【課題を解決するための手段】
【0006】
これらの目的は、電子機能素子を収容するハウジングによって、及びアルカリチタンケイ酸塩ガラスを用いて独立請求項によるこうしたハウジングを製造する方法によって、すでに達成される。本発明によるハウジングの有利な実施の形態は、従属請求項に示されている。
【0007】
概して、本発明は、アルカリチタンケイ酸塩ガラスを用いてハウジングを製造することを提案し、それにより、特に、極めて気密なハウジングを形成することができる。この種のガラス、特に後に列挙するガラスは、今まではエナメル加工にしか使用されてこなかった。エナメル加工時、それらガラスは金属面上に焼き付けられて、極めて薄く硬い保護コーティングをもたらす。例えば、いわゆるエナメルは、封止の目的で、ポット、オーブン、冷凍庫等に施される。ここで、アルカリチタンケイ酸塩ガラスが、パッケージングに、すなわち超小型電子技術においてハウジングを形成するために使用されることは初めてである。
【0008】
エナメル加工は、例えばポットの封止に焦点を合わせている。構造的強度又は機械的強度は、実質的に、封止される基材によって提供される。
【0009】
本発明者らは、ここで、本発明によるガラス類、特に後述するガラスが、部品、特に銅系部品を封止するだけでなく接合するのにも有用であることがわかった。本発明によるガラス類、特に後に列挙するガラスは、ハウジングを製造するために必要な機械的強度及び構造的強度を提供し、特に、エナメル加工に対するより大きい、必要な層厚さを提供するのを可能にする。
【0010】
好ましくは、本発明によるアルカリチタンケイ酸塩ガラス、特に後に列挙するガラスは、電気部品及び/又は電子部品及び/又は光電子部品を封入するために使用される。
【0011】
詳細には、本発明は、電子機能素子及び/又は光電子機能素子、特にLED及び/又はFETを収容するハウジングを提供する。本発明によるハウジングは、
基体であって、少なくとも1つの電子機能素子用の実装領域を少なくとも部分的に画定する上面を有し、それにより、少なくとも1つの電子機能素子用のヒートシンクを形成し、下面及び側面を更に有する基体と、
少なくとも1つの電子機能素子用の少なくとも1つの接続体であって、少なくとも、1つのガラス層によって前記基体に接合されている少なくとも1つの接続体と、
を具備し、
前記結合するガラス層は、アルカリチタンケイ酸塩ガラスによって提供される、ハウジングである。
【0012】
基体及び接続体は、金属、好ましくは、平均線形熱膨張係数αが13×10
−6K
−1から25×10
−6K
−1である金属を含む。特に、銅又は銅合金が使用される。
【0013】
さらに、本発明の範囲内には、電子機能素子及び/又は光電子機能素子、特にLED及び/又はFETを収容するハウジングを製造する、アルカリチタンケイ酸塩ガラスの使用方法がある。
【0014】
少なくとも1つの機能素子は、基体の上にあるか又は配置されている。一方、基体は、機能素子用の支持部材を構成している。したがって、基体を、キャリア又はベースと呼ぶこともできる。他方、基体は、機能素子用のヒートシンクを構成している。
【0015】
基体を、一片で、又はセグメントから形成することができ、例えば、層から構成することができる。また、通路、すなわちいわゆるサーマルビアを基体に形成することができる。機能素子は、ハウジングに設置されるか又は基体上に配置された後、基体と直接接触している。基体の上面は、概して、基体の機能素子が配置される側である。
【0016】
機能素子を、例えば、基体に接着剤で付着させ及び/又ははんだ付けすることができる。はんだとして、鉛フリー軟質はんだが使用されることが好ましい。使用することができる接着剤は、好ましくは、銀で強化されたエポキシ樹脂等の導電性接着剤である。したがって、直接接触という表現は、接着剤、はんだ又は結合剤を介する接触も指す。
【0017】
本発明によれば、基体は、機能素子用のヒートシンクもまた構成するため、適切な熱伝導率を示す材料を含む。好ましくは、基体は、熱伝導率が少なくとも約50W/mK、好ましくは少なくとも約150W/mKである。
【0018】
基体を、他の部品に熱的に結合することができる。好ましくは、基体及び/又は頭部は、少なくとも1種の金属を含み、又は金属若しくは合金から作製される。特に、金属又は合金は、少なくとも、銅、アルミニウム、オーステナイト系鋼及びオーステナイト系ステンレス鋼からなる群から選択されたものである。
【0019】
概して、上面の平面図では、基体は、表面積が約9mm
2から約1000mm
2、好ましくは約400mm
2又は50mm
2以下である。その高さは、概して、約0.1mmから約10mmまでの範囲、好ましくは最大約2mmである。
【0020】
基体の他のあり得る実施の形態については、文献、国際公開第2009/132838号に記載されている基部を参照されたい。
【0021】
少なくとも1つの接続体は、基体の上面に配置された機能素子用の電気接続を提供する接続体である。概して、接続体は、基体したがって機能素子の上面と周囲との接続を確立することができる。
【0022】
