特許 6207319 真空蒸着装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6207319

(24)【登録日】2017年9月15日

(45)【発行日】2017年10月4日

(54)【発明の名称】真空蒸着装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/24 20060101AFI20170925BHJP

   C23C 14/54 20060101ALI20170925BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20170925BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20170925BHJP

【ＦＩ】

   C23C14/24 U

   C23C14/54 F

   H05B33/10

   H05B33/14 A

【請求項の数】3

【全頁数】11

(21)【出願番号】特願2013-197643(P2013-197643)

(22)【出願日】2013年9月25日

(65)【公開番号】特開2015-63724(P2015-63724A)

(43)【公開日】2015年4月9日

【審査請求日】2016年6月15日

(73)【特許権者】

【識別番号】000005119

【氏名又は名称】日立造船株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001298

【氏名又は名称】特許業務法人森本国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】西村 剛

(72)【発明者】

【氏名】藤本 英志

(72)【発明者】

【氏名】大工 博之

【審査官】 宮崎 園子

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１２／１２４５９３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１０−１５９４４８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−１８１８７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１０５９６２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１１／０７１０６４（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ２３Ｃ １４／２４

Ｃ２３Ｃ １４／５４

Ｈ０１Ｌ ５１／５０

Ｈ０５Ｂ ３３／１０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

蒸着材料を蒸発させるるつぼと、当該るつぼからの蒸発材料の流量を調整する流量調整部と、上記るつぼからの蒸発材料を導入する導入管と、当該導入管に導入された蒸発材料を導くとともに導かれた蒸発材料を拡散させる拡散容器と、この拡散容器の内部で拡散された蒸発材料を基板に向けて放出する複数の放出孔と、上記導入管に設けられた流量計測機構と、所定の真空度にされた内部に上記拡散容器および上記基板を配置した真空容器とを備え、上記基板に蒸着を行う真空蒸着装置であって、
上記流量計測機構が、所定の真空度にされた上記導入管に導入された蒸発材料を計測の対象とするものであり、
上記流量計測機構が、上記流量調整部の下流側に設けられた圧力損失バルブと、この圧力損失バルブの上流側および下流側にそれぞれ設けられて上記流量調整部の下流側に位置する複数の圧力センサとを具備し、
上記複数の圧力センサで計測した蒸発材料の圧力から、これらの圧力差を算出し、この圧力差に基づいて上記流量調整部を制御するコントローラを備えたことを特徴とする真空蒸着装置。

【請求項2】

上記るつぼが複数あるとともに、これら複数のるつぼのうち少なくとも１つが、ドーパントの蒸着材料を蒸発させて蒸発材料とするドーパント用るつぼであり、
上記流量計測機構が、少なくとも、上記ドーパント用るつぼからの蒸発材料を導入する上記導入管に設けられたものであることを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置。

【請求項3】

上記流量調整部と上記圧力損失バルブとの間で、上記導入管に設けられた排出管と、
上記排出管に設けられて上記導入管および上記排出管から蒸発材料を排出する排気用ポンプと、
上記排出管に設けられた排気バルブとを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の真空蒸着装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、金属薄膜、有機材料薄膜、太陽電池やディスプレイパネルなどの金属電極配線、有機ＥＬ発光層などの蒸着に用いる真空蒸着装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

一般に上記薄膜などは、真空度を１０^−４Ｐａ以上の高真空において、蒸着で形成される。これに使用される真空蒸着装置は、例えば特許文献１に示すように、内部が高真空にされ得る真空チャンバと、蒸着材料が収容されるとともに加熱機構を備えたるつぼと、このるつぼの加熱により蒸発した蒸着材料（蒸発材料）が導かれる拡散容器（マニホールド）とを設け、マニホールドの内部に導かれた蒸発材料を当該マニホールドの上部に設けられた複数のノズルから放出させて基板に蒸着させることで、この基板に薄膜を形成する構成とされている。この真空蒸着装置は、マニホールドに対するノズルの設計（配置、大きさ、角度など）を適正化することで、基板回転機構などの可動部分がなくても大面積基板に対して膜厚均一性を得られる、という利点を有している。

