【課題を解決するための手段】
【0037】
本発明は、励起手段の活性化に応答して光を発する素子に関し、該素子は、最小寸法、つまり厚さが少なくとも1.5倍、他の2つよりも小さい少なくとも1つの異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶を含み、該発せられる光は、発光方向および平坦ナノ結晶のより大きな表面に対する垂線によって形成される角度に従って変わる偏光および輝度を有する。
【0038】
また、本発明は該発光素子のための励起手段を含む励起素子にも関する。異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶の中での電荷、電子および/または正孔の注入の手段、または異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶に電磁場を適用する手段を含む励起手段。
【0039】
本発明に係る異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、寸法の内の少なくとも1つ、好ましくは厚さが少なくとも1.5倍、他の2つよりも小さい結晶状粒子である。
【0040】
本発明の一実施形態において、上述された結晶状粒子は、ナノシートまたは粒子ドットもしくはナノシートを含むヘテロ構造である。
【0041】
本発明の一実施形態において、ヘテロ構造は、シェルが完全にまたは部分的にコアを覆うコア/シェルタイプ構造である。
【0042】
一実施形態において、上述されたようなヘテロ構造は、ある材料から構成されるコア、およびコアの材料とは異なる材料から構成されるシェルを含む。
【0043】
本発明の一実施形態において、シェルはいくつかの同一の材料または異なる材料から構成できる。
【0044】
一実施形態において、上述されたヘテロ構造は、量子ドットまたはナノシートを含むコア、およびシェルを含み、該ヘテロ構造は、少なくとも1.5倍、他の2つよりも小さいその寸法の内の少なくとも1つ、好ましくは厚さを有する。
【0045】
一実施形態において、励起手段は、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶に電荷、電子、および/または正孔を注入する手段を含む。
【0046】
一実施形態において、励起手段は、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶に電磁場を適用する手段を含む。
【0047】
一実施形態において、電磁場源は、発せられる光の少なくとも一部が、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶によって吸収される光源である。
【0048】
一実施形態において、発せられる光の少なくとも一部が、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶によって吸収される光源は、窒化ガリウム(GaN)に基づいたダイオードである。
【0049】
一実施形態において、励起手段は、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶に対して電磁内部作用によって結合される少なくとも1つの電気双極子または磁気双極子を含む。
【0050】
一実施形態において、ナノシート、つまりヘテロ構造に存在する初期のナノシートまたはナノ結晶は、0.3nm〜1μm未満、0.3nm〜500nm未満,0.3nm〜250nm未満、0.3nm〜100nm未満、0.3nm〜50nm未満、0.3nm〜25nm未満,0.3nm〜20nm未満,0.3nm〜15nm未満、0.3nm〜10nm未満、0.3nm〜5nm未満の、その寸法の内の少なくとも1つ、好ましくは厚さを有する。
【0051】
一実施形態において、ナノシート、つまりヘテロ構造に存在する初期のナノシートまたはナノ結晶は、0.3nm〜少なくとも1mm、0.3nm〜100μm、0.3nm〜10μm、0.3nm〜1μm、0.3nm〜500nm、0.3nm〜250nm、0.3nm〜100nm、0.3nm〜50nm、0.3nm〜25nmの少なくとも1つの側面方向寸法を有する。
【0052】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶の側面方向寸法の内の少なくとも1つ(長さまたは幅)、好ましくは両方の側面方向寸法が、ナノ結晶の厚さの少なくとも1.5倍、ナノ結晶の厚さの少なくとも2倍、ナノ結晶の厚さの少なくとも2.5倍、ナノ結晶の厚さの少なくとも3倍、ナノ結晶の厚さの少なくとも3.5倍、ナノ結晶の厚さの少なくとも4倍、ナノ結晶の厚さの少なくとも4.5倍、ナノ結晶の厚さの少なくとも5倍を表す。
【0053】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶の厚さは、0.5nm〜1μm未満、0.5nm〜500nm未満、0.5nm〜250nm未満、0.5nm〜100nm未満、0.5nm〜50nm未満、0.5nm〜25nm未満、0.5nm〜20nm未満、0.5nm〜15nm未満、0.5nm〜10nm未満、0.5nm〜5nm未満である。
【0054】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶の側面方向寸法は、少なくとも0.75nm〜少なくとも1.5mmである。