少なくとも1つの接続体は中実体である。その接続体は、特に、金属板及び/又は金属製コンタクトピンとして提供される。好ましくは、その接続体を、例えば指で圧縮されているとき、わずかな圧力下で変形可能とすることさえできる。その接続体は、例えばPVDプロセスを使用して基体の上に堆積又は成長した層を構成していない。
【0023】
接続体は、金属又は合金を含むか又はそれから構成されている。金属又は合金は、少なくとも、銅、アルミニウム、オーステナイト系鋼及びオーステナイト系ステンレス鋼からなる群から選択されたものである。
【0024】
接続体は、板として実施される場合、その上面の平面図において、表面積が約9mm
2から約1000mm
2、好ましくは約400mm
2又は50mm
2以下である。その高さは、概して、約0.1mmから約5mmの範囲、好ましくは最大約2mmである。
【0025】
金属製板としての接続体の他のあり得る実施の形態については、文献、国際公開第2009/132838号に記載されている頭部を参照されたい。
【0026】
コンタクトピンは、長さに対して断面積が非常に小さい細長い金属部品である。それは、針形状又は釘状部品である。それは、1本の直線の脚のみを備えることができ、又は少なくとも1つの屈曲部分を有することもできる。したがって、一実施の形態では、コンタクトピンを、特に少なくともその一部において、実質的に直線のピン又はI字型のピンとして提供することができる。しかしながら、別の実施の形態では、コンタクトピンを、特に少なくともその一部においてフックとして又はL字型であるように提供することができる。金属製ワイヤもまたコンタクトピンとして理解されるべきである。
【0027】
接続体がコンタクトピンとして具現化される場合、接続体の断面積は、概して、約0.1mm
2から約16mm
2の範囲、好ましくは最大3mm
2以下、より好ましくは最大約0.8mm
2以下である。
【0028】
接続体は、基体から電気的に絶縁されている。それは、ガラス層によって、少なくともその一部が分離され、及び/又は、基体から、少なくともその一部が間隔を空けて配置されている。
【0029】
ガラスは、基体を接続体に接合し、接続体から基体を絶縁するガラスである。
【0030】
ガラスは、基体及び/又は接続体に使用される材料の溶融温度未満の範囲の軟化温度を有している。接合するため又は接合時、ガラスは、部品が互いに付着する粘度を有する程度まで加熱されるか又は加熱されている。接合時、ガラスは、好ましくは、粘度が10
7Pa・sから約10
3Pa・sの範囲である。加熱は、例えば炉において達成される。
【0031】
採用されるガラスは、アルカリチタンケイ酸塩ガラスである。アルカリチタンケイ酸塩ガラスは、基体及び/又は接続体の材料に応じて選択される。アルカリチタンケイ酸塩ガラスは、基体及び/又は接続体が、特にガラスに対する境界面(複数の場合もある)において実質的に銅及び/又はアルミニウムを含む実施の形態に特に適している。基体及び/又は接続体及び/又は少なくともそれぞれの境界面は、銅又はアルミニウム含有量が少なくとも50wt%であり、好ましくは少なくとも80wt%である。
【0032】
一実施の形態では、ガラスは以下の組成(重量パーセント単位)を有するか又は含む。
【0033】
【表1】
【0034】
表で用いられているR
2Oという用語は、すべてのアルカリ酸化物の和を表している。そこではアルカリ金属は、少なくとも元素Li、Na及びKによって提供される。
【0035】
1つの特定の実施の形態では、R
2O群は、以下の成分(重量パーセント単位)を含む。
【0036】
【表2】
【0037】
第1の好ましい実施の形態では、ガラスは以下の組成を有するか又は含む。
【0038】
【表3】
【0039】
第1の実施の形態のガラスは以下の組成を有するか又は含むことが好ましい。
【0040】
【表4】
【0041】
第2の好ましい実施の形態では、ガラスは以下の組成を有するか又は含む。
【0042】
【表5】
【0043】
第2の実施の形態のガラスは以下の組成を有するか又は含むことが好ましい。
【0044】
【表6】
【0045】
ガラスによって形成されるガラス層、又はより詳細には基体と接続体との間に形成されるガラス層は、概して、厚さが約30μmを超える。これにより、十分な電気的絶縁特性を有する気密接合を提供することができる。ガラス層の電気抵抗は、概して1GΩより大きい。達成される気密性は、概して1×10
−8mbar・l/sである。ガラス層の厚さは、ハウジングの実施の形態によって決まる。好ましくは、ガラス層の厚さは、約30μmから約2000μmの範囲であり、特に、約1000μm以下である。
【0046】
さらに、本発明によるガラスは、強度の向上及び耐化学性の向上によって特徴付けられる。例えば、本発明のガラスにより、サンプル体(グレージング面が4mm×4mm、ガラス層の公称厚さが100μm)のせん断強度を、ガラスP8061と比較して、平均60Nから105Nまで増大させることができる。さらに、本発明のガラスは、ガラスG018−122と比較して耐化学性が向上している(国際公開第2009/132838号を参照)。ガラス固化の後に、電気めっきを行うことができる。
【0047】
