特許 6205101 細胞塊取得装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6205101

(24)【登録日】2017年9月8日

(45)【発行日】2017年9月27日

(54)【発明の名称】細胞塊取得装置

(51)【国際特許分類】

   C12M 1/26 20060101AFI20170914BHJP

   C12M 1/00 20060101ALI20170914BHJP

   C12M 3/00 20060101ALI20170914BHJP

【ＦＩ】

   C12M1/26

   C12M1/00 A

   C12M3/00

【請求項の数】7

【全頁数】13

(21)【出願番号】特願2013-125102(P2013-125102)

(22)【出願日】2013年6月13日

(65)【公開番号】特開2015-17(P2015-17A)

(43)【公開日】2015年1月5日

【審査請求日】2016年3月10日

(73)【特許権者】

【識別番号】593006630

【氏名又は名称】学校法人立命館

(73)【特許権者】

【識別番号】501397920

【氏名又は名称】旭光電機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100136205

【弁理士】

【氏名又は名称】佐々木 康

(74)【代理人】

【識別番号】100127166

【弁理士】

【氏名又は名称】本間 政憲

(72)【発明者】

【氏名】小西 聡

(72)【発明者】

【氏名】田畑 泰彦

(72)【発明者】

【氏名】和田 貴志

(72)【発明者】

【氏名】萩原 文弘

【審査官】 千葉 直紀

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００８−２５９４４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特許第５０７４３８２（ＪＰ，Ｂ２）

【文献】 特開２００３−１０２４６６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１４８６８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０１６３１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−０５５０６９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ１２Ｍ

ＪＳＴＰｌｕｓ／ＪＭＥＤＰｌｕｓ／ＪＳＴ７５８０（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

所定の細胞培養容器で培養された細胞塊を取得する細胞塊取得装置であって、
所定の気体を射出する気体射出手段、
前記気体射出手段に一体として固定される細胞塊受容部、
前記細胞塊受容部を前記細胞培養容器に配置したときに、前記細胞塊受容部と前記細胞培養容器の側壁との間に、前記細胞培養容器の底部から上部へと通ずるように形成される通過空間、
を有し、
前記細胞塊受容部は、
前記細胞培養容器の前記上部に向かって開口する細胞塊受容凹部、
を有し、さらに、
前記気体射出手段は、
前記細胞培養容器から前記細胞塊を取得する際に、前記細胞培養容器に注入された所定の液体培地内に位置し、 前記細胞培養容器の前記底部に向かって前記気体を射出し、前記細胞培養容器の前記底部から前記通過空間への向かう前記液体培地の流れを形成すること、
を特徴とする細胞塊取得装置。

【請求項2】

請求項１に係る細胞塊取得装置において、さらに、
前記細胞塊受容部を前記細胞培養容器に配置したときに、前記細胞塊受容部と前記細胞培養容器の底面との間に形成される底部空間、
を有する細胞塊取得装置。

【請求項3】

請求項１に係る細胞塊取得装置において、
前記細胞塊受容部は、
前記細胞培養容器の側壁に平行な端面を有すること、
を特徴とする細胞塊取得装置。

【請求項4】

請求項２に係る細胞塊取得装置において、
前記細胞塊受容部は、
前記細胞培養容器の前記底面に対して水平な端面を有すること、
を特徴とする細胞塊取得装置。

【請求項5】

請求項２に係る細胞塊取得装置において、
前記細胞塊受容部は、
前記細胞培養容器の前記底面に沿った底面を有すること、
を特徴とする細胞塊取得装置。

【請求項6】

請求項１〜請求項５のいずれかに係る細胞塊取得装置において、さらに、
前記細胞培養容器の側壁に配置される流路規制手段であって、前記通過空間の上部に配置され、前記培養用容器の側壁から前記培養用容器の中心に向かって上昇する斜面を有する流路規制手段、
を有する細胞塊取得装置。

