(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
前記切替回路は、前記電圧制御型スイッチングデバイスをターンオフさせるときには、前記第2のゲート抵抗の他端をハイインピーダンス状態にするとともに、前記第1のゲート抵抗の他端を接地するように構成されている、請求項1に記載の電子回路。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
電圧制御型スイッチングデバイスが用いられた電子回路において、電圧制御型スイッチングデバイスに電源電圧が直接印加されるような短絡が発生すると、電圧制御型スイッチングデバイスに短絡電流が流れる。電圧制御型スイッチングデバイスに短絡電流が流れると、電圧制御型スイッチングデバイスの温度が上昇し、トンネル効果によって電圧制御型スイッチングデバイスのゲート酸化膜にリーク電流(ゲート電流)が流れる。このリーク電流は、電圧制御型スイッチングデバイスの温度上昇に伴って増加する。そして、ゲート酸化膜を通過する電荷量がゲート酸化膜のゲート酸化膜の破壊電荷量を超えると、ゲート酸化膜が破壊される。つまり、電圧制御型スイッチングデバイスが破壊される。
【0005】
図8は、複数のSiC−MOSFETから構成された電圧制御型スイッチングデバイスを通常のゲート駆動回路に接続して短絡試験を行ったときの、ゲート電流およびゲート−ソース間電圧の経時的変化を示すグラフである。短絡試験は、電圧制御型スイッチングデバイスがオン状態であるときに、その電圧制御型スイッチングデバイスのドレイン−ソース間に電源電圧を直接印可させることによって行った。
【0006】
電圧制御型スイッチングデバイスに電源電圧が直接印可されると、ゲート電流Ig(リーク電流)が増加していく。一方、ゲート−ソース間電圧Vgsは低下していく。そして、ゲート電流Igの積算値が所定値に達すると、電圧制御型スイッチングデバイスが破壊される。
この発明の目的は、短絡発生時に電圧制御型スイッチングデバイスが破壊されにくくなる電子回路を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
この発明
の電子回路は、電圧制御型スイッチングデバイスと、前記電圧制御型スイッチングデバイスのゲート端子に一端が接続された第1のゲート抵抗と、前記電圧制御型スイッチングデバイスのゲート端子に一端が接続され、前記第1のゲート抵抗より抵抗値が大きな第2のゲート抵抗と、前記電圧制御型スイッチングデバイスをターンオンさせるときには、前記電圧制御型スイッチングデバイスのゲート端子に前記第1のゲート抵抗を介してゲート電圧を所定時間だけ印可した後、前記第2のゲート抵抗を介して前記ゲート端子にゲート電圧が印可されるようにゲート抵抗を切替える切替回路とを含
み、ゲート抵抗の抵抗値が前記第1のゲート抵抗の抵抗値に固定されていると仮定した場合に、前記電圧制御型スイッチングデバイスに短絡電流が流れ始めてから前記電圧制御型スイッチングデバイスが破壊されるまでの時間の推定値をTとすると、前記所定時間は、前記推定値Tの1/10以上1/5以下に設定されている(請求項1)。
【0008】
この発明では、電圧制御型スイッチングデバイスがターンオンした後に、第1のゲート抵抗の抵抗値より大きな第2のゲート抵抗にゲート抵抗を切替えることができる。これにより、電圧制御型スイッチングデバイスに電源電圧が直接印可されるような短絡が発生したときに、電圧制御型スイッチングデバイスのゲート電流が増加するのを抑制することができる。これにより、短絡発生時に、電圧制御型スイッチングデバイスが破壊されにくくなる。
【0009】
この発明の一実施形態では、前記切替回路は、前記電圧制御型スイッチングデバイスをターンオフさせるときには、前記第2のゲート抵抗の他端をハイインピーダンス状態にするとともに、前記第1のゲート抵抗の他端を接地するように構成されている(請求項2)。