概して、ガラスを、スクリーン印刷、定量吐出、好ましく穿孔されたガラスストリップの提供及び/又は個々のプリフォームの提供からなる群から選択された少なくとも1つの方法によって施すことができる。ガラスストリップを、例えば、スリップをストリップ形状に成形することによって提供することができる。
【0048】
本発明は、電子機能素子ハウジングを製造する方法である方法によって説明することもできる。この方法は、
少なくとも1つの基体であって、少なくとも1つの電子機能素子用の実装領域を少なくとも部分的に画定する上面を有し、それにより少なくとも1つの電子機能素子用のヒートシンクを形成する、少なくとも1つの基体を準備するステップと、
少なくとも1つの電子機能素子用の少なくとも1つの接続体と、特に前記基体と前記接続体との間に接続体を前記基体に接合する少なくとも1つのガラスとを設けるステップと、
前記ガラスを、該ガラスが付着することにより前記基体及び前記接続体から複合物を形成することができる粘度を該ガラスが有し、及び/又は該粘度に該ガラスが達するまで、加熱するステップと、
前記ガラス20を冷却するステップであって、それにより、前記基体及び前記少なくとも1つの接続体が材料結合を形成する、冷却するステップと、
を含む。
【0049】
接合時、加熱されたガラスは、400℃から1000℃、好ましくは500℃から700℃の範囲の温度である。
【0050】
ガラス層の他のあり得る実施の形態及びガラス層を使用する方法については、文献、国際公開第2009/132838号に記載されている第1のガラス層及び/又は第2のガラス層を参照されたい。
【0051】
接続体の基体へのより優れた付着をもたらすために、好ましくは、基体及び/又は接続体のガラス接触面が前処理される。一実施の形態では、前処理は、ガラス接触面の予備酸化を含むことができる。予備酸化は、例えば酸素含有雰囲気における表面の選択的酸化を指す。この場合、ガラス及び銅又は酸化銅の複合物は、非常に安定していることがわかった。金属、特に銅は、酸素含有雰囲気において選択的に酸化する。酸化物重量に関して、単位面積当たりの質量が、約0.02mg/cm
2から約0.25mg/cm
2、好ましくは約0.067mg/cm
2から約0.13mg/cm
2であることが、酸化物重量に対して有利であることがわかった。酸化物は、十分に付着し剥離しない。これは、銅が、基体において及び/又は接続体において、及び/又は境界面において、50wt%を超える、好ましくは80wt%を超える比率で提供される場合に特に当てはまる。本発明のガラスは、特に、銅の膨張と適合性がある。
【0052】
基体及び/又は接続体の特性、例えば反射率、結合性及び/又は導電性を向上させるために、これら基体及び接続体を、好ましくは金属で、少なくとも部分的にコーティングし及び/又は覆うことができることが好ましい。コーティング及び/又はライニングを製作する材料、好ましくは金属は、銀、アルミニウム、ニッケル、パラジウム及び金からなる群から選択された少なくとも1つの材料である。コーティングを生成又は製作する方法は、電気めっき及び蒸着、特にPVD及び/又はCVDからなる群から選択された少なくとも1つの方法である。
【0053】
第1の実施の形態では、ガラス層又はガラスは、基体の上面及び/又は下面、少なくともその一部に配置される。ガラス層は、好ましくは、基体の上面と少なくとも1つの接続体の下面との間に、少なくともその一部に配置される。1つの変形では、少なくとも1つの接続体は、基体、少なくともその一部を越えて延在する。それは、接続の目的で少なくとも1つのタブを提供する。
【0054】
ハウジングの変形では、基体の上面にかつ少なくとも1つの接続体の上面に、頭部が配置される。頭部の他のあり得る実施の形態については、文献、国際公開第2009/132838号に記載されている頭部を参照されたい。
【0055】
第2の実施の形態では、ガラス層又はガラスは、基体の側面と接続体との間に、少なくともその一部に配置される。この目的で、少なくとも1つの接続体は、基体の側部に沿って配置される。接続体は、基体の周面に沿って少なくとも部分的に延在する。
【0056】
ハウジングの別の実施の形態では、少なくともその下面に絶縁体が施される。この目的で、絶縁体は、基体の下面に、任意選択的に接続体の下面に設けられ、好ましくは絶縁層によって提供される。絶縁体を、連続的とするか又はセグメント化することができる。絶縁材料は、ガラス及び/又はセラミック材料であるか又はそれを含むことが好ましい。その層を、例えばエナメル加工により及び/又はコールドスプレープロセスにより施すことができる。これにより、ハウジングの下面を電気的に浮遊した状態で維持することができる。
【0057】
ハウジングの別の実施の形態では、基体の側部にスリーブが配置される。スリーブ又はシースは、基体及び/又は接続体の周面の回りに、少なくともその一部に延在する。スリーブは、基体に及び/又は接続体に、ガラス層を介して取り付けられる。ガラス層は、基体とスリーブとの間に配置される。スリーブは、例えばステンレス鋼の金属スリーブとして提供されることが好ましい。それにより、規定された電位、例えば接地電位でハウジングの少なくとも外面を提供することが可能である。