【請求項7】

所定の細胞培養容器で培養された細胞塊を取得する細胞塊取得装置を製造する細胞塊取得装置の製造方法であって、
所定の曲面状の底面を有する製造容器に、所定の材料を注入し、
前記製造容器に注入した前記材料に、所定の曲面を有する細胞塊受容凹部形成部材を配置し、
前記細胞塊受容凹部形成部材が配置された状態で、前記材料を固化し、
固化した前記材料から前記細胞塊受容凹部形成部材を取り除くことによって、細胞塊受容凹部を形成し、
前記細胞塊受容凹部を形成した前記固化した材料から、前記前記細胞塊受容凹部が形成されている側の一部を、前記細胞培養容器の側壁から所定の位置で、前記細胞塊受容凹部が露出するように垂直に切除すること、
を特徴とする細胞塊取得装置の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、培養された細胞塊を取得する細胞塊取得装置に関し、特に、凹状の細胞培養容器で培養された細胞塊を簡単に取得できるものに関する。

【背景技術】

【0002】

細胞培養技術において、生体内と同等な三次元組織を構築できる細胞塊（スフェロイド、細胞凝集体ともいう）の培養が着目されている。細胞塊の培養では、細胞が三次元に集合して塊となるので、細胞が二次元に集合する単層培養法に比して、細胞の特異的な機能を長期間維持することができる。このような細胞塊の培養方法としては、例えば、マイクロウェルを用いるものがある（特許文献１）。これにより、均一な大きさの細胞塊を大量に培養できる。培養した細胞塊については、化学的な標識を行ったり、物理的なダメージを与えたりすることなく、回収することが必要である。

【0003】

ここで、化学的な標識を行ったり物理的なダメージを与えたりすることなく、培養した細胞塊を回収する装置について、図１１を用いて説明する。図１１（ａ）、（ｂ）は装置を横から見た図であり、（ｃ）は装置を上から見た図である。また、図１１（ａ）は培養時を、図１１（ｂ）、（ｃ）は回収時を、それぞれ示す。

【0004】

この細胞塊を回収する装置には、 形成されたスフェロイドを回収する際、蓋１０２をはずし、ナノピラーシート部を保持する容器１０１の外に、液流を発生させる制御部１０４、駆動部１０５、シリンジポンプ１０６が配置される。液流はシリンジポンプ１０６からチューブを通して吐出口１０７よりナノピラーシート部１０１に与えられ、ナノピラーシート部１０１に形成されたスフェロイドに液流を与えて回収する。制御部１０４および駆動部１０５で液体の流速を規定できる。吐出口１０７の下には、液流を実質的に均一にナノピラーシート部に与えるための第１板状部材（拡散板）１０８が備えられている。第１板状部材は、ナノピラーシート部に対して０度よりも大きい角度をもって配置される。液流を受けたスフェロイドの一部は、ナノピラーシート部から溢れ出し、ナノピラーシート部に対して０度よりも大きい角度をもって配置される第２板状部材（傾斜板）１０９を通して、スフェロイド回収部１１０Ｐに集められる。スフェロイド回収部１１０Ｐは、ナノピラーシート部に隣接して、液流方向でナノピラーシート部より下流位置に配置される（以上、特許文献２参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１２−２４９５４７号公報

【0006】

【特許文献2】特開２００８−２５９４４５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

前述の細胞塊を回収する装置には、以下に示すような改善すべき点がある。前述の細胞塊を回収する装置では、ナノピラーシート部に培養した細胞塊を、所定の液流を用いて回収するものである。このため、マイクロウェル等の凹状の細胞培養容器に用いることができない、という改善すべき点がある。

【0008】

そこで、本発明は、細胞培養容器において培養した細胞塊を、化学的な標識を行ったり、物理的なダメージを与えたりすることなく、取得することができる細胞塊取得装置を提供することを目的とする。

【発明の効果】

【0009】

本発明における課題を解決するための手段及び発明の効果を以下に示す。

【0010】

本発明に係る細胞塊取得装置は、所定の細胞培養容器で培養された細胞塊を取得する細胞塊取得装置であって、所定の気体を射出する気体射出手段、前記気体射出手段に一体として固定される細胞塊受容部、を有し、前記細胞塊受容部は、上部に向かって開口する細胞塊受容凹部、を有し、さらに、前記細胞塊受容部を前記細胞培養容器に配置したときに、前記細胞塊受容部と前記細胞培養容器の側壁との間に、前記細胞塊受容部の底部から上部へと通ずる通過空間が形成されること、を特徴とする。

