、被加工物100の加熱や加圧は開始されていないため、被加工物100の温度は常温Tnであり、加圧力はゼロである。
【0039】
その後、時刻t1において真空吸引が開始され、真空吸引完了後に、エアシリンダ40の圧力を解除すると、時刻t2において、被加工物100には、真空圧Pvに応じた荷重Pbが付与され、予備加圧される。そして、時刻t3において、加熱済みの加熱用下型50で載置台12に押圧する本加圧を開始する。本加圧を開始すると、被加工物100の温度は、急激に上昇し、比較的、短時間で、規定の処理温度Tpに達する。この処理温度Tpは、被加工物100に設けられた接着剤114のガラス転移温度Tgや、接着剤の硬化温度Tcよりも高い。したがって、被加工物100は、処理温度Tpに達する過程で、ガラス転移温度Tgに達して軟化し、その後、硬化温度Tcに達して、硬化する。
【0040】
また、加熱用下型50で押圧することで、時刻t4において、被加工物100は、所定のプレス荷重Ppで加圧される。このプレス荷重Ppは、電子部品112のバンプ113と基板110の配線との導通を得るのに十分な大きさで、例えば、20トンである。その後、時刻t5になれば、本加圧を終了する。すなわち、時刻t5において、制御部18は、上側ユニット14を上昇させて、被加工物100の加圧を解除する。
【0041】
上側ユニット14を上昇させると、被加工物100に付与される加圧力は、急激に低下する。一方で、自然冷却では、被加工物100の温度は、低下しにくく、被加工物100は、処理温度Tpのままである。そこで、被加工物100を冷却するために、制御部18は、加熱用下型50に替えて、冷却用下型52で被加工物100を押圧し、冷却する。時刻t6において、冷却用下型52が載置台12に接触すると、被加工物100は、急激に温度低下する。また、上側ユニット14が下降することで、被加工物100の加圧力も上昇し、被加工物100の反り等の変形が効果的に防止される。このとき付与される冷却時荷重Pcは、例えば、10トン程度である。
【0042】
被加工物100を常温まで冷却できれば、制御部18は、上側ユニット14を上昇させて、被加工物100の加圧を解除する。その後は、被加工物100の周囲を大気圧解放する。そして、時刻t8において、被加工物100の周囲が大気圧に戻れば、上側ユニット14を被加工物100から離間して、載置台12ごと被加工物100を排出位置に搬送させる。
【0043】
以上の説明から明らかな通り、本実施形態では、被加工物100の加圧に寄与する下型を、予め加熱された加熱用下型50と、予め冷却された冷却用下型52と、で切り替えている。かかる構成とする理由について、従来技術と比較して説明する。
【0044】
従来の加圧装置10でも、上型20と下型とで被加工物100を挟持し、必要に応じて、被加工物100を加熱や冷却していた。従来の加熱装置では、被加工物100を加熱および冷却するために、下型の内部に、加熱手段と冷却手段の双方を設け、下型を必要に応じて加熱および冷却していた。この場合、冷却された下型を、所定の処理温度Tpまで加熱する時間、および、加熱された下型を所定の冷却温度まで冷却する時間が必要となる。その結果、従来の加圧装置10では、処理時間の長期化を招いていた。特に、加圧装置10では、高い圧力に耐えるために、下型は、厚みが大きく、熱容量の大きい形状にならざるを得ない。かかる大型の下型の加熱および冷却には時間がかかっていた。
【0045】
もちろん、加熱能力の高いヒータを用いることで加熱に要する時間を短縮することはできる。しかし、こうしたヒータは、高価でコストの増加を招く。また、一度冷却した下型を加熱温度まで短時間で上昇させようとすると、上昇の過程で、希望の処理温度Tpを越える、オーバーシュートが生じやすかった。その結果、被加工物100が、一時的とはいえ、過剰に加熱されるおそれがあった。
【0046】
本実施形態では、既述した通り、予め加熱した加熱用下型50と、予め冷却した冷却用下型52とを、処理の進行状況に応じて切り替えている。その結果、下型を加熱または冷却するための時間が不要であり、被加工物100を迅速に加熱および冷却できる。すなわち、
図8を参照して説明した通り、本実施形態では、加熱用下型50が載置台12に接触すれば(
図8の時刻t3前後を参照)、被加工物100は、迅速に温度上昇し、冷却用下型52が載置台12に接触すれば(
図8の時刻t6前後を参照)、被加工物100は、迅速に温度低下する。換言すれば、本実施形態によれば、下型を、希望の温度まで加熱したり冷却したりする時間が不要となる。その結果、加圧処理に要する時間を大幅に低減できる。
【0047】