【0058】
さらに、本発明の範囲内には、本発明によるハウジングと、ハウジング内に配置される、少なくとも1つの放射線放出光電子機能素子及び/又は放射線受光光電子機能素子、特にLED、及び/又は少なくとも1つのパワーエレクトロニクスデバイス、特にFETとを備える、電子部品及び/又は光電子部品がある。
【0059】
ハウジング及び/又は電子部品及び/又は光電子部品は、苛酷な環境で、例えば湿気及び/又は腐食性ガス及び/又は放射線に曝されているときに使用されるのに特に適している。
【0060】
また、本発明の範囲内には、特に車両で及び/又は航空機で及び/又は飛行場灯火として使用される、本発明による少なくとも1つのハウジング及び/又は1つの光電子部品を備える、内部照明及び/又は外部照明等の照明装置がある。照明装置の例としては、座席照明、読書灯、特に天井又は壁に組み込むことができる作業灯、家具及び/又は建築物における物体照明、好ましくは自動車及び/又は航空機におけるヘッドランプ及び/又はテールライト及び/又は車内灯及び/又は計器灯若しくは表示灯、LCDディスプレイ用のバックライト、好ましくは医療用途及び/又は浄水用途におけるUV灯、及び/又は湿気及び/又は腐食性ガス及び/又は放射線に曝されているとき等の苛酷な環境に対する照明が含まれる。
【0061】
本発明は更に、LED等の光電子部品用のハウジングと、こうしたハウジングを製造する方法とに関する。
【0062】
概して、本発明は、従来技術に記載されておりかつ少なくとも2つの層から構成されるようなハウジングを、単一層のみから形成されるハウジングに低減することを提案している。それは、1層ハウジングである。概して、ハウジングは、基体と、基体内に及び/又は基体に実装される少なくとも1つの接続体とを備えている。好ましくは、ハウジングは、実質的に無機のハウジングである。ハウジングは、金属製基体と、ガラスと、少なくとも1つの金属製接続体とからなるか又はそれらを備えている。通常、この場合は基体によって提供されるハウジングの上面には、他の部品は配置されない。しかしながら、任意選択的に、光電子機能素子が実装されるか又は配置されると、本発明のハウジングを、その上面で光学部品によって閉鎖することが可能である。
【0063】
詳細には、本発明は、光電子機能素子、特にLEDを収容するハウジングを提供し、該ハウジングは、少なくとも以下の構成要素を備えるか又は以下の構成要素からなる。本発明によるハウジングは、
基体であって、少なくとも1つの光電子機能素子用の実装領域を少なくとも部分的に画定する上面を有し、それにより、少なくとも1つの光電子機能素子用のヒートシンクを形成し、下面及び側面をさらに有する基体と、
特に材料結合によって前記基体に結合される、少なくとも1つの光電子機能素子用の少なくとも1つの接続体と、
を具備し、
前記基体は、少なくとも1つのチャネルを有し、該チャネル内に、前記少なくとも1つの接続体、少なくともその一部が配置され、該チャネルは、前記基体を前記接続体に接合するために少なくとも部分的にガラスによって充填されている、ハウジングである。
【0064】
さらに、本発明の範囲内には、特にLED用の光電子機能素子ハウジングを製造する方法であって、
少なくとも1つのチャネルを備える少なくとも1つの基体であって、少なくとも1つの光電子機能素子用の実装領域を少なくとも部分的に画定する上面を有し、それにより少なくとも1つの光電子機能素子用のヒートシンクを形成する、少なくとも1つの基体を準備するステップと、
前記少なくとも1つのチャネル内に、少なくとも1つの光電子機能素子用の少なくとも1つの接続体と、前記少なくとも1つの接続体を前記基体に接合する少なくとも1つのガラスとを設けるステップと、
前記少なくとも1つのチャネル内の前記ガラスを、該ガラスが付着することにより前記基体及び前記接続体から複合構造体を形成することができる粘度を該ガラスが有し、及び/又は該粘度に該ガラスが達するまで、加熱するステップと、
前記ガラスを冷却するステップであって、それにより、前記基体及び前記少なくとも1つの接続体が材料結合を形成し、前記少なくとも1つの接続体は、前記ガラスに、少なくともその一部が埋め込まれる、冷却するステップと、
を含む方法がある。
【0065】
本発明の好ましい実施の形態では、基体及び/又は接続体及び/又はガラスは、それぞれのアレイで提供される。本発明のハウジングは、特に、本発明による方法によって製造可能であるか又は製造される。
【0066】
本発明による方法は、好ましくは、本発明のハウジングを製造するように適合されている。個々の方法ステップの順序を変更することができる。
【0067】
少なくとも1つの機能素子は、基体の上に配置される。一方で、基体は、機能素子用の荷重支持要素である。したがって、基体を、キャリア又はベースと呼ぶこともできる。他方で、基体は、機能素子用のヒートシンクを構成する。
【0068】
基体を、一片で、又はセグメントから形成することができ、例えば、層を含むことができる。さらに、通路、すなわちいわゆるサーマルビアを基体に形成することができる。機能素子は、ハウジングに収容されるか又は基体上に配置された後、基体と直接接触している。
【0069】