【0011】

これにより、細胞塊が培養されている細胞培養容器に液体培地を注入し、液体培地の内部の所定の位置に細胞塊取得装置を配置し、気体射出手段から気体を射出することによって、細胞培養容器の底部から通過空間への向かう液体培地の流れを形成することができる。形成した液体培地の流れによって、細胞培養容器の底部に癒着している細胞塊を剥離できるとともに、剥離した細胞塊を、通過空間を介して、細胞塊受容凹部に配置することができる。

【0012】

本発明に係る細胞塊取得装置では、前記細胞塊受容部は、さらに、前記細胞塊受容部を前記細胞培養容器に配置したときに、前記細胞塊受容部と前記細胞培養容器の底面との間に、所定の底部空間が形成されること、を特徴とする。

【0013】

これにより、細胞培養容器の底部に癒着している細胞塊を剥離するための液体培地の流れを、容易に形成することができる。

【0014】

本発明に係る細胞塊取得装置では、前記細胞塊受容部は、前記細胞培養容器の側壁に平行な端面を有すること、を特徴とする。

【0015】

これにより、容易に通過空間を形成することができる。

【0016】

本発明に係る細胞塊取得装置では、前記細胞塊受容部は、前記細胞培養容器の底面に対して水平な端面を有すること、を特徴とする。

【0017】

これにより、容易に底部空間を形成することができる。

【0018】

本発明に係る細胞塊取得装置では、前記細胞塊受容部は、前記細胞培養容器の底面に沿った底面を有すること、を特徴とする。

【0019】

これにより、底部空間において液体培地の流れが乱れることを防止することができる。よって、細胞塊の取得率を高めることができる。

【0020】

本発明に係る細胞塊取得装置では、さらに、前記細胞培養容器の側壁に配置される流路規制手段であって、前記通過空間の上部に配置され、前記培養用容器の側壁から前記培養用容器の中心に向かって上昇する斜面を有する流路規制手段、を有する。

【0021】

これにより、通過空間の通過後液体培地の流れを細胞培養容器の側壁から細胞培養容器の中心側に移動することができる。よって、細胞塊の取得率を高めることができる。

【0022】

本発明に係る細胞塊取得装置の製造方法は、所定の細胞培養容器で培養された細胞塊を取得する細胞塊取得装置を製造する細胞塊取得装置の製造方法であって、所定の曲面状の底面を有する製造容器に、所定の材料を注入し、前記製造容器に注入した前記材料に、所定の曲面を有する細胞塊受容凹部形成部材を配置し、前記細胞塊受容凹部形成部材が配置された状態で、前記材料を固化し、固化した前記材料から前記細胞塊受容凹部形成部材を取り除くことによって、細胞塊受容凹部を形成すること、を特徴とする。

【0023】

これにより、細胞塊受容凹部を有する細胞塊取得装置を容易に製造することができる

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】本発明に係る細胞塊取得装置の一実施例である細胞塊取得装置１００の構成を示す図である。

【図2】細胞塊取得装置１００の平面図、正面図、左側面図を示す図であり、Ａは平面図を、Ｂは正面図を、Ｃは左側面図を、それぞれ示す図である。

【図3】細胞塊取得装置１００に関する図２ＡのＲ−Ｒ断面を示す図である。

【図4】細胞塊取得装置１００における細胞塊Ｃの取得方法を示す図である。

【図5】細胞塊取得装置１００の製造方法を示す図である。

【図6】細胞塊取得装置１００の製造方法を示す図である。

【図7】受容凹部形成部材１３５を示す図である。

【図8】本発明に係る細胞塊取得装置の一実施例である細胞塊取得装置２００の平面図、正面図、左側面図を示す図であり、Ａは平面図を、Ｂは正面図を、Ｃは左側面図を、それぞれ示す図である。