また、下型を加熱用と冷却用とに分けることにより、エネルギー損失を低減でき、また、蒸気の発生を低減できる。すなわち、一つの下型を加熱および冷却する従来の加圧装置10では、熱容量の大きな下型を加熱および冷却する必要があり、エネルギーの損失が大きかった。また、下型を加熱した後に、冷媒として水等の液体を流して冷却しようとすると、液体が蒸気になり、冷媒流路内の圧力上昇等を招く。こうした問題を防止するために、液体の供給に先だって冷却用のエアを流したり、液体を供給後に発生した蒸気を一時的に貯留冷却するためのバッファを別途設けたりする必要があり、構成の複雑化を招いていた。本実施形態では、高温部材の内部に冷媒を流す必要はないため、蒸気の発生がなく、構成を簡易化できる。
【0048】
また、本実施形態では、被加工物100を、下側からのみ加熱し、上側からは加熱しない。換言すれば、本実施形態では、上型20には、加熱手段を設けていない。これにより、介在パッド24の温度を上げることなく、被加工物100を、従来よりも高温に加熱することが可能となる。
【0049】
すなわち、従来の加圧装置10では、迅速な加熱を可能にするために、下型だけでなく、上型20にも加熱手段を設けることがあった。この場合、被加工物100を迅速に加熱できる一方で、当該上型20と被加工物100の間に介在する介在パッド24も加熱されることになる。ここで、本実施形態の介在パッド24は、断熱層36を有しているが、従来の介在パッド24は、断熱層36を有しておらず、シリコーン系の有機物が主成分の柔軟層で主に構成されていた。かかる柔軟層34の耐熱温度は、200度未満であることが多い。一方、近年、被加工物100に設けられている接着剤114の硬化温度Tcは、高くなり、150度〜300度であることが多い。つまり、接着剤114を硬化させて、電子部品112を基板110に接着するためには、被加工物100を150度〜300度まで加熱する必要がある。
【0050】
上型20に設けられた加熱手段で、被加工物100を150度〜300度まで加熱しようとすると、上型20と被加工物100の間に設けられた介在パッド24(柔軟層34)も、加熱されることになる。この場合、介在パッド24が、耐熱温度を越えてしまい、破損する恐れがあった。つまり、上型20に加熱手段を設けた従来の加圧装置10では、介在パッド24の破損を招く恐れがあった。そのため、上型20に加熱手段を設けた従来の加圧装置10では、被加工物100を介在パッド24(柔軟層34)の耐熱温度よりも高温に加熱することができなかった。
【0051】
一方、本実施形態では、既述した通り、加熱手段は、加熱用下型50にのみ設けており、上型20には加熱手段を設けていない。したがって、耐熱性の低い柔軟層34が、上型20から加熱されることがない。また、本実施形態では、耐熱性の低い柔軟層34と、高温に加熱される被加工物100と、の間に断熱層36を設けている。また、上型20は、冷媒流路30aに冷媒を流すことで一定の温度に保たれるようになっている。その結果、柔軟層34への伝熱が効果的に防止され、柔軟層34の温度上昇、ひいては、熱破損を効果的に防止できる。別の見方をすれば、本実施形態によれば、被加工物100を、柔軟層34の耐熱温度よりも高い温度に加熱することができ、取り扱い可能な被加工物100の範囲が広がる。
【0052】
また、これまでの説明で明らかな通り、本実施形態では、被加工物100の加熱に先だって、被過去物の周辺環境を真空吸引している。これにより、加熱・加圧後の接着剤114の内部にエアが残存するエア噛みを防止できる。ここで、こうした真空吸引は、接着剤が溶融する前、すなわち、接着剤114がガラス転移温度Tgに達する前に行うことが望ましい。上型20に加熱手段を設けた従来の加圧装置10の場合、真空吸引に際して、高温の上型20が被加工物100に近接するため、接着剤114が溶融し、適切にエア抜きができないという問題がある。もちろん、真空吸引の際に、上型20の加熱を停止していれば、こうした問題は避けられるが、この場合、真空吸引の後に、上型20を加熱する必要があり、処理に要する時間が長期化する問題があった。
【0053】
また、本実施形態では、真空吸引後、被加工物100の加熱の前に、被過去物を上型20および介在パッド24で、プレス荷重Ppより低い予備荷重Pbで加圧する予備加圧を行っている。加熱前に予備加圧することで、被加工物100が、介在パッド24でホールドされる。その結果、接着剤114が溶融しても、電子部品112の動きが介在パッド24で規制され、電子部品112のズレが効果的に防止できる。すなわち、従来の加圧装置10では、予備加圧を行うことなく、被加工物100の加圧および加熱を行っていた。そのため、被加工物100が、介在パッド24で十分にホールドされる前に、接着剤114がガラス転移温度Tgに達して軟化する恐れがあった。介在パッド24でホールドされていない状態で、接着剤114が軟化すると、電子部品112は、比較的自由に動けるため、電子部品112の位置ズレ等を招く。一方、本実施形態では、加熱されていない上型20および介在パッド24で、被加工物100を予備加圧し、被加工物100を介在パッド24でホールドしてから、被加工物100の加熱を行っている。そのため、加熱により接着剤が軟化しても、電子部品112の動きが規制され、電子部品112の位置ズレが効果的に防止できる。