【0003】

通常、基板に蒸着する単位時間当たりの蒸発材料の量、つまり蒸着レートは、るつぼの加熱温度で制御される。しかし、るつぼの温度が安定しても、るつぼに収容された蒸着材料の温度は少しずつ上昇するので、蒸着レートを安定させることは難しい。このため、蒸発材料の流路に流量調整バルブを設け、基板の近傍に設けられた膜厚センサからの信号（蒸着レート）に基づいて流量調整バルブの開度を制御することで、蒸着レートを安定させる方法がある（例えば、特許文献２参照）。

【0004】

ところで、上記膜厚センサには、水晶振動子式のものが広く使用されている。水晶振動子式の膜厚センサは、その水晶振動子の表面に蒸着された蒸着材料の量を計測するものである。しかし、このような膜厚センサは、その水晶振動子の表面に蒸着された蒸着材料の量が７００〜８００ｎｍ程度を超えれば計測誤差が大きくなるので、水晶振動子を新たなものに交換することが必要となる。この交換が必要となるまでの時間、つまり水晶振動子の寿命は、実際の生産ラインで要求される連続稼動時間に比べて短い。このため、水晶振動子式の膜厚センサを実際の生産ラインで使用すれば、寿命切れの水晶振動子を交換するために連続稼動を停止する必要が生ずるので、生産性の低下につながる。

【0005】

一方で、水晶振動子を使用しない真空蒸着装置が特許文献３に開示されている。この特許文献３に開示された真空蒸着装置では、真空容器内に、蒸着材料が収容されるとともに加熱機構を備えたるつぼと、蒸発材料の圧力を計測する１つの圧力センサとが配置され、真空容器内における蒸発材料の流量と蒸着レートとにある一定の相関関係を利用するものである。具体的に説明すると、上記真空蒸着装置は、上記１つの圧力センサで計測された圧力から蒸着レートを算出することで、算出された蒸着レートに基づき、るつぼに備えられた加熱機構による蒸着材料の加熱量を調整するように構成されている。

【0006】

ここで、特許文献３の圧力センサが１つである理由は、基板の周囲において圧力が一定（位置による変動がない）として扱っているためと考えられる。しかし、実際には、るつぼ内の蒸着材料が蒸発材料として真空容器内に放出されると、真空容器内の圧力が変動するので、特許文献３に記載の真空蒸着装置では、蒸着レートを正確に算出することができない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開２００５−３３０５３７号公報

【特許文献2】特開２０１０−２４２２０２号公報

【特許文献3】特開２００４−９１８５８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

しかし、特許文献３においては、蒸着材の周辺雰囲気の圧力を測定する1台の圧力センサにより、蒸発粒子の流量を求めている。これは、基板の周囲の圧力変動は少ないとして、基板の周囲の圧力を一定値として扱っているためと考えられるが、実際には蒸発粒子が真空チャンバに放出されると、真空チャンバ中の蒸発粒子量が増大して圧力変動を生じるため、蒸発粒子の流量を計測できているとは言うことができず、正確な蒸着レートで蒸着膜を形成することができず、蒸着膜に求められる特性を得ることができないという問題があった。

【0009】

また１台の圧力センサでは、２種類の蒸着材料による共蒸着により蒸着膜を形成するとき、各蒸着材料の蒸着レートを求めることができないという問題があった。
そこで、本発明は、真空チャンバを大気圧に戻すことなく蒸着レートを連続的に計測でき、生産性の低下を回避できるとともに、蒸発粒子の流量を正確に求めることができ、正確な蒸着レートで蒸着膜を形成できる蒸着装置を提供することを目的としたものである。