【図9】細胞塊取得装置２００に関する図８ＡのＲ−Ｒ断面を示す図である。

【図10】本発明に係る細胞塊取得装置の一実施例である細胞塊取得装置３００の断面を示す図である。

【図11】従来の細胞塊取得装置を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明していく。

【実施例1】

【0026】

本発明に係る細胞塊取得装置の一例である細胞塊取得装置１００について説明する。細胞塊取得装置１００は、所定の細胞培養容器内で培養された細胞塊を簡単に取得するための装置である。

【0027】

第１ 構成
細胞塊取得装置１００の構成について図１を用いて説明する。細胞塊取得装置１００は、マイクロウェルＭにおいて培養した細胞塊Ｂを取得するための装置である。

【0028】

細胞塊取得装置１００は、エア射出ノズル１１０、及び、細胞塊受容部１３０を有している。細胞塊受容部１３０は、エア射出ノズル１１０に固定されており、一体となっている。

【0029】

エア射出ノズル１１０は、エア射出用のμコンプレッサ等をμＴＡＳに接続されている（図示せず）細長い筒状の部材である。エア射出ノズル１１０は、一端にエア射出開口１１１を有している。エア射出ノズル１１０は、μコンプレッサから取得したエアを、エア射出開口１１１から射出する。

【0030】

細胞塊受容部１３０は、細胞塊Ｂを取得する際にマイクロウェルＭに注入された液体培地Ｌ内に位置する。細胞塊受容部１３０は、ノズル支持部１３１及び細胞塊受容凹部形成部１３３を有している。

【0031】

図１において、マイクロウェルＭの開口部から曲面状の底部に向かう軸をＺ軸、Ｚ軸に対してそれぞれ垂直なＸ軸、Ｙ軸であって、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸を設定し、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、それぞれの方向から見た細胞塊取得装置１００を、平面図、正面図、左側面図として、図２Ａ、図２Ｂ、図２Ｃに示す。なお、図２Ａ、図２Ｃにおいては、取得する細胞塊Ｃを点線にて示している。

【0032】

図２Ａに示すように、ノズル支持部１３１は、細胞塊受容凹部形成部１３３の一端部側に形成される。また、図２Ｂに示すように、ノズル支持部１３１は、細胞塊受容凹部形成部１３３の上面Ｕ１３３から突出して形成される。

【0033】

ここで、図２ＡのＲ−Ｒ断面図３に示す。図３に示すように、細胞塊受容凹部形成部１３３は、細胞塊Ｂを受容するための細胞塊受容凹部Ｓ１３３を有している。細胞塊受容凹部Ｓ１３３は、中央に向かって窪んだ曲面状の底面を有している。これにより、細胞塊受容凹部１３１は、細胞塊Ｃを安定的に保持することができる。

【0034】

図２Ｂに示すように、細胞塊受容部１３０のノズル支持部１３１が形成される側とは反対側の端部には、垂直な端面Ｅ１が形成されている。また、図２Ｃに示すように、端面Ｅ１３０は、受容凹部開口Ａ１３３を有している。

【0035】

さらに、図２Ｂに示すように、細胞塊受容凹部形成部１３３の底部には、水平な底面Ｅ３が形成されている。

【0036】

なお、細胞塊ＣをマイクロウェルＭから取得する際には、細胞塊取得装置１００とマイクロウェルＭの底面との間、つまり、細胞塊受容凹部形成部１３３の底面Ｅ３とマイクロウェルＰＭの側壁との間に底部空間ＢＳが形成されるように、細胞塊取得装置１００をマイクロウェルＭに配置する。

【0037】

同様に、細胞塊ＣをマイクロウェルＭから取得する際には、図２Ｂに示すように、細胞塊取得装置１００とマイクロウェルＭの側壁との間、つまり、細胞塊受容凹部形成部１３３の端面Ｅ１とマイクロウェルＰＭの側壁との間に通過空間ＰＳが形成されるように、細胞塊取得装置１００をマイクロウェルＭに配置する。なお、細胞塊受容凹部形成部１３３のＹ軸方向の長さＬは、マイクロウェルＭの内径ＭＬよりも短い。

