特許第6220573号(P6220573)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6220573窒化物半導体装置、エピタキシャルウェハの製造方法および電界効果トランジスタ
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  • 特許6220573-窒化物半導体装置、エピタキシャルウェハの製造方法および電界効果トランジスタ 図000006
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  • 特許6220573-窒化物半導体装置、エピタキシャルウェハの製造方法および電界効果トランジスタ 図000008
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