【0055】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶の側面方向寸法の内の少なくとも1つは、2nm〜1.5mm、2nm〜1mm、2nm〜100μm、2nm〜10μm、2nm〜1μm、2nm〜100nm、2nm〜10nmである。
【0056】
一実施形態において、ナノシート、つまりヘテロ構造に存在する初期のナノシートまたはナノ結晶は、第IV族、第III−V族、第II−VI族、第I−III−VI族、第II−V族、第III−VI族の半導体を含む。
【0057】
一実施形態において、ナノシート、つまりヘテロ構造に存在する初期のナノシートまたはナノ結晶は、組成M
xE
yの材料を含み、式中
MはZn、Cd、Hg、Cu、Ag、Al、Ga、In、Si、Ge、Pb、Sb、またはその混合物であり、
EはO、S、Se、Te、N、P、Asまたはその混合物であり、
xおよびyは、個々に0〜5の10進数であり、同時にゼロではない。
【0058】
一実施形態において、ナノシート、つまりヘテロ構造に存在する初期のナノシートまたはナノ結晶は、Si、Ge、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、PbS、PbSe、PbTe、CuInSe2、CuInSe
2、AgInS
2、AgInSe
2、CuS、Cu
2S、Ag
2S、Ag
2Se、Ag
2Te、InN、InP、InAs、InSb、In
2S
3、Cd
3P
2、Zn
3P
2、Cd
3As
2、Zn
3As
2、ZnO、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、またはその混合物の内の少なくとも1種を含む。
【0059】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、第IV族、第III−V族、第II−VI族、第I−III−VI族、第II−V族、第III−VI族の半導体を含む。
【0060】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、組成M
xE
yの材料を含み、式中、
MはZn、Cd、Hg、Cu、Ag、Al、Ga、In、Si、Ge、Pb、Sb、またはその混合物であり、
EはO、S、Se、Te、N、P、Asまたはその混合物であり、
xおよびyは、個々に0〜5の10進数であり、同時にゼロではない。
【0061】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、Si、Ge、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、PbS、PbSe、PbTe、CuInSe2、CuInSe
2、AgInS
2、AgInSe
2、CuS、Cu
2S、Ag
2S、Ag
2Se、Ag
2Te、InN、InP、InAs、InSb、In
2S
3、Cd
3P
2、Zn
3P
2、Cd
3As
2、Zn
3As
2、ZnO、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、またはその混合物の内の少なくとも1種を含む。
【0062】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、上記に一覧した材料の合金を含む。
【0063】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、ナノ結晶つまり少なくとも1つの単分子層もしくは追加の材料の層によって少なくとも1つの側で部分的にまたは完全に覆われる初期のナノシートを含む。
【0064】
複数の単分子層または層が、ナノ結晶つまり初期のナノシートのすべてまたは部分を覆う一実施形態において、これらの単一層または層は、同じ材料または異なる材料を含んでもよい。
【0065】
本発明の目的のため、用語「層」は、少なくとも1原子厚さである膜または連続する層もしくは部分的な層を指す。用語「単分子層」は、1原子厚さである膜または連続する層もしくは部分的な層を指す。層または単分子層を構成する原子は同じであっても、異なっていてもよい。
【0066】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、ホモ構造である。つまり、初期のナノ結晶またはナノシート、および少なくとも1つの単分子層または層は同じ材料から形成される。
【0067】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶はヘテロ構造である。つまり、初期のナノ結晶またはナノシート、および少なくとも1つの単分子層または層は少なくとも2つの異なる材料から構成される。
【0068】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、初期のナノ結晶またはナノシート、および初期のナノ結晶またはナノシートのすべてまたは部分を覆う1つ、2つ、3つ、4つ、5つ以上の単分子層または層を含むことがあり、該単分子層または層は初期のナノ結晶もしくはナノシートに対して同一の組成である、または初期のナノ結晶もしくはナノシートの組成とは異なる組成である、またはその間の異なる組成である。
【0069】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、初期のナノ結晶またはナノシート、および少なくとも2つ、3つ、4つまたは5つ以上の単分子層または層を含むことがあり、付着された第1の単分子層または層は初期のナノ結晶またはナノシートのすべてまたは部分を覆い、付着された少なくとも第2の単分子層または層は以前に付着された単分子層のすべてまたは部分を覆う。