【0010】

また本発明は、真空チャンバを大気圧に戻すことなく蒸着レートを連続的に計測でき、生産性の低下を回避できるとともに、２種類の蒸着材料により蒸着膜を形成するとき、各蒸着材料の蒸発粒子の流量を正確に求めることができ、正確な蒸着レートで蒸着膜を形成できる蒸着装置を提供することを目的としたものである。

【課題を解決するための手段】

【0011】

上記課題を解決するため、本発明の請求項１に係る真空蒸着装置は、蒸着材料を蒸発させるるつぼと、当該るつぼからの蒸発材料の流量を調整する流量調整部と、上記るつぼからの蒸発材料を導入する導入管と、当該導入管に導入された蒸発材料を導くとともに導かれた蒸発材料を拡散させる拡散容器と、この拡散容器の内部で拡散された蒸発材料を基板に向けて放出する複数の放出孔と、上記導入管に設けられた流量計測機構と、所定の真空度にされた内部に上記拡散容器および上記基板を配置した真空容器とを備え、上記基板に蒸着を行う真空蒸着装置であって、
上記流量計測機構が、所定の真空度にされた上記導入管に導入された蒸発材料を計測の対象とするものであり、
上記流量計測機構が、上記流量調整部の下流側に設けられた圧力損失バルブと、この圧力損失バルブの上流側および下流側にそれぞれ設けられて上記流量調整部の下流側に位置する複数の圧力センサとを具備し、
上記複数の圧力センサで計測した蒸発材料の圧力から、これらの圧力差を算出し、この圧力差に基づいて上記流量調整部を制御するコントローラを備えたものである。

【0012】

また、本発明の請求項２に係る真空蒸着装置は、請求項１に記載の真空蒸着装置において、上記るつぼが複数あるとともに、これら複数のるつぼのうち少なくとも１つが、ドーパントの蒸着材料を蒸発させて蒸発材料とするドーパント用るつぼであり、
上記流量計測機構が、少なくとも、上記ドーパント用るつぼからの蒸発材料を導入する上記導入管に設けられたものである。

【0013】

さらに、本発明の請求項３に係る真空蒸着装置は、請求項１または２に記載の真空蒸着装置において、上記流量調整部と上記圧力損失バルブとの間で、上記導入管に設けられた排出管と、
上記排出管に設けられて上記導入管および上記排出管から蒸発材料を排出する排気用ポンプと、
上記排出管に設けられた排気バルブとを備えたものである。

【発明の効果】

【0014】

上記真空蒸着装置によると、流量計測機構により、蒸着レートをより正確に算出可能で、且つ、上記流量計測機構が具備する圧力損失バルブの開度を制御することにより、蒸発材料を所望の圧力損失に容易に調整することができるとともに、蒸着終了後に蒸着レートを速やかに低減させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】本発明の実施例１に係る真空蒸着装置の全体断面図である。

【図2】同真空蒸着装置に備えられたコントローラの制御ユニットを説明するブロック図である。

【図3】本発明の実施例２に係る真空蒸着装置の全体断面図である。

【図4】本発明の実施例３に係る真空蒸着装置の全体断面図である。

【図5】同真空蒸着装置に備えられたコントローラのドーパント用制御ユニットを説明するブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【実施例1】

【0016】

以下、本発明の実施例１に係る真空蒸着装置を、図面に基づき説明する。
図１に示すように、この真空蒸着装置１は、蒸着材料Ｍを蒸発させるるつぼ２と、蒸発した蒸着材料Ｍである蒸発材料をるつぼ２から導入する導入管３と、この導入管３で導入された蒸発材料を内部に配置された基板Ｋに導いて所定の真空度（負圧）で蒸着させる真空容器４と、この真空容器４内を所定の真空度（負圧）にする真空容器用ポンプ（図示省略するが真空ポンプである）とを具備する。上記真空容器４内には、導入管３で導入された蒸発材料を拡散させる拡散容器４１（マニホールドともいう）と、下側に基板Ｋを固定した状態で保持する基板ホルダー４５とが配置されている。上記拡散容器４１は、蒸発材料を拡散させるための内部空間が形成された直方体形状である。また、上記拡散容器４１における基板Ｋの対向面には、拡散させた蒸発容器を放出する放出孔４２が全体に多数形成されるとともに、各放出孔４２にノズル４３が取り付けられている。上記基板ホルダー４５に保持された基板Ｋには、基板Ｋに生成させる蒸着膜を所望の範囲にするメタルマスク４６が設けられている。

