特許 6200094出願番号特願 2016-541050
酸化グラフェンをパターニングする方法及び装置

出願人ノキア　テクノロジーズ　オサケユイチア（識別番号 515076873）

2026年特許公開件数ランキング 156位 178件（※）

2026年特許取得件数ランキング 126位 170件（※）

公報発行日　2017年9月20

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6200094　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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本出願は、酸化グラフェンの堆積及びパターニングに関する。具体的には、本発明は、照射を用いる酸化グラフェンの堆積及びパターニング

【図1a】ＧＯ薄膜の照射時間に対する静的水接触角（ＷＣＡ）及び抵抗のグラフである。

【図1b】照射時間に対する抵抗のグラフである。

【図2】本発明の方法を示す。

【図3】本発明の別の形態に係る方法を示す。

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