機能素子を、例えば、基体に接着剤で付着させ及び/又ははんだ付けすることができる。使用されることが好ましいはんだは、鉛フリー軟質はんだである。接着剤は、好ましくは、銀で強化されたエポキシ樹脂等の導電性接着剤である。したがって、直接接触とは、接着剤、はんだ又は結合剤を介する接触も指す。
【0070】
本発明によれば、基体は、機能素子用のヒートシンクもまた構成するため、適切な熱伝導率を有する材料を含む。好ましくは、基体は、少なくとも約50W/mK、好ましくは少なくとも約150W/mKの熱伝導率を示す。
【0071】
基体を、他の構成要素に熱的に結合することができる。好ましくは、基体は、少なくとも1つの金属を含むか、又は金属若しくは合金から作製される。一般的な金属は、例えば、銅及び/又はアルミニウム及び/又はニッケル及び/又は鉄及び/又はモリブデン及び/又は銅−タングステン及び/又はCu−モリブデンである。
【0072】
基体の他のあり得る実施の形態については、文献、国際公開第2009/132838号に記載されている基部を参照されたい。
【0073】
少なくとも1つの機能素子用の実装領域は、基体の中心にあるか、又は基体の中心軸の領域にあるか、又は基体の中心軸にあることができる。
【0074】
概して、上面の平面図では、基体は、表面積が約5mm
2から約1000mm
2、好ましくは約250mm
2以下である。基体の高さは、概して、約0.2mmから約10mmまでの範囲、好ましくは約2mm以下である。
【0075】
チャネルは、少なくとも1つの接続体を案内し、収容し、及び/又は支持するチャネルである。チャネル内には、厳密に1つの接続体又は複数の接続体を、少なくとも部分的に又は完全に配置することができる。基体には厳密に1つのチャネルを設けることができ、又は基体に複数のチャネルを設けることができる。
【0076】
好ましくは、少なくとも1つのチャネルは、基体の側部に配置され、及び/又は側部には配置されず、すなわち基体の内部に配置される。1つの特定の実施の形態では、少なくとも1つのチャネルは、基体の側方凹部として、及び/又は基体の非側方凹部として形成される。非側方凹部の場合、チャネルは、基体の正面及び/又は裏面の凹部として形成される。
【0077】
一実施の形態では、少なくとも1つのチャネルは、基体の上面に及び/又は下面に及び/又は側面に通じている。このように、基体の上面及び/又は下面及び/又は側面の間に、好ましくは連続的な連通が確立される。一実施の形態では、チャネルは、正面、すなわち上面から裏面、すなわち下面まで延在し、及び/又は基体の正面と基体の裏面との間に連通を可能にし、好ましくは穴として形成される。
【0078】
本発明の一実施の形態では、少なくとも1つのチャネルは、好ましくは実質的に直線の第1の部分を備えている。好ましくは、第1の部分は、実質的に基体の中心軸に沿って、好ましくはそれに対して平行に延在している。チャネルは、好ましくは第1の直線部分によって限定して形成される場合、実質的にI字型である。
【0079】
この場合、チャネルの第1の部分は、好ましくは基体の開口部又はボアである。実質的にI字型チャネルを備える一実施の形態では、チャネルは、基体の非側方領域に配置される場合、管状形状を有する。このチャネルは、開放端部を有する或る種の管を構成する。しかしながら、チャネルは、側方領域に配置される場合、或る種の溝又はトレンチを構成する。言い換えれば、このチャネルは、側面に通じているチャネルである。
【0080】
別の実施の形態では、少なくとも1つのチャネルは、特に付加的に、好ましくは実質的に直線の第2の部分を備えている。この部分は、チャネルの第1の部分に対して実質的に横切る方向に、好ましくは第1の部分に対して垂直に延在している。
【0081】
チャネルの第2の部分は、好ましくは、基体の上面の凹部として、及び/又は基体の下面の凹部として提供される。それは、或る種の上向きに上面に通じている溝又はチャネル及び/又は下向きに基体の底面に通じているチャネルを形成する。本発明の好ましい実施の形態では、チャネルの第2の部分は、基体の中心軸から基体の側面に向かって、好ましくは半径方向に延在している。ここで、周面又は側面は、基体の上面を下面に接続する側壁を構成している。
【0082】
一実施の形態では、チャネルは、第1の部分及び第2の部分によって形成されている。特に、この場合、チャネルの第1の部分は、チャネルの第2の部分に融合している。チャネルの第1の部分は、チャネルの第2の部分内に通じている。それにより、特に少なくともその一部に、実質的にL字型のチャネルが形成される。「L」の脚は、第1の部分及び第2の部分によって画定される。したがって、チャネルの上述した第1の部分及び上述した第2の部分を、チャネルの第1の脚及び第2の脚と呼ぶこともできる。
【0083】
チャネルは、概して、断面積が約0.25mm
2から約25mm
2、好ましくは最大約9mm
2、より好ましくは最大約3mm
2である。
【0084】
少なくとも1つの接続体は、基体の上に配置される機能素子用の電気接続を提供する接続体である。概して、接続体は、基体の上面、したがって機能素子と周囲との間の接続を、好ましくは基体の側面及び/又は裏面を介する接続によって確立することができる。