【0017】

上記るつぼ２の下流開口には、蒸発材料の流量を制御する流量調整バルブ２２（流量調整部の一例である）が接続されている。上記導入管３は、真空容器４外の流量調整バルブ２２と真空容器４内の拡散容器４１とを接続し、真空容器４の底壁４ｂを貫通して配置されている。また、上記導入管３には、その内部に導入されている蒸発材料の流量を計測する流量計測機構３１が、上記真空容器４外において設けられている。上記真空容器４外には、この流量計測機構３１および上記流量調整バルブ２２を制御して適切な蒸着を実現するコントローラ５が設けられている。ところで、図示しないが、るつぼ２には蒸着材料Ｍを加熱して蒸発させるためのヒータ（例えばシースヒータである）が設けられている。また、流量調整バルブ２２、導入管３、流量計測機構３１、拡散容器４１およびノズル４３には、図示しないが、内部を通過する蒸発材料が冷却されて付着するのを防ぐためのヒータ（例えばシースヒータである）がそれぞれ設けられている。

【0018】

次に、本発明の要旨である流量計測機構３１およびコントローラ５の詳細について説明する。
上記流量計測機構３１は、導入管３内に導入されている蒸発材料の圧力を損失させる圧力損失バルブ３２と、この圧力損失バルブ３２の上流側に設けられた上流側圧力センサ３３ｕと、上記圧力損失バルブ３２の下流側に設けられた下流側圧力センサ３３ｌとを具備する。ここで、蒸発材料の流量を算出するには、詳しくは後述するが、当該蒸発材料の圧力差Ｐｄを算出する必要がある。上記圧力センサ３３ｕ，３３ｌは、この蒸発材料の圧力差Ｐｄを算出するために、当該蒸発材料の上流側圧力Ｐｕおよび下流側圧力Ｐｌをそれぞれ計測するためのものである。また、上記圧力センサ３３ｕ，３３ｌには、例えば、気体分子による熱伝導を利用する熱伝導式圧力センサが使用される。上記圧力損失バルブ３２は、上記圧力センサ３３ｕ，３３ｌで計測された圧力から上記蒸発材料の流量を精度よく算出するために、上記圧力差Ｐｄを大きくするためのものである。

【0019】

上記コントローラ５は、制御ユニット５０を有する。この制御ユニット５０は、図２に詳しく示すように、上記圧力差Ｐｄを算出する第１減算部５１と、この第１減算部５１で算出された圧力差Ｐｄから蒸発材料の流量とともに蒸着レートＲを算出する蒸着レート演算部５３と、この蒸着レート演算部５３で算出された蒸着レートＲと所望の蒸着レートＲｅとの偏差Ｄを算出する第２減算部５２と、この第２減算部５２で算出された偏差Ｄを０にするように流量調整バルブ２２の開度を制御するＰＩ制御部５４と、圧力損失バルブ３２の開度を制御する圧力損失制御部５５とが具備されている。

【0020】

上記第１減算部５１は、上記圧力センサ３３ｕ，３３ｌで計測された蒸発材料の圧力Ｐｕ，Ｐｌがそれぞれ入力されるとともに、上流側圧力センサ３３ｕで計測された上流側圧力Ｐｕから下流側圧力センサ３３ｌで計測された下流側圧力Ｐｌを減じて、上記圧力差Ｐｄを算出する。