この発明の一実施形態では、第1のゲート抵抗の抵抗値が1Ω以上5Ω以下であり、前記第2のゲート抵抗の抵抗値が1kΩ以上である(請求項3)。
【0011】
この発明の
一実施形態では
、前記電圧制御型スイッチングデバイスのゲート電流を検出する電流検出手段と、前記電流検出手段によって検出されるゲート電流が所定値より大きくなったときに、前記電圧制御型スイッチングデバイスのゲート端子を接地させるゲート端子接地手段とを
さらに含む(請求項
4)。
この
構成によれば、電圧制御型スイッチングデバイスに電源電圧が直接印可されるような短絡が発生したときに、短絡電流を遮断することができるようになる。
【0012】
この発明の
一実施形態では
、前記電圧制御型スイッチングデバイスのゲート電流を検出する電流検出手段と、前記電流検出手段によって検出されるゲート電流の積算値を積算する電流積算値演算手段と、前記電流積算値演算手段によって演算されたゲート電流積算値が所定値を超えたときに、警報信号を出力する警報信号出力手段とをさらに含む(請求項
5)。
【0013】
電流積算値演算手段によって演算されるゲート電流積算値が大きいほど、電圧制御型スイッチングデバイスの残寿命は短いと考えられる。この
構成では、電圧制御型スイッチングデバイスの残寿命が短くなったときには警報信号が出力されるので、電圧制御型スイッチングデバイスの残寿命が短くなったことを、電子回路の使用者に報知することが可能となる。これにより、電圧制御型スイッチングデバイスの交換時期の把握が容易となる。
この発明の一実施形態では、前記電圧制御型スイッチングデバイスが、1つの電圧制御型スイッチング素子または並列接続された複数の電圧制御型スイッチング素子から構成されている(請求項
6)。
【0014】
この発明の一実施形態では、前記電圧制御型スイッチング素子が、SiCを主成分とする電圧制御型スイッチング素子である(請求項
7)。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下では、この発明の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係るインバータ回路を示す電気回路図である。
インバータ回路1は、第1〜第4のモジュール(電圧制御型スイッチングデバイス)2〜5と、第1〜第4のゲート駆動回路6〜9と、制御部10とを含む。
図2は、第1のモジュール2の電気的構成を示す電気回路図である。
【0017】
第1のモジュール2は、複数の電圧制御型スイッチング素子Tr(チップ)を含んでいる。電圧制御型スイッチング素子Trは、Nチャンネル型のMOSFETから構成されている。特に、この実施形態では、電圧制御型スイッチング素子は、SiC(炭化珪素)を主成分とするSiC−MOSFETである。また、第1のモジュール2は、ドレイン端子Dとソース端子Sとゲート端子Gとを含んでいる。複数の電圧制御型スイッチング素子Trは、ドレイン端子Dとソース端子Sとの間に並列に接続されている。SiC−MOSFET等のSiCスイッチング素子はSiスイッチング素子に比べてチップサイズを大きくすることが難しいため、複数のSiCスイッチング素子から構成されるモジュールでは、複数のSiスイッチング素子から構成されるモジュールに比べて、スイッチング素子の並列接続数が多くなることが多い。
【0018】
複数の電圧制御型スイッチング素子Trのドレインは、ドレイン端子Dに接続されている。複数の電圧制御型スイッチング素子Trのソースは、ソース端子Sに接続されている。複数の電圧制御型スイッチング素子Trのゲートは、ゲート端子Gに接続されている。第2、第3および第4のモジュール3〜5も、第1のモジュール2と同じ構成である。