【0085】
接続体は中実体である。接続体は、好ましくは、例えば指で圧縮されているとき、わずかな圧力下で変形可能とすることさえできる。その接続体は、例えばPVDプロセスによって基体の上に堆積又は成長した層を構成していない。
【0086】
むしろ、接続体は、チャネル内に、少なくともその一部が配置される。第1の実施の形態では、接続体は、まず、チャネル内に、少なくともその一部が配置される。そして、チャネルには、接続体を基体に少なくとも部分的に接合するガラスが充填される。
【0087】
概して、接続体は、基体から電気的に絶縁される。接続体は、基体、少なくともその一部から間隔を空けて配置され、及び/又は、ガラス及び形成されるガラス層によって基体から分離される。接続体は、接続体の少なくとも2つの接点が露出し、それにより接続体を例えばワイヤによって接続することができるように、ガラス内に埋め込まれるか又は配置される。接続体の頭部及び足部は、露出していることが好ましい。接触させるために、例えば、ワイヤ(「ワイヤボンディング」)及び/又は導電路を露出領域に取り付けることができる。例えば、機能素子を接続体に又はその上に配置し、好ましくは導電性接着剤によって機能素子を接続体に取り付けることも可能である。チャネルは、少なくとも1つの接続体に、又は厳密に1つの接続体に、又は複数の接続体に関連付けられることになる。
【0088】
接続体は、基体の上面に及び/又は下面に及び/又は側面に現れ、そこで、接続体を、他の構成要素に、例えば上面の少なくとも1つの光電子機能素子に接続することができる。少なくとも1つの接続体は、基体の上面で、下面で、及び/又は側面で実質的に終端することができ、及び/又は基体の上面、下面及び/又は側面を越えて延在することができる。
【0089】
概して、接続体の形状及び/又はサイズは、それが関連付けられ及び/又はそれが配置されるチャネル、少なくともその一部の形状及び/又は寸法に適合される。特に、接続体は、好ましくは完全に、チャネルの形状に対応して、実質的に成形され、例えば、接続体は、少なくともその一部においてI字型又はL字型を有することができる。接続体を、第1の部分及び/又は第2の部分によって画定することができる。接続体の第1の部分は、実質的に基体の中心軸に沿って、好ましくはそれに対して平行に延在している。接続体の第2の部分は、第1の部分に対して実質的に横切る方向に、好ましくはそれに対して垂直に延在している。
【0090】
好ましくは、接続体はコンタクトピンである。コンタクトピンは、長さに対して断面が非常に小さい細長い金属部品である。それは、針形状又は釘状部品である。それは、1つの直線の脚のみを備えることができ、又は少なくとも1つの屈曲部分を有することもできる。したがって、コンタクトピンを、特に少なくともその一部において、実質的に直線状のピン又はI字型のピンとして提供することができる。しかしながら、それを、特に少なくともその一部においてフックとして又はL字型であるように提供することもできる。金属製ワイヤもまたコンタクトピンとして理解されるべきである。
【0091】
接続体は、金属又は合金を含むか又は構成している。金属は、この場合、少なくとも、銅、アルミニウム、ニッケル、コバルト、鉄、鋼又はステンレス鋼、フェライト系鋼又はフェライト系ステンレス鋼、及びオーステナイト系鋼又はオーステナイト系ステンレス鋼からなる群から選択される金属である。接続体、好ましくはコンタクトピンの断面積は、概して、約0.1mm
2から約16mm
2までの範囲であり、好ましくは最大約3mm
2、より好ましくは最大約0.8mm
2以下である。
【0092】
ガラスは、基体を接続体に接合する、及び/又は基体を接続体から絶縁するガラスである。ガラスは、基体及び/又は接続体に使用される材料の溶融温度未満の範囲の軟化点又は軟化温度を有している。接合するために又は接合時、ガラスは、構成要素が互いに付着する粘度を有するまで加熱され/加熱されている。接合時、ガラスは、好ましくは粘度が10
7Pa・sから約10
3Pa・sの範囲である。加熱は、例えば炉で達成される。採用されるガラスは、好ましくは、リン酸塩ガラス及び/又は軟質ガラス及び/又はアルカリチタンケイ酸塩ガラスであるか又はそれを含む。リン酸塩ガラスの例としては、SCHOTT G018−122と呼ばれるガラスが挙げられる。軟質ガラスの例としては、SCHOTT 8061及び/又はSCHOTT 8421と呼ばれるガラスが挙げられる。例えば、基体及び/又は接続体が、特にガラスとの接触面において、実質的に銅及び/又はアルミニウムによって提供される場合、ガラスは、好ましくはアルカリチタンケイ酸塩ガラスである。基体及び/又は接続体及び/又は少なくとも接触面は、銅又はアルミニウム含有量が少なくとも50wt%、好ましくは少なくとも80wt%である。
【0093】
好ましい実施の形態では、ガラスは、上記表に記載されている組成を有するか又は含む。
【0094】
ガラスによって形成されるガラス層、又はより詳細には基体と接続体との間に形成されるガラス層は、概して、厚さが約30μmを超える。このように、十分な電気的絶縁特性を有する気密接合を提供することができる。好ましくは、ガラス層は、厚さが約200μmから約2000μmである。