【0021】

上記蒸着レート演算部５３は、上記圧力差Ｐｄに所定の係数を乗じて蒸着レートＲを算出する。具体的に説明すると、上記蒸着レート演算部５３は、まず、次の式（１）の通り、導入管３のコンダクタンスＣに上記圧力差Ｐｄ（つまりＰｕ−Ｐｌ）を乗じて、蒸発材料の流量Ｑを算出する。そして、この蒸発材料の流量Ｑと蒸着レートＲとが比例することを利用し、次の式（２）の通り、算出された蒸発材料の流量Ｑに比例定数Ｆを乗じて、蒸着レートＲを算出する。これら式（１）および（２）から、次の式（３）の通り、上記所定の係数Ｇとは、上記コンダクタンスＣに上記比例定数Ｆを乗じたものである。

【0022】

Ｑ＝Ｃ×（Ｐｕ−Ｐｌ）・・・（１）
Ｒ＝Ｆ×Ｑ
＝Ｇ×（Ｐｕ−Ｐｌ）・・・（２）
なお、Ｇ＝Ｃ×Ｆ・・・・・・・・・（３）
ここで、上記所定の係数Ｇは、キャリブレーションにより、すなわち、既知の蒸着レート（別途膜厚センサで計測される）と上記第１減算部５１で算出された上記圧力差Ｐｄとに基づき、予め算出される。

【0023】

上記第２減算部５２は、上記所望の蒸着レートＲｅが別途入力されるとともに、この所望の蒸着レートＲｅから上記蒸着レート演算部５３で算出された蒸着レートＲを減じて、上記偏差Ｄを算出する。

【0024】

上記ＰＩ制御部５４は、蒸着時において、上記第２減算部５２で算出された偏差Ｄを０にするように流量調整バルブ２２の開度を制御する。また、上記ＰＩ制御部５４は、蒸着終了時において、すなわち蒸着終了指示を受信すれば、流量調整バルブ２２の開度を０（つまり全閉）にする。

【0025】

上記圧力損失制御部５５は、蒸着前において、所望のコンダクタンスＣｅに基づき、圧力損失バルブ３２の開度を所定値に制御する。また、上記圧力損失制御部５５は、蒸着終了指示が入力されれば、この蒸着終了指示を上記ＰＩ制御部５４に発信するとともに、圧力損失バルブ３２の開度を０（つまり全閉）にする。さらに、上記圧力損失制御部５５は、図示しないが、基板回収終了指示が入力されれば、圧力損失バルブ３２の開度を１００（つまり全開）にする。言い換えれば、蒸着終了時の上記圧力損失制御部５５は、圧力損失バルブ３２を全閉にすることで、真空容器４内への蒸発材料の流入を防ぐものである。その後の上記圧力損失制御部５５は、蒸着膜が生成された基板Ｋの回収を終了すれば、圧力損失バルブ３２を全閉にすることで、導入管３内の蒸発材料を真空容器用ポンプにより速やかに排出するものである。

【0026】

以下、上記真空蒸着装置１の作用について説明する。
まず、るつぼ２に蒸着材料Ｍを投入し、真空容器４の内部を真空容器用ポンプで所定の真空度（負圧）にしておく。そして、圧力損失制御部５５で、所望のコンダクタンスＣｅに基づき、圧力損失バルブ３２の開度を所定値にする。一方で、流量調整バルブ２２を閉じて、るつぼ２、流量調整バルブ２２、導入管３、流量計測機構３１、拡散容器４１およびノズル４３をヒータで加熱する。るつぼ２内の蒸着材料Ｍが加熱されると、この蒸着材料Ｍが蒸発する。その後、流量調整バルブ２２を開けることで、そのるつぼ２からの蒸発した蒸着材料Ｍ（つまり蒸発材料）は、流量調整バルブ２２および導入管３を通過し、拡散容器４１に導入される。そして、蒸発材料は、拡散容器４１の内部空間で拡散し、ノズル４３から基板Ｋに向けて放出される。放出された蒸発材料により蒸着が行われ、基板Ｋに蒸着膜を生成していく。