図1においては、第1のモジュール2内の複数の電圧制御型スイッチング素子Trの並列回路を、簡易的に1つのMOSFET21(以下、「第1のMOSFET21」という。)で表している。同様に、第2のモジュール3内の複数の電圧制御型スイッチング素子Trの並列回路を、簡易的に1つのMOSFET22(以下、「第2のMOSFET22」という。)で表している。同様に、第3のモジュール4内の複数の電圧制御型スイッチング素子Trの並列回路を、簡易的に1つのMOSFET23(以下、「第3のMOSFET23」という。)で表している。同様に、第4のモジュール5内の複数の電圧制御型スイッチング素子Trの並列回路を、簡易的に1つのMOSFET24(以下、「第4のMOSFET24」という。)で表している。
【0019】
第1のMOSFET21のドレイン端子Dは、電源11の正極端子に接続されている。第1のMOSFET21のソース端子Sは、第2のMOSFET22のドレイン端子Dに接続されている。第1のMOSFET21のゲート端子Gは、第1のゲート駆動回路6に接続されている。
第2のMOSFET22のソース端子Sは、電源11の負極端子に接続されている。第2のMOSFET22のゲート端子Gは、第2のゲート駆動回路7に接続されている。
【0020】
第3のMOSFET23のドレイン端子Dは、電源11の正極端子に接続されている。第3のMOSFET23のソース端子Sは、第4のMOSFET24のドレイン端子Dに接続されている。第3のMOSFET23のゲート端子Gは、第3のゲート駆動回路8に接続されている。
第4のMOSFET24のソース端子Sは、電源11の負極端子に接続されている。第4のMOSFET24のゲート端子Gは、第4のゲート駆動回路9に接続されている。第1のモジュール2と第2のモジュール3との接続点と、第3のモジュール4と第4のモジュール5との接続点との間には、負荷12が接続されている。
【0021】
制御部10は、CPUとそのプログラム等を記憶したメモリ(ROM、RAM等)を含むマイクロコンピュータからなる。制御部10は、第1のMOSFET21に対する第1のゲート制御信号CG1、第2のMOSFET22に対する第2のゲート制御信号CG2、第3のMOSFET23に対する第3のゲート制御信号CG3および第4のMOSFET24に対する第4のゲート制御信号CG4を生成して、第1、第2、第3および第4のゲート駆動回路6,7,8,9にそれぞれ与える。
【0022】
各ゲート駆動回路6,7,8,9は、それぞれ、制御部10から与えられたゲート制御信号CG1,CG2,CG3,CG4に基づいて、第1のMOSFET21、第2のMOSFET22、第3のMOSFET23および第4のMOSFET24に対するゲート駆動信号DG1,DG2,DG3,DG4をそれぞれ生成して出力する。この実施形態では、各ゲート駆動信号DG1,DG2,DG3,DG4は、それに対応するゲート制御信号CG1,CG2,CG3,CG4がLレベルであればLレベルとなり、それに対応するゲート制御信号CG1,CG2,CG3,CG4がHレベルであればHレベルとなる。
【0023】
ゲート駆動信号DG1,DG2,DG3,DG4は、それぞれ第1のMOSFET21、第2のMOSFET22、第3のMOSFET23および第4のMOSFET24のゲート端子Gに与えられる。各MOSFET21,22,23,24は、それに与えられるゲート駆動信号がHレベルになるとオンとなり、それに与えられるゲート駆動信号がLレベルになるとオフとなる。
【0024】
このようなインバータ回路1では、たとえば、第1のMOSFET21と第4のMOSFET24とがオンされる。この後、これらのMOSFET21,22がオフされることにより、全てのMOSFET21〜24がオフ状態とされる。所定のデットタイム期間が経過すると、今度は、第2のMOSFET22と第3のMOSFET23とがオンされる。この後、これらのMOSFET22,23がオフされることにより、全てのMOSFET21〜24がオフ状態とされる。所定のデットタイム期間が経過すると、再び第1のMOSFET21と第4のMOSFET24とがオンされる。このような動作が繰り返されることにより、負荷12が交流駆動される。
【0025】