【0095】
特に上述した組成を有する、アルカリチタンケイ酸塩ガラスに基づくアルカリチタンケイ酸塩ガラスに基づくガラス層の電気抵抗は、概して、1GΩを超える。気密性は、概して1×10
−8mbar・l/s未満である。さらに、ガラスは、強度の向上及び耐化学性の向上によって特徴付けられる。例えば、サンプル体(グレージング面が4mm×4mm、ガラス層の公称厚さが100μm)のせん断強度を、本発明のガラスにより、ガラスP8061に比較して、平均60Nから105Nまで増大させることができる。さらに、本発明によるガラスは、ガラスG018−122に比較して耐化学性が向上している(国際公開第2009/132838号を参照)。ガラス固化の後に電気めっきを行うことができる。
【0096】
概して、ガラスを、定量吐出、好ましく穿孔されたガラスストリップの提供及び/又は個々のプリフォームの提供からなる群から選択された少なくとも1つの方法によって施すことができる。ガラスストリップを、例えば、スリップをストリップ形状に成形することによって提供することができる。十分な製造のために、ガラスをアレイで提供することができる。
【0097】
ガラス層又はガラス及びガラスを使用する方法の他の好ましい実施の形態については、文献、国際公開第2009/132838号に記載されている第1のガラス層及び/又は第2のガラス層を参照されたい。
【0098】
接続体の基体へのより優れた付着を達成するために、基体及び/又は接続体のガラス接触面は、好ましくは前処理される。一実施の形態では、前処理は、ガラス接触面の予備酸化を含むことができる。予備酸化は、例えば酸素含有雰囲気における表面の選択的酸化を指す。この場合、ガラスと銅又は酸化銅との間の接合は、非常に安定していることがわかった。金属、好ましくは銅は、酸素含有雰囲気において選択的に酸化する。酸化物重量に関して、単位面積当たりの質量が、約0.02mg/cm
2から約0.25mg/cm
2、好ましくは約0.067mg/cm
2から約0.13mg/cm
2であることが、酸化物重量に対して有利であることがわかった。酸化物は、十分に付着し、剥離しない。これは、銅が、基体において及び/又は接続体において及び/又は少なくとも接触面において、50wt%を超える、好ましくは80wt%を超える比率で提供される場合に、特に当てはまる。
【0099】
基体及び/又は接続体の特性、例えば反射率、結合性及び/又は導電性を向上させるために、これら基体及び接続体を、好ましくは金属で、好ましくは少なくとも部分的にコーティングし及び/又は覆うことができる。1つのあり得る方法は、めっき、好ましくは電気めっきである。
【0100】
基体の上に配置することができる光電子機能素子は、放射線放出部品及び/又は放射線受光部品である。それはチップとして形成されることが好ましい。機能素子は、LED、フォトダイオード及びレーザーダイオードの群から選択された少なくとも1つの部品である。本発明によるハウジングは、好ましくは出力が約5Wを超える、高出力LEDで使用されるように特に適しており、それは、こうした部品が効率的な放熱を必要とし、ハウジングを十分に耐熱性としなければならないためである。本発明のハウジングを、特に、採用されるときに十分な熱安定性を必要とする、パワー半導体等の非光電子機能素子にも有用とすることができる。したがって、本発明のハウジングを、光電子機能素子用及び/又はより一般的には機能素子用のハウジングとすることもできる。それは、本発明による方法にも当てはまる。
【0101】
別の実施の形態では、本発明は、基体の少なくとも上面が、底面がある少なくとも1つの窪みを有しているという点で特徴的である。少なくとも1つの光電子機能素子用の実装領域は、窪みの底部によって提供される。窪みに配置される機能素子は、平坦な上面に配置される機能素子より適切に保護されることになる。好ましくは、窪みの内面は、少なくともその一部に反射特性を有しており、それにより、窪みは、光電子機能素子によって放出され及び/又は受光されるべき放射線用の反射体を形成する。好ましい実施の形態では、窪みは、直径が、少なくとも1つの光電子機能素子が配置可能な窪みの底部から開始して、窪みの上側に向かって増大する。好ましくは、窪みは、少なくとも部分的に円錐台として及び/又は角錐台として形成され、窪みの底部は、円錐台及び/又は角錐台の基部を形成する。窪みを、本明細書では底部とも呼ぶ基面と、最上面と、概して本明細書では側面とも呼ぶ周面とによって画定することができる。概して、基体の上面の平面図において、窪みは、表面積が約4mm
2から約50mm
2まで、好ましくは最大約20mm
2である。深さは、通常、約0.2mmから約2mmの範囲である。
【0102】
本発明の一実施の形態では、少なくとも1つのチャネルは、少なくとも1つの窪みに、特に窪みの側面に通じている。この種の構成は、接続体が機能素子に空間的に近接するのを可能にし、その結果、雑音に対する感度を低減することができる。
【0103】