【0027】

この蒸着時において、蒸発材料の上流側圧力Ｐｕおよび下流側圧力Ｐｌが、それぞれ上流側圧力センサ３３ｕおよび下流側圧力センサ３３ｌで計測される。また、これら圧力Ｐｕ，Ｐｌから、圧力差Ｐｄが第１減算部５１で算出される。さらに、この圧力差Ｐｄから、蒸発材料の流量Ｑとともに蒸着レートＲが蒸着レート演算部５３で算出される。また、この蒸着レートＲと別途入力された所望の蒸着レートＲｅとから、これらＲ，Ｒｅの偏差Ｄが第２減算部５２で算出される。また、この偏差Ｄを０にするように、流量調整バルブ２２の開度がＰＩ制御部５４で制御される。

【0028】

蒸着終了時は、蒸着終了指示を圧力損失制御部５５に入力する。すると、圧力損失制御部５５は、この蒸着終了指示を上記ＰＩ制御部５４に発信する。これにより、流量調整バルブ２２が全閉にされる。また、蒸着終了指示が入力された圧力損失制御部５５は、圧力損失バルブ３２の開度を０（つまり全閉）にする。これにより、真空容器４内への蒸発材料の流入が防がれる。その後、蒸着膜が生成された基板Ｋを真空容器４内から回収し、次いで基板回収終了指示を圧力損失制御部５５に入力することで、圧力損失バルブ３２の開度を１００（つまり全開）にする。これにより、導入管３内の蒸発材料が真空容器４を通過して真空容器用ポンプにより速やかに排出される。

【0029】

このように、上記真空蒸着装置１によると、その流量計測機構３１により蒸着レートＲを正確に算出可能で、且つ、流量計測機構３１が具備する圧力損失バルブ３２の開度を制御することにより、蒸発材料を所望の圧力損失に容易に調整することができる。また、蒸着終了後は、導入管３内の蒸発材料が速やかに排出されることにより、蒸着レートＲを速やかに低減させることができる。

【実施例2】

【0030】

本実施例２に係る真空蒸着装置１は、上記実施例１に真空蒸着装置１と異なり、共蒸着を行い得るものである。
以下、本実施例２に係る真空蒸着装置１について図３に基づき説明するが、上記実施例１と異なるるつぼ２の数、導入管３およびコントローラ５に着目して説明するとともに、上記実施例１と同一の構成については、同一符号を付してその説明を省略する。

【0031】

本実施例２に係る真空蒸着装置１は、るつぼ２が２つ（複数であればよい）である。一方のるつぼ２はホストの蒸着材料ＭＨ（主たる蒸着材料）を蒸発させるもの（以下、ホスト用るつぼ２Ｈという）であり、他方のるつぼ２はドーパントの蒸着材料ＭＤ（従たる蒸着材料）を蒸発させるもの（以下、ドーパント用るつぼ２Ｄという）である。これらるつぼ２の下流開口には、それぞれ流量調整バルブ２２が接続されている。

【0032】

本実施例２に係る導入管３は、分岐部３７を有する管、つまり分岐管である。この導入管３は、具体的に説明すると、それぞれ流量調整バルブ２２に接続される２つ（るつぼ２と同数）の上流開口と、拡散容器４１に接続される１つの下流開口とを有する。なお、以下では、導入管３のうち、ホスト用るつぼ２Ｈ側の上流開口から分岐部３７までをホスト用管部３５といい、ドーパント用るつぼ２Ｄ側の上流開口から分岐部３７までをドーパント用管部３６といい、分岐部３７から下流開口までを合流管部３８という。

【0033】

本実施例２に係る流量計測機構３１は、ドーパント用管部３６に設けられる。また、ホストの蒸着材料ＭＨはドーパントの蒸着材料ＭＤほど蒸着レートの精密な制御が要求されないので、ホスト用管部３５には実施例１で説明した流量計測機構３１を設ける必要はない。しかし、ホストの蒸着レートを制御する必要はあるので、ホスト用上流側圧力センサ６３ｕがホスト用管部３５に設けられ、ホスト用下流側圧力センサ６３ｌが真空容器４内で基板Ｋの近傍に設けられる。