【0070】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、コア/シェル構造、つまり初期のナノ結晶またはナノシートの組成とは異なる組成の少なくとも1つの単分子層または層によってその表面全体を覆われる所与の組成の初期のナノ結晶またはナノシートを有する。
【0071】
したがって、得られる材料は、少なくとも1つが、初期のナノ結晶もしくはナノシートの組成と同一の化学組成または異なる化学組成である膜の積層から構成され、それぞれの膜の表面は、それが付着される膜の表面を完全に覆う。
【0072】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、de−wetted構造つまり、初期のナノ結晶またはナノシートの組成と同じ組成または異なる組成の少なくとも1つの単分子層または層によって部分的の覆われる所与の組成の初期のナノ結晶またはナノシートを含む。
【0073】
したがって、得られる材料は、少なくとも1つが、初期のナノ結晶もしくはナノシートの組成と同一の化学組成または異なる化学組成である膜の積層から構成され、それぞれの膜の表面は、それが付着される膜の表面を部分的に覆う。
【0074】
したがって、一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、上記に一覧された材料を含むヘテロ構造を有する。
【0075】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、ランタノイドまたは遷移金属をドープされる。
【0076】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、異なる化学組成の半導体で覆われる。
【0077】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、有機分子で覆われる。
【0078】
一実施形態において、有機分子は、チオール、アミン、カルボン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、ホスフィンの間で選択される。
【0079】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、コロイド半導体ナノシートである。
【0080】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、30nm未満、25nm未満、24nm未満、23nm未満、22nm未満、21nm未満、または20nm未満の半値全幅の狭い蛍光スペクトルを表示する。
【0081】
一実施形態において、異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶は、350と1500nmとの間の波長で光を発する。
【0082】
また、本発明は、本発明の一実施形態に係る、励起手段の活性化に応答する少なくとも1つの発光素子と、該少なくとも1つの素子のための支持体とを含む構成要素にも関し、該支持体は、構成要素の外の観察者に向かって少なくとも1方向で素子が発する光に対して透過性を有し、支持面を通して光が観察者に向かって発せられる支持面は発光面として画定される。
【0083】
したがって、本発明の目的のため、構成要素は本発明に記載の励起手段の活性化に応答する少なくとも1つの発光素子、および該少なくとも1つの素子が中に配置される支持体の組合せとして定義される。
【0084】
一実施形態において、励起手段の活性化に応答する少なくとも1つの発光素子は、支持体と接触している。
【0085】
一実施形態において、励起手段の活性化に応答する少なくとも1つの発光素子は、支持体に一体化されている。
【0086】
一実施形態において、励起手段の活性化に応答する少なくとも1つの発光素子に応答する少なくとも1つの発光素子は、第1の支持体と接触し、第2の支持体によって覆われ、該第1の支持体および該第2の支持体は同じ性質または異なる性質である。
【0087】
また、本発明は本発明に記載の構成要素、および本発明の一実施形態に係る少なくとも1つの励起デバイスを含む発光システムにも関し、少なくとも1つの素子の励起手段は支持体の中に一体化される。
【0088】
一実施形態において、少なくとも1つの素子少なくとも1つの素子の励起手段は支持体の中に一体化される。
【0089】
一実施形態において、少なくとも1つの素子の励起手段は支持体の外部にある。
【0090】
一実施形態において、構成要素は同じ励起手段を共用する少なくとも2つの素子を含む。
【0091】
一実施形態において、支持体は液体を含む。
【0092】
一実施形態において、液体は液晶の特性を有する。
【0093】
一実施形態において、支持体は少なくとも1種の有機材料を含む。
【0094】
一実施形態において、支持体は少なくとも1種の有機半導体材料を含む。
【0095】
一実施形態において、支持体はポリマー材料を含む。
【0096】
一実施形態において、支持体は撓まない。
【0097】
一実施形態において、支持体は曲がりやすい。一実施形態において、ポリマーは高分子電解質である。
【0098】
一実施形態において、ポリマーはそれら自体をナノ結晶の表面配位子に置換できる化学的機能を含む。
【0099】