【0038】

第２ 細胞塊取得装置１００を用いた細胞塊Ｃの取得方法
細胞塊取得装置１００を用いてマイクロウェルＭ内に培養した細胞塊Ｃを取得する方法について、図４を用いて説明する。マイクロウェルＭから細胞塊Ｃを取得しようとする使用者は、細胞塊Ｃが培養されたマイクロウェルＭに液体培地Ｌを、所定量、注入しておく。

【0039】

使用者は、細胞塊受容部１３０のノズル固定孔１３９にエア射出ノズル１１０を挿入し、エア射出ノズル１１０に細胞塊受容部１３０を取り付ける。なお、細胞塊受容部１３０をエア射出ノズル１１０に取り付ける際には、細胞塊受容部１３０をエア射出ノズル１１０のエア射出開口１１１から所定距離だけ離した位置に取り付ける。そして、使用者は、エア射出ノズル１１０をマイクロウェルＭの壁面に沿うように、細胞塊取得装置１００を、エア射出開口１１１がマイクロウェルＭの所定の深さとなるまで、マイクロウェルＭに挿入する。

【0040】

エア射出ノズル１１０のエア射出開口１１１を所定の位置に配置した後、使用者は、μＴＡＳを稼働させて、エア射出開口１１１からエアを射出する。これにより、エア射出開口１１１からマイクロウェルＭの底面へと向かう液体培地Ｌの流れａ４１、マイクロウェルＭの底面からマイクロウェルＭと細胞塊受容凹部形成部１３３との間に形成される通路空間ＰＳへと向かう液体培地Ｌの流れａ４３、通路空間ＰＳを上昇する液体培地Ｌの流れａ４５、さらに、通路空間ＰＳから上昇した後、下降し、マイクロウェルＭの側壁から離れるように、細胞塊受容凹部Ｓ１３３へと向かう液体培地Ｌの流れａ４７を形成することができる。

【0041】

液体培地Ｌの流れａ４１によって、マイクロウェルＭの底面に癒着している細胞塊Ｃを剥離することができる。マイクロウェルＭから剥離された細胞塊Ｃは、液体培地Ｌの流れａ４１、ａ４３、ａ４５、ａ４７に乗って、最終的に、細胞塊受容凹部Ｓ１３３に落下する。これにより、細胞塊Ｃを細胞塊受容凹部形成部１３３の細胞塊受容凹部Ｓ１３３によって受容することができる。

【0042】

このように、細胞塊取得装置１００を用いることによって、マイクロウェルＭに貯留する液体培地Ｌに制御した流れを形成し、形成した液体培地Ｌの流れに細胞塊Ｃを乗せることによって細胞塊Ｃの移動を操作し、最終的に、自動的に、細胞塊Ｃを取得することができる。

【0043】

第３ 細胞塊取得装置１００の製造方法
細胞塊取得装置１００の製造方法について、図５、図６を用いて説明する。細胞塊取得装置１００を製造するにあたって、まずは、細胞塊受容凹部形成部１３３を製造する。細胞塊受容凹部形成部１３３の製造には、所定のマイクロウェルを製造用マイクロウェルＰＭとして用意する。なお、細胞塊Ｃを培養するマイクロウェルＭの大きさ、及び、製造する細胞塊受容凹部形成部１３３の大きさに合わせた製造用マイクロウェルＰＭを用意する。

【0044】

図５Ａに示すように、製造用マイクロウェルＰＭに所定量のポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を注入する。その後、図５Ｂに示すように、受容凹部成型部材１３５を、注入したＰＤＭＳ内の、細胞塊受容凹部Ｓ１３３を形成しようとする位置に配置する。受容凹部形成部材１３５は、細胞塊受容凹部Ｓ１３３の形成に用いる部材である。受容凹部形成部１３５は、例えば、所定のプラスチックによって形成されている。