【0054】
次に、第二実施形態について
図9〜
図12を参照して説明する。
図9〜
図12は、第二実施形態における加圧処理の流れを示す図である。第二実施形態は、加熱用下型50および冷却用下型52の双方が、水平移動できる点で第一実施形態と相違する。
図9は、第二実施形態における加圧処理の開始時を示している。
図9に示すように、この場合、冷却用下型52は、上型20に対して水平方向にずれた位置に、加熱用下型50は、上型20の下方に位置している。この状態において、被加工物100が載置された載置台12は、冷却用下型52の上に搬送される。この場合、冷却用下型52は、上型20から水平方向にずれた位置にあるため、冷却用下型52の上側に広い空間が確保でき、載置台12の搬送のためのスペース(例えば載置台12を搬送する機構の設置スペース等)を十分に確保できる。
【0055】
冷却用下型52の上に載置台12が搬送されれば、続いて、制御部18は、
図10に示すように、加熱用下型50を上型20から水平方向にずれた位置に移動させる。同時に、制御部18は、冷却用下型52を、上型20の真下位置に水平移動させる。その後、上側ユニット14を下降させて、サイド型28の底面を、載置台12の上面に密着させる。その後は、第一実施形態と同様に、被加工物100の周囲の密閉空間を真空吸引した後、当該密閉空間と外部空間との差圧を利用して、被加工物を予備荷重Pbで予備加圧する。予備加圧が完了すれば、制御部18は、再び、冷却用下型52を上型20から水平方向にずれた位置に移動するとともに、加熱用下型50を上型20の真下位置に移動させる。そして、
図11に示すように、加熱用下型50で載置台12を押圧して、被加工物100を規定のプレス荷重Ppで加圧しつつ加熱する本加圧を実行する。本加圧が完了すれば、
図12に示すように、加熱用下型50と冷却用下型52とを入れ替え、冷却用下型52で被加工物100を加圧しつつ冷却させる。そして、被加工物100の冷却が完了すれば、上側ユニット14を上昇させて、上側ユニット14と載置台12とを離間させた後、載置台12が載置された冷却用下型52を水平方向に移動させる。その後、載置台12を所定の排出位置へと搬送する。
【0056】
以上の説明、および、
図10、
図12等から明らかな通り、第二実施形態によれば、加熱用下型50と冷却用下型52とが上下に並ぶことがないため、両下型50,52間での伝熱が防止される。結果として、各下型50,52を規定の温度に保つことが容易となる。
【0057】
また、第二実施形態でも、第一実施形態と同様に、加熱や冷却に要する時間、ひいては、加圧処理の時間を大幅に短縮できる。また、接着剤114が軟化する前に、真空吸引・予備加圧を行っているため、エア噛みや部品のズレ等をより確実に防止できる。
【0058】
なお、これまで説明した構成は、一例であり、加圧に寄与する下型を、加熱用下型50と冷却用下型52とで切り替えられるのであれば、その他の構成は、適宜、変更されてもよい。例えば、本実施形態では、本加圧の前に、真空吸引や予備加圧を行っているが、場合によっては、これらは、省略されてもよい。また、本実施形態では、介在パッド24に柔軟層34と断熱層36とを設けているが、柔軟層34を耐熱温度以下に保つことができるのであれば、断熱層36は、省略されてもよい。また、これまでの説明では、上側ユニット14を昇降させて加圧の実行/解除を切り替えていたが、上側ユニット14に替えて、または、加えて、下側ユニット16を昇降させて、加圧の実行/解除を切り替えるようにしてもよい。また、各種駆動機構や、冷却手段、加熱手段の構成は、公知の他の構成に替えてもよい。
【解決手段】被加工物100が載置される載置台12と、前記載置台12に載置された被加工物100を上側から加圧する上型20と、予め加熱手段により加熱されている下型であって、前記上型20とともに前記載置台12を挟持することで、前記被加工物100を加圧しつつ加熱する加熱用下型50と、予め冷却手段により冷却されている下型であって、前記上型20とともに前記載置台12を挟持することで、前記被加工物100を加圧しつつ冷却する冷却用下型52と、前記型の駆動を制御する制御装置であって、前記被加工物100の加圧処理の進行状況に応じて、前記被加工物100の加圧に寄与する下型を、加熱用下型50または冷却用下型52に切り替える制御装置12と、を備える。