前述したように、MOSFETに電源電圧が直接印加されるような短絡が発生したときには、ゲート電流が増加することによって、ゲート酸化膜が破壊される。そこで、各ゲート駆動回路6,7,8,9は、対応するMOSFET21,22,23,24に電源電圧が直接印加されるような短絡が発生したときに、対応するMOSFET21,22,23,24のゲート電流の増加を抑制する機能を備えている。
【0026】
なお、MOSFET21,22,23,24に電源電圧が直接印加されるような短絡が発生する場合には、たとえば、負荷12が短絡した場合、電源11の正極端子と負極端子との間に直列に接続された2つのMOSFET(21,22;23,24)が同時にオンした場合、電源11の正極端子と負極端子との間に直列に接続された2つのMOSFET(21,22;23,24)のいずれか一方が短絡故障した場合等がある。各ゲート駆動回路6,7,8,9の構成は同じなので、以下、第1のゲート駆動回路6の構成について詳しく説明する。
【0027】
図3は、第1のゲート駆動回路6の電気的構成を示す電気回路図である。
第1のゲート駆動回路6は、増幅回路31と、第1の切替回路32と、第1のゲート抵抗33と、第2の切替回路34と、第2のゲート抵抗35とを含んでいる。第2のゲート抵抗35の抵抗値r2は、第1のゲート抵抗33の抵抗値r1より大きい。第1のゲート抵抗33の抵抗値r1は、1Ω以上5Ω以下の値に設定されている。この実施形態では、第1のゲート抵抗33の抵抗値r1は、例えば、3.9Ωである。第2のゲート抵抗35の抵抗値r2は、1kΩ以上の値に設定されている。この実施形態では、第2のゲート抵抗35の抵抗値r2は、例えば、18kΩである。
【0028】
第1の増幅回路31の入力端子には、制御部10からのゲート制御信号CG1が入力する。増幅回路31は、ゲート制御信号CG1を増幅してゲート駆動信号DG1を生成する。
第1の切替回路32は、3つの入力端子a,b,cと1つの出力端子dとを有しており、いずれか1つの入力端子a,b,cを選択して、出力端子dを選択した入力端子に接続する。以下において、入力端子aを第1入力端子aといい、入力端子bを第2入力端子bといい、入力端子cを第3入力端子cという。第1入力端子aには、ゲート駆動信号DG1が入力されている。第2入力端子bは、オープン状態とされている。第3入力端子bは、接地されている。第1の切替回路32の出力端子dには、第1のゲート抵抗33の一端が接続されている。第1のゲート抵抗33の他端はMOSFET21のゲート端子Gに接続されている。
【0029】
第2の切替回路34は、2つの入力端子e,fと1つの出力端子gとを有しており、いずれか1つの入力端子e,fを選択して、出力端子gを選択した入力端子に接続する。以下において、入力端子eを第1入力端子eといい、入力端子fを第2入力端子fという。第1入力端子eには、ゲート駆動信号DG1が入力されている。第2入力端子fは、オープン状態とされている。出力端子gには、第2のゲート抵抗35の一端が接続されている。第2のゲート抵抗35の他端は、第1のMOSFET21のゲート端子Gに接続されている。第1の切替回路32および第2の切替回路34は、制御部10からのゲート制御信号CG1によって制御される。
【0030】
図4は、第1の切替回路32および第2の切替回路34の動作を示すタイムチャートである。
ゲート制御信号CG1がLレベルであるときには、第2の切替回路34は、第2入力端子fを選択して、出力端子gを第2入力端子fに接続している。したがって、第2の切替回路34の出力端子gはハイインピーダンス状態となっている。また、ゲート制御信号CG1がLレベルであるときには、第1の切替回路32は、第3入力端子cを選択して、出力端子dを第3入力端子cに接続している。したがって、第1の切替回路32の出力端子dは接地されている。つまり、ゲート制御信号CG1がLレベルであるときには、第1のMOSFET21のゲート端子Gは、第1の切替回路32を介して接地されている。
【0031】