【0034】

本実施例２に係るコントローラ５は、ホスト用制御ユニット６０と、ドーパント用制御ユニット５０とを有する。上記ホスト用制御ユニット６０は、ホスト用るつぼ２Ｈに設けられた流量調整バルブ２２を制御してホストの蒸着材料ＭＨの適切な蒸着を実現するものである。また、上記ドーパント用制御ユニット５０は、上記実施例１に係る制御ユニット５０と同一の構成である。

【0035】

このように、上記真空蒸着装置１によると、実施例１の効果を奏する上に、ドーパントの蒸着レートＲを精密に制御し得るので、高精度の共蒸着膜を生成することができる。

【実施例3】

【0036】

本実施例３に係る真空蒸着装置１１は、上記実施例２に真空蒸着装置１１を、導入管３内の蒸発材料を極めて速やかに排出するように構成したものである。
以下、本実施例３に係る真空蒸着装置１１について図４および図５に基づき説明するが、上記実施例２と異なる導入管３に着目して説明するとともに、上記実施例２と同一の構成については、同一符号を付してその説明を省略する。

【0037】

本実施例３に係る導入管３は、図４に示すように、ドーパント用管部３６における流量調整バルブ２２と上流側圧力センサ３３ｕとの間に、排気機構７１が設けられたものである。

【0038】

図５に示すように、この排気機構７１は、ドーパント用管部３６（具体的には、流量調整バルブ２２と上流側圧力センサ３３ｕとの間）に接続された排気管７３と、この排気管７３に設けられた排気バルブ７２と、上記排気管７３の下流開口に設けられた排気用ポンプ７４（真空ポンプである）とを具備する。

【0039】

本実施例３に係るドーパント用制御ユニット５０は、圧力損失制御部５５が、圧力損失バルブ３２だけでなく、排気バルブ７２および排気用ポンプ７４も制御するものである。この圧力損失制御部５５は、具体的に説明すると、蒸着終了指示を受信すれば、この蒸着終了指示を上記ＰＩ制御部５４に発信するとともに、圧力損失バルブ３２の開度を０（つまり全閉）および排気バルブ７２の開度を１００（つまり全開）にし、且つ、排気用ポンプ７４を作動させる。これにより、蒸着終了後は、導入管３内の蒸発材料が排気管７３を通過して直ちに排出される。

【0040】

このように、上記真空蒸着装置１によると、実施例２の効果を奏する上に、蒸着終了後は、導入管３内の蒸発材料が直ちに排出されることにより、蒸着レートＲを極めて速やかに低減させることができる。

【0041】

ところで、上記実施例１〜３では、流量計測機構３１の圧力センサ３３ｕ，３３ｌが２つとして説明したが、圧力損失バルブ３２の上流側および下流側で配置されるのであれば、３つ以上であってもよい。

【0042】

また、上記実施例１〜３では、流量調整部の一例として流量調整バルブ２２について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、流量調整部は、るつぼ２の加熱温度を制御して蒸発材料の流量Ｑを制御するヒータおよびその制御部など、蒸発材料の流量Ｑを制御するものであればよい。

【符号の説明】

【0043】

Ｍ 蒸着材料
Ｋ 基板
Ｐｕ 上流側圧力
Ｐｌ 下流側圧力
Ｐｄ 圧力差
Ｒ 蒸着レート
Ｄ 偏差
１ 真空蒸着装置
２ るつぼ
３ 導入管
４ 真空容器
４ｂ 底壁
５ コントローラ
２２ 流量調整バルブ
３１ 流量計測機構
３２ 圧力損失バルブ
３３ｕ 上流側圧力センサ
３３ｌ 下流側圧力センサ
３８ 合流管部
４１ 拡散容器
４２ 放出孔
４３ ノズル
４５ 基板ホルダー
４６ メタルマスク

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】