一実施の形態では、本発明のハウジングは、基体の上面に、光学部品等、端部要素を受け入れかつ支持する収容領域を有している。任意選択的に、少なくとも1つの好ましくは透明な端部要素が、基体の上面に、ここでは好ましくは収容領域に施される。特に、端部要素は光学部品である。光学部品の一例は、焦点合わせ部品、好ましくはレンズである。レンズを、好ましくは凸ガラスレンズによって、及び/又はシリコーン滴等、滴によって提供することができる。
【0104】
要件に応じて、本発明によるハウジングを、異なるように設計することができ、例えば、基体は、1つの窪み及び1つのチャネル又は2つのチャネルを有することができる。しかしながら、基体が、複数のチャネル及び/又は複数の窪みを有することも可能である。
【0105】
基体における複数のチャネル及び/又は複数の窪みに基づく幾つかの実施の形態について以下に述べる。
【0106】
第1の実施の形態では、複数のチャネルのうちの少なくとも幾つか及び/又は複数の窪みのうちの少なくとも幾つか、少なくともその一部は、実装領域の回りに、例えば円で分散される。好ましくは、隣接するチャネル及び/又は窪みは、互いに実質的に等間隔に配置される。第2の実施の形態では、複数のチャネルのうちの1つのチャネル及び/又は複数の窪みのうちの1つの窪みは、基体の中心軸に配置され、複数のチャネルのうちの残りのチャネル及び/又は複数の窪みのうちの残りの窪みは、基体の中心軸の回りに分散される。
【0107】
各機能素子は、概して動作するために一対の接続が必要であるため、ハウジングの別の実施の形態は、複数のチャネルのうちの幾つかのチャネルが少なくとも部分的に対で配置されるという点で特徴付けられる。好ましくは、複数の窪みの各窪みには、少なくとも一対のチャネルが関連付けられている。
【0108】
ハウジングの別の実施の形態では、少なくともハウジングの下面に絶縁体が施される。この目的で、絶縁体は、基体の下面に、任意選択的に少なくとも1つの接続体の下面に設けられ、絶縁体は、好ましくは絶縁層によって提供される。絶縁体を、連続的とするか又はセグメント化することができる。絶縁材料は、好ましくは、ガラス及び/又はセラミック材料であるか又はそれを含む。層を、例えばエナメル加工により、及び/又はコールドスプレープロセスによって施すことができる。これにより、ハウジングの下面を電気的に浮遊した状態で維持することができる。
【0109】
ハウジングの別の実施の形態では、基体の側部にスリーブが配置される。スリーブ又はシースは、基体の周面の回りに、少なくともその一部の回りに延在する。スリーブは、好ましくはガラス層によって基部に取り付けられる。ガラス層は、基体とスリーブとの間に配置される。好ましくは、スリーブは、例えばステンレス鋼の金属製スリーブとして提供される。これにより、ハウジングの外面を規定された電位で、例えば接地電位又はゼロ電位で提供することができる。
【0110】
基体、及び特に基体及び/又は接続体に及び/又はその中に配置されたチャネルもまた、リードフレームプロセスによって製作される。こうした製造技法の例としては、光化学エッチング、打抜き加工、レーザー切断及び/又はウォータージェット切断が挙げられる。打抜き加工は非常に費用効率がよく、したがって、上述した部品を製造する好ましい技法である。したがって、本発明の1つの好ましい実施の形態は、少なくとも1つのチャネルを備えた基体及び/又は接続体を製作するために、本質的に打抜き加工可能な金属のみを使用する。一実施の形態では、板が、多数の構成要素が板ごとに製作されるようにパターニングされる。ハウジングは、個々のハウジングのアレイの一部である。したがって、アレイは、それぞれの部品が組み込まれるか又は配置される或る種の基礎体である。したがって、同様に本発明の範囲内には、複数のハウジング、好ましくは複数の上述したハウジングを備える構成又はアレイがある。個々のハウジングは、ウェブ又は接続ウェブによってそれぞれのアレイに取り付けられる。したがって、本発明を、複数の光電子機能素子ハウジングを製造する方法によって同様に説明することができる。その製造の後、ハウジングはアレイから分離される。
【0111】
さらに本発明の範囲内には、本発明によるハウジングと、ハウジング内に配置される、少なくとも1つの放射線放出光電子機能素子及び/又は放射線受光光電子機能素子、特にLEDとを備える、光電子部品がある。
【0112】
また本発明の範囲内には、特に車両及び/又は航空機で及び/又は飛行場灯火として使用される、本発明による少なくとも1つのハウジング及び/又は1つの光電子部品を備える照明装置、例えば内部照明及び/又は外部照明がある。照明装置の例としては、座席照明、読書灯、特に天井又は壁に組み込むことができる作業灯、家具及び/又は建築物における物体照明、好ましくは自動車におけるヘッドランプ及び/又はテールライト、及び/又は車内灯及び/又は、計器灯若しくは表示灯、LCDディスプレイ用のバックライト、好ましくは医療用途及び/又は浄水用途におけるUV灯、及び/又は湿気及び/又は腐食性ガス及び/又は放射線に曝されているとき等の苛酷な環境に対する照明がある。
【0113】
ここで、本発明について、以下の例示的な実施形態によって詳細に説明する。この目的で、添付図面を参照する。さまざまな図面における同じ参照数字は同じ部分を示す。