ゲート制御信号CG1がLレベルからHレベルに反転すると(時点t1)、第1の切替回路32は、第1入力端子aを選択して、出力端子dを第1入力端子aに接続する。これにより、増幅回路31から出力されるゲート駆動信号DG1が、第1の切替回路32および第1のゲート抵抗33を介して、第1のMOSFET21のゲート端子Gに与えられる。これにより、第1のMOSFET21のゲート端子Gにゲート電圧が印可されるので、第1のMOSFET21がターンオンする。
【0032】
なお、第1のMOSFET21のゲートには容量(コンデンサ成分)があるため、第1のMOSFET21のゲート端子Gにゲート電圧を印可しようとすると、コンデンサが充電されるまで電荷を与える必要がある。そこで、コンデンサを充電するための電荷をゲート端子Gに供給するために、第1のゲート抵抗33の抵抗値r1は小さい値に設定されている。
【0033】
第1の切替回路32の出力端子dが第1入力端子aに接続されてから、所定時間Txが経過すると(時点t2)、第2の切替回路34は、第1入力端子eを選択して、出力端子gを第1入力端子eに接続する。これにより、第2の切替回路34の出力端子gに増幅回路31から出力されるゲート駆動信号DG1が与えられる。また、この直後に、第1の切替回路32は、第2入力端子bを選択して、出力端子dを第2入力端子bに接続する(時点t3)。これにより、第1の切替回路32の出力端子dがハイインピーダンス状態になるので、ゲート駆動信号DG1が第2の切替回路34および第2のゲート抵抗35を介して、第1のMOSFET21のゲート端子Gに与えられる。つまり、第1のMOSFET21がターンオンした直後に、抵抗値の小さな第1のゲート抵抗33から、抵抗値の大きな第2のゲート抵抗35に、ゲート抵抗が切替られる。このようにゲート抵抗が抵抗値のより大きなものに切替えられても、第1のMOSFET21のゲート端子Gへのゲート電圧の印可は継続されるため、第1のMOSFET21はオン状態を維持する。
【0034】
ゲート抵抗の抵抗値が前記第1のゲート抵抗33の抵抗値r1に固定されていると仮定した場合に、MOSFET21に短絡電流が流れ始めてからMOSFET21が破壊されるまでの時間の推定値をTとすると、前記所定時間Txは、例えば、前記推定値Tの1/10以上1/5以下の値に設定される。
この実施形態では、前記推定値Tを次のようにして求めた。MOSFET21と同じ構造のサンプルを用意する。第1のゲート抵抗33の抵抗値r1と同じ抵抗値を有するゲート抵抗のみを備えたゲート駆動回路(以下、「比較例のゲート駆動回路」という。)にサンプルを接続し、短絡試験を行った。短絡試験は、サンプルがオン状態であるときに、そのサンプルのドレイン−ソース間に電源電圧を直接印可させることによって行った。そして、短絡開始からサンプルが破壊されるまでの時間を計測し、その計測値を推定値Tとした。短絡開始からサンプルが破壊されるまでの時間は、7[μsec]程度であった。この実施形態では、所定時間Txは、1[μsec]に設定した。
【0035】
その後、ゲート制御信号CG1がHレベルからLレベルに反転すると(時点t4)、第2の切替回路34は、第2入力端子fを選択して、出力端子gを第2入力端子fに接続する。これにより、第2の切替回路34の出力端子gは、ハイインピーダンス状態となる。また、第1の切替回路32は、第3入力端子cを選択して、出力端子dを第3入力端子cに接続する。これにより、第1の切替回路32の出力端子dが接地される。つまり、MOSFET21のゲート端子Gが、第1の切替回路32を介して接地される。これにより、MOSFET21がターンオフする。
【0036】
その後、ゲート制御信号CG1がLレベルからHレベルに反転すると(時点t5)、前述と同様な動作が行われることにより、MOSFET21がターンオンする。この場合にも、MOSFET21がターンオンした直後に、ゲート抵抗の切替が行われる。
