特許 6223506 真空断熱パネル製造装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】6223506

(24)【登録日】2017年10月13日

(45)【発行日】2017年11月1日

(54)【発明の名称】真空断熱パネル製造装置

(51)【国際特許分類】

   F16L 59/065 20060101AFI20171023BHJP

   B23K 26/21 20140101ALI20171023BHJP

【ＦＩ】

   F16L59/065

   B23K26/21 G

   B23K26/21 N

【請求項の数】6

【全頁数】15

(21)【出願番号】特願2016-117304(P2016-117304)

(22)【出願日】2016年6月13日

【審査請求日】2017年6月30日

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】714003416

【氏名又は名称】日新製鋼株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100120891

【弁理士】

【氏名又は名称】林 一好

(74)【代理人】

【識別番号】100182925

【弁理士】

【氏名又は名称】北村 明弘

(72)【発明者】

【氏名】東 努

(72)【発明者】

【氏名】三島 弘久

(72)【発明者】

【氏名】仲子 武文

【審査官】 礒部 賢

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００２−１４４０７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特許第４３６５７３６（ＪＰ，Ｂ２）

【文献】 特開２０００−１４９７９１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−００３７６３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００２−０５０７１１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６３−２３２１２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−１０８１８４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−２８７０７４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特公平０２−０６１３５８（ＪＰ，Ｂ２）

【文献】 特開２０１３−２０３０５６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｆ１６Ｌ ５９／００ − ５９／２２

Ｆ２５Ｄ ２３／０２ − ２３／０８

Ｂ２３Ｋ ２６／００ − ２６／７０

Ｂ６５Ｂ ３１／００ − ３１／１０

Ｂ６５Ｂ ５１／００ − ５１／３２

Ｂ６５Ｄ ８１／３８

Ａ４７Ｊ ４１／００ − ４１／０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

断熱性を有する芯材を包囲するとともに排気口が設けられた包材の内部を、前記排気口より真空引きし、前記排気口を封止材で封止して真空断熱パネルを製造する真空断熱パネル製造装置であって、
下部が開口したチャンバと、
前記チャンバに設けられたチャンバ排気穴と、
前記チャンバの上部に設けられた石英ガラス窓部と、
前記封止材の外周を保持可能であり、レーザ光を通過させるための穴が設けられた保持部と、
保持部を昇降する昇降機構と、
前記チャンバを保持し昇降する枠部材と、
前記チャンバの外側に設けられたレーザ溶接部と、
を備える真空断熱パネル製造装置