【0045】

ここで、受容凹部形成部１３５の形状について、図７を用いて説明する。図７において、Ａは受容凹部形成部材１３５の平面図を、Ｂは受容凹部形成部材１３５の正面図を、Ｃは受容凹部形成部材１３５の左側面図を、Ｄは受容凹部形成部材１３５の底面図を、それぞれ示している。図７Ｂに示すように、受容凹部形成部材１３５は、一の端部に位置する曲面形状の凹部形成端部１３５ａ、及び、凹部形成端部１３５ａに連続する本体部１３５ｂを有している。また、図７Ｃに示すように、凹部形成端部１３５ａと本体部１３５ｂとは、接続部において段差を形成している。これにより、細胞塊取得装置１００の細胞塊受容凹部形成部１３３に、細胞塊受容凹部Ｓ１３３の取り囲むような側壁を形成することができる。

【0046】

受容凹部形成部材１３５を配置した後、製造用マイクロウェルＰＭ内のＰＤＭＳに対してエア抜きを実施する。摂氏１００度で養生し、ＰＤＭＳが固化した固化ＰＤＭＳ部材Ｐ１３０が形成されると、図６Ａに示すように、受容凹部形成部材１３５を取り除く。

【0047】

その後、図６Ｂに示すように、製造用マイクロウェルＰＭから、固化ＰＤＭＳ部材Ｐ１３０を取り出し、固化ＰＤＭＳ部材Ｐ１３０の底部から細胞塊受容凹部Ｓ１３３の底部までの間の位置Ｔ１で、固化ＰＤＭＳ部材Ｐ１３０の半球状部分の一部を切除する。これにより、細胞塊取得装置１００をマイクロウェルＭ内に配置した際に、マイクロウェルＭの底部と細胞塊取得装置１００との間に底部空間ＢＳを形成することができる。

【0048】

さらに、固化ＰＤＭＳ部材Ｐ１３０から、細胞塊受容凹部１３１が形成されている側の一部を、製造用マイクロウェルＰＭの側壁から所定の位置Ｔ３で、細胞塊受容凹部Ｓ１３３が露出するように垂直に切除する。これにより、細胞塊取得装置１００をマイクロウェルＭの内部に位置させたときに、細胞塊取得装置１００とマイクロウェルＭとの間に通過空間ＰＳを形成することができる。

【0049】

以上により、図６Ｃに示すような細胞塊受容部１３０を形成する。その後、形成した細胞塊受容部１３０のノズル固定部１３１の所定の位置からエア射出ノズル１１０を挿入し、細胞塊受容凹部形成部１３３を貫通させて、エア射出開口１１１を細胞塊受容凹部形成部１３３の外部に位置させる。

【実施例2】

【0050】

本発明に係る細胞塊取得装置の一例である細胞塊取得装置２００について説明する。前述の実施例１における細胞塊取得装置１００では、通過空間ＰＳを通過したとしても、細胞塊受容凹部Ｓ１３３に到達しない場合がある。このような細胞塊Ｃの取得失敗は、例えば、一連の液体培地Ｌの流れが、所定よりも強くなく、流れａ４７におけるマイクロウェルＭから離れる方向に向かう力が弱い場合に生ずる。そこで、本実施例における細胞塊取得装置２００は、実施例１における細胞塊取得装置１００に、流れ規制部材２１０を追加配置した装置である。なお、以下においては、細胞塊取得装置２００において、細胞塊取得装置１００と同様の構成については、細胞塊取得装置１００と同様の番号を付し、詳細な説明を省略する。

【0051】

第１ 構成
細胞塊取得装置２００の構成について図８及び図８ＡにおけるＲ−Ｒ断面を示す図９を用いて説明する。細胞塊取得装置２００は、細胞塊取得装置１００に加えて、流路規制部材２１０を配置している。

【0052】

流路規制部材２１０は、図８Ａに示すように、マイクロウェルＭの内部、マイクロウェルＭの側壁に沿って配置される。なお、流路規制部材２１０は、ＰＤＭＳによって形成される。

【0053】

また、流路規制部材２１０は、マイクロウェルＭに取り付けられる。

【0054】

図８Ｂに示すように、流路規制部材２１０は、流路規制部材２１０を、通過空間ＰＳの上部に配置している。また、図９に示すように、流路規制部材２１０は、断面三角形状を有している。流路規制部材２１０は、マイクロウェルＭの側壁から中心に向かって上昇する斜面Ｓ２１０を有している。