この実施形態では、第1のMOSFET21がターンオンした直後に、第1のゲート抵抗33の抵抗値より大きな第2のゲート抵抗35にゲート抵抗を切替えることができる。このため、第1のMOSFET21に電源電圧が直接印可されるような短絡が発生したときに、第1のMOSFET21のゲート電流が増加するのを抑制することができる。これにより、短絡発生時に第1のMOSFET21が破壊されるまでの時間が長くなる。この結果、短絡発生時に、第1のMOSFET21が破壊されにくくなる。第2〜第4のMOSFET22〜24についても、同様である。
【0037】
図5は、短絡が発生したときのMOSFET21のゲート電流Igの変化を概略的に示すグラフである。ただし、縦軸はゲート電流Igの対数を表している。
図5において、直線Aは、ゲート駆動回路6の代わりに比較例のゲート駆動回路を用いた場合のMOSFETのゲート電流の変化を示している。
図5において、折線Bは、本実施形態での短絡発生時のMOSFET21のゲート電流の変化を示している。
【0038】
比較例のゲート駆動回路を用いた場合には、直線Aに示すように、MOSFETのゲート電流Igが時間の経過とともに増加していき、ゲート電流Igの積算値が所定値に達するとMOSFETが破壊される。これに対して、本実施形態では、折線Bに示すように、MOSFET21のゲート電流は、最初は増加していくが、ある値に達するとそれ以上は増加しなくなる。つまり、本実施形態では、短絡発生時に、第1のMOSFET21のゲート電流の増加が抑制される。
【0039】
図6は、本発明の第2実施形態に係るインバータ回路を示す電気回路図である。
図6において、前述の
図1の各部に対応する部分には
図1と同じ符号を付して示す。
図6のインバータ回路1Aは、第1〜第4のモジュール(電圧制御型スイッチングデバイス)2〜5と、第1〜第4のゲート駆動回路6A〜9Aと、制御部10Aとを含む。
各モジュール2〜5は、
図1のモジュール2〜5と同様に、並列に接続された複数の電圧制御型スイッチング素子Trから構成されている。この実施形態においても、電圧制御型スイッチング素子Trは、SiC−MOSFETである。
図6では、
図1と同様に、第1のモジュール2、第2のモジュール3、第3のモジュール4および第4のモジュール5を、それぞれ簡易的に第1のMOSFET21、第2のMOSFET22、第3のMOSFET23および第4のMOSFET24で表している。
【0040】
図6のインバータ回路1Aでは、各ゲート駆動回路6A〜9Aと、それに対応するMOSFET21〜24のゲート端子Gとを接続する接続線に、それぞれゲート電流Igを検出するための電流センサ41〜44が設けられている。各電流センサ41〜44の検出信号は、対応するゲート駆動回路6A〜9Aに入力している。
制御部10Aは、第1のMOSFET21に対する第1のゲート制御信号CG1、第2のMOSFET22に対する第2のゲート制御信号CG2、第3のMOSFET23に対する第3のゲート制御信号CG3および第4のMOSFET24に対する第4のゲート制御信号CG4を生成して、第1、第2、第3および第4のゲート駆動回路6A,7A,8A,9Aにそれぞれ与える。
【0041】
制御部10Aには、警報装置13が接続されている。警報装置13は、例えば、警告音を発生する警告音発生装置である。警報装置13は、音声で警報メッセージを出力する音声出力装置であってもよく、警報メッセージを表示する表示装置であってもよい。また、警報装置13は、警告音発生装置、音声出力装置および表示装置のうちから選択された、2以上の任意の組み合わせから構成されていもよい。
【0042】
各ゲート駆動回路6A,7A,8A,9Aは、それぞれ、制御部10Aから与えられたゲート制御信号CG1,CG2,CG3,CG4に基づいて、第1のMOSFET21、第2のMOSFET22、第3のMOSFET23および第4のMOSFET24に対するゲート駆動信号DG1,DG2,DG3,DG4をそれぞれ生成して出力する。