一実施形態において、ポリマーは、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、エポキシド、ポリエステル、ポリシロキサンである。
【0100】
一実施形態において、ポリマーは半導体ポリマーを含む。
【0101】
一実施形態において、ポリマーは、ポリチオフェン、P3HT、MDMO PPV、MEH−PPV、PEDOT、PEDOT:PSS、PCBM、PCNEPV、ポリフルオレン、PSSを含む。
【0102】
一実施形態において、支持体は少なくとも1種の無機材料を含む。
【0103】
一実施形態において、無機材料は半導体である。
【0104】
一実施形態において、半導体は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、AlN、GaN、InN、AlP、GaP、InP、AlAs、GaAs、InAs、C、Si、Geの内の少なくとも1種を含む。
【0105】
一実施形態において、半導体はドープされ、半導体は、単独の半導体と比較して電子の過剰または電子の欠乏を発生させる元素を少量含有する。
【0106】
一実施形態において、無機材料はシリカ等のガラスである。
【0107】
一実施形態において、無機材料は、TiO
2、ITO(スズドープ酸化インジウム)、NiO、ZnO、SnO
2、SiO
2、ZrO
2、FTO(フッ素ドープ酸化スズ)から選択される酸化物を含む。
【0108】
一実施形態において、無機材料は金属である。
【0109】
一実施形態において、構成要素は少なくとも2つの素子、つまり異なる特性を有する少なくとも2つの素子の少なくとも2つの異方性平坦コロイド半導体ナノ結晶を含む。
【0110】
一実施形態において、該特性は寸法である。
【0111】
一実施形態において、該特性は化学組成である。
【0112】
一実施形態において、該特性は発光波長である。
【0113】
一実施形態において、構成要素は、構成要素が少なくとも2つの平坦ナノ結晶を含み、少なくとも2つの平坦ナノ結晶の表面に対する垂線が所与の方向に略平行であることを特徴とする。
【0114】
一実施形態において、構成要素の平坦ナノ結晶の実質的にすべては、所与の方向に略平行であるナノ結晶の表面に対するその垂線を有する。
【0115】
一実施形態において、構成要素の少なくとも1つの平坦ナノ結晶の表面に対する垂線は、発光面の垂線に対して略平行である。
【0116】
一実施形態において、構成要素の少なくとも1つの平坦ナノ結晶の表面に対する垂線は、発光面の垂線に対して略垂直である。
【0117】
一実施形態において、構成要素の支持体は、少なくとも1つの平坦ナノ結晶を少なくとも1の好ましい方向に従って配向させるための手段を含む。
【0118】
一実施形態において、構成要素は、平坦ナノ結晶が支持面に付着され、ナノ結晶の表面に対する垂線が支持面に対する垂線に略平行であるプロセスによって形成される。
【0119】
一実施形態において、構成要素は、支持面がテクスチャリングを含むプロセスによって形成される。
【0120】
一実施形態において、構成要素は、平坦ナノ結晶を含む溶液の低速蒸着相を含むプロセスによって形成される。
【0121】
一実施形態において、低速蒸着相が電場を適用中に実現される。
【0122】
一実施形態において、構成要素は、平坦ナノ結晶を含む溶液をスピンコーティングすることによって平坦ナノ結晶を付着するステップを含むプロセスによって形成される。
【0123】
一実施形態において、構成要素は、平坦ナノ結晶を含む溶液中での基板の浸漬被覆による平坦ナノ結晶を付着するステップを含むプロセスによって形成される。
【0124】
一実施形態において、平坦ナノ結晶を含む溶液は、ポリマーまたはモノマー等の有機化合物も含む。
【0125】
一実施形態において、構成要素は、表面電荷を有する平坦ナノ結晶の層ごとの静電吸着のステップを含むプロセスによって形成される。
【0126】
一実施形態において、構成要素は、以前に形成された配向された平坦ナノ結晶の膜の移送を含むプロセスによって形成される。
【0127】
一実施形態において、ナノ結晶の膜は、ナノ結晶を含む溶液の液体表面での低速蒸着によって得られる。
【0128】
また、本発明は、平坦ナノ結晶が支持面に付着され、ナノ結晶の表面に対する垂線が表面支持体に対する垂線に略平行である、本発明の一実施形態に係る構成要素を製造するための方法にも関する。
【0129】
本発明の目的の範囲内では、略平行または略垂直は、2つの表面に対する垂線によって形成される角度が+40°〜−40°、または+30°〜−30°、または+20°〜−20°、または+10°〜−10°、または+5°〜−5°であることを意味する。
【0130】
また、本発明は、互いと無関係に、励起手段によってそれぞれの構成要素および/またはシステムを活性化するための手段が提供される少なくとも1つの構成要素および/またはシステムを含む装置にも関する。
【0131】
一実施形態において、装置の活性化手段は電気的なタイプであり、マトリックス配列の少なくとも2つの電極アレイを含む。
【0132】
一実施形態において、装置に時間内に多重化される電気信号を電極に印加するための活性化手段が提供される。
【0133】
一実施形態において、装置の構成要素および/またはシステムのそれぞれは、マトリックス配列内の配列の点に配置されるトランジスタ型の電子部品に関連付けられる。
【0134】
本発明に係る素子の他の特長および利点は、例示のみを目的として以下に示される詳細な説明および例を読むことにより明らかになるであろう。