【0055】

これにより、図９に示すように、通過空間ＰＳから上部に向かう液体培地Ｌの流れを、通過空間ＰＳの通過後、早い段階で、つまり、液体培地Ｌの流れが早い段階で、マイクロウェルＭの中心方向に向かう流れａ９７とすることができる。よって、液体培地Ｌの流れａ９７に沿って細胞塊Ｃを移動させることによって、細胞塊Ｃの取得率を上げることができる。

【実施例3】

【0056】

本発明に係る細胞塊取得装置の一例である細胞塊取得装置３００について説明する。前述の実施例１における細胞塊取得装置１００では、細胞塊Ｃが通過空間ＰＳに到達しない場合がある。このような細胞塊Ｃの取得失敗は、例えば、底部空間ＢＳにおいて、液体培地Ｌの流れが乱れる場合に生ずる。そこで、本実施例における細胞塊取得装置３００は、実施例１における細胞塊取得装置１００とは異なる細胞塊受容凹部形成部１３３の底部の形状を有するものである。なお、以下においては、細胞塊取得装置３００において、細胞塊取得装置１００と同様の構成については、細胞塊取得装置１００と同様の番号を付し、詳細な説明を省略する。なお、図１０は、細胞塊取得装置３００の断面を示す図であり、実施例１における図３に相当する図である。

【0057】

第１ 構成
細胞塊取得装置３００の構成について図１０を用いて説明する。細胞塊取得装置３００の細胞塊受容凹部形成部３３３は、曲面状の底面Ｅ９を有している。これにより、細胞塊取得装置３００をマイクロウェルＭの所定の位置に配置したときに、細胞塊受容凹部形成部３３３とマイクロウェルＭの底部との間に形成される底部空間ＢＳ３を、マイクロウェルＭの底面に沿って形成される液体培地Ｌの流れａ４１、ａ４３に沿う形状とすることができる。

【0058】

これにより、底部空間ＢＳ３において、液体培地Ｌの流れが乱れることを防止し、液体培地Ｌの流れａ４１、ａ４３から、通過空間ＰＳにおける液体培地Ｌの流れａ４５へと、スムーズに繋げることができる。よって、細胞塊Ｃの取得率を上げることができる。

【0059】

なお、細胞塊取得装置３００は、例えば、図６Ｂにおける固化ＰＤＭＳ部材Ｐ１３０の面Ｔ１に沿った切断を実施しないことによって、製造することができる。

【0060】

［他の実施例］
（１）細胞塊受容部１３０の製造材料：前述の実施例１においては、細胞塊受容部１３０をＰＤＭＳによって製造するとしたが、所定の形状を維持できるものであれば、例示のものに限定されない。

【0061】

（２）流路規制部材２１０：前述の実施例２においては、流路規制部材２１０は、ＰＤＭＳを用いて製造したが、所定の形状を維持できるものであれば、例示のものに限定されない。

【0062】

（３）マイクロウェルＭ：前述の実施例１〜実施例３においては、一つのマイクロウェルＭを用いて細胞を培養し、回収することとしたが、複数のマイクロウェルＭによってマイクロウェル・アレイを形成し、それぞれのマイクロウェルＭに細胞塊を形成し、全て又は一部の細胞塊を同時に、細胞塊取得装置１００〜細胞塊取得装置３００を利用して、回収するようにしてもよい。

【産業上の利用可能性】

【0063】

本発明に係る細胞塊取得装置は、例えば、ＩＰＳ細胞（Induced Pluripotent Stem cell）の製造に利用することができる。

【符号の説明】

【0064】

１００・・・・・細胞塊取得装置
１１０・・・・・エア射出ノズル
１３０・・・・・細胞塊受容部
１３１・・・・ノズル支持部
１３３・・・・細胞塊受容凹部形成部
１３５・・・・受容凹部成型部材
２００・・・・・細胞塊取得装置
２１０・・・・・流路規制部材
３００・・・・・細胞塊取得装置
３３０・・・・・細胞塊受容部
３３３・・・・細胞塊受容凹部形成部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】