ゲート駆動信号DG1,DG2,DG3,DG4は、それぞれ第1のMOSFET21、第2のMOSFET22、第3のMOSFET23および第4のMOSFET24のゲート端子Gに与えられる。各MOSFET21,22,23,24は、それに与えられるゲート駆動信号がHレベルになるとオンとなり、それに与えられるゲート駆動信号がLレベルになるとオフとなる。
【0043】
各ゲート駆動回路6A,7A,8A,9Aは、第1実施形態と同様に、対応するMOSFET21,22,23,24に電源電圧が直接印加されるような短絡が発生したときに、対応するMOSFET21,22,23,24のゲート電流の増加を抑制する機能を備えている。
また、各ゲート駆動回路6A,7A,8A,9Aは、対応するMOSFET21,22,23,24のゲート電流に基づいて、対応するMOSFET21,22,23,24に電源電圧が直接印加されるような短絡が発生したか否かを判別し、短絡が発生していると判別したときに短絡電流を遮断させる機能を備えている。
【0044】
さらに、各ゲート駆動回路6A,7A,8A,9Aは、対応するMOSFET21,22,23,24のゲート電流に基づいて、対応するMOSFET21,22,23,24の残寿命を予測し、残寿命が短くなったときに警報信号を出力する機能を備えている。
各ゲート駆動回路6A,7A,8A,9Aの構成は同じなので、以下、第1のゲート駆動回路6Aの構成について詳しく説明する。
【0045】
図7は、第1のゲート駆動回路6Aの電気的構成を示す電気回路図である。
図7において、前述の
図3の各部に対応する部分には
図3と同じ符号を付して示す。
第1のゲート駆動回路6Aは、増幅回路31と、第1の切替回路32と、第1のゲート抵抗33と、第2の切替回路34と、第2のゲート抵抗35と、短絡検知回路36と、残寿命予測回路37とを含んでいる。
【0046】
増幅回路31、第1のゲート抵抗33および第2のゲート抵抗35は、それぞれ
図3の、増幅回路31、第1のゲート抵抗33および第2のゲート抵抗35と同じであるので、その説明を省略する。
第1の切替回路32および第2の切替回路34の構成は、それぞれ
図3の第1の切替回路32および第2の切替回路34の構成と同じである。ただし、第1の切替回路32および第2の切替回路34は、ゲート制御信号CG1によって制御される他、短絡検知回路36から出力される短絡電流検知信号によっても制御される点において、第1実施形態と異なっている。
【0047】
ゲート制御信号CG1がLレベルからHレベルに反転したときの両切替回路32,34の動作およびゲート制御信号CG1がHレベルからLレベルに反転したときの両切替回路32,34の動作は、第1実施形態と同じである。したがって、前述した短絡発生時に第1のMOSFET21のゲート電流の増加を抑制する機能は、第2実施形態においても達成される。
【0048】
短絡検知回路36は、電流センサ41によって検出される第1のMOSFET21のゲート電流が所定値より大きくなったときに、短絡が発生していると判別して、短絡検知信号を出力するものである。これは、第1のMOSFET21に電源電圧が直接印可されるような短絡が発生したときには、第1のMOSFET21のゲート電流が増加することに着目したものである。具体的には、短絡電流検知回路36は、電流センサ41の出力電圧が所定の基準電圧より大きくなったときに、第1の切替回路32および第2の切替回路34に短絡検知信号を出力する。
【0049】
第2の切替回路34に短絡検知信号が入力されると、第2の切替回路34は、第2入力端子fを選択して、出力端子gを第2入力端子fに接続する。これにより、第2の切替回路34の出力端子gはハイインピーダンス状態となる。また、第1の切替回路32に短絡検知信号が入力されると、第1の切替回路32は、第3入力端子cを選択して、出力端子dを第3入力端子cに接続する。これにより、第1の切替回路32の出力端子dが接地される。したがって、短絡検知回路36から短絡検知信号が出力されたときには、第1のMOSFET21のゲート端子Gが第1のゲート抵抗33を介して接地される。これにより、第1のMOSFET21のゲート−ソース間電圧Vgsが低減されるので、第1のMOSFET21に流れるドレイン電流(短絡電流)が遮断される。
【0050】
つまり、第2実施形態では、第1のMOSFET21に電源電圧が直接印加されるような短絡が発生したときには、第1のMOSFET21に流れるドレイン電流(短絡電流)を遮断することができるようになる。
残寿命予測回路37は、電流センサ41によって検出される第1のMOSFET21のゲート電流Igに基づいて、第1のMOSFET21の残寿命を予測し、予測した残寿命が短いときに、警報信号を出力するものである。具体的には、残寿命予測回路37は、電流積算値演算回路38と比較回路39とを含む。電流積算値演算回路38は、電流センサ41によって検出される第1のMOSFET21のゲート電流Igの積算値を演算する。ゲート電流積算値が大きくなるほど、第1のMOSFET21の残寿命は短くなる。比較回路39は、電流積算値演算回路38によって演算されたゲート電流積算値が所定値より大きくなったときに、警報信号を出力する。
【0051】
この実施形態では、前記所定値を次のようにして設定した。第1のMOSFET21と同じ構造の複数のサンプルを用意した。第1のゲート抵抗33の抵抗値r1と同じ抵抗値を有するゲート抵抗のみを備えたゲート駆動回路にサンプルを接続し、短絡試験を行った。短絡試験は、サンプルがオン状態であるときに、そのサンプルのドレイン−ソース間に電源電圧を直接印可させることによって行った。そして、短絡開始からサンプルが破壊されるまでの間のゲート電流を計測し、その間のゲート電流積算値を演算した。このような、短絡試験を複数のサンプルに対して行うことにより、複数のサンプルに対するゲート電流積算値を求めた。そして、複数のサンプルに対するゲート電流積算値のうちの最小値の90%に相当する値を前記所定値として設定した。
【0052】
比較回路39から出力された警報信号は、制御部10A(
図6参照)に送られる。制御部10Aは、警報信号を受信したときには、警報装置13から警報を出力させる。この際、制御部10Aは、ゲート駆動回路6A〜9Aのうちのいずれから警報信号が送られてきたかを識別して、MOSFET21〜24のうち残寿命が短くなっているMOSFETを特定できるような警報を警報装置13から出力させるようにしてもよい。この警報により、インバータ回路1Aの使用者は、MOSFETの残寿命が短くなっていることを知ることができる。つまり、第2実施形態では、MOSFETの交換時期の把握が容易となる。
【0053】
以上、本発明の第1および第2実施形態について説明したが、本発明は、さらに他の形態で実ることもできる。たとえば、前述の第1実施形態および第2実施形態では、各モジュール2〜5は、並列に接続された複数の電圧制御型スイッチング素子Trから構成されているが、各モジュール2〜5は1つの電圧制御型スイッチング素子Trから構成されていてもよい。
【0054】
また、前述の第1実施形態および第2実施形態では、各モジュール2〜5を構成する電圧制御型スイッチング素子TrがSiC−MOSFETである例を示したが、各モジュール2〜5を構成する電圧制御型スイッチング素子Trは、SiC−MOSFET以外の素子であってもよい。たとえば、各モジュール2〜5を構成する電圧制御型スイッチング素子Trは、SiC−IGBTであってもよい。電圧制御型スイッチング素子TrがSiC−IGBTの場合には、SiC−IGBTのコレクタが前記SiC−MOSFETのドレインに対応し、SiC−IGBTのエミッタが前記SiC−MOSFETのソースに対応する。
【0055】
また、前記実施形態では、この発明をインバータ回路に適用した場合について説明したが、コンバータ回路等のインバータ回路以外の電子回路にもこの発明を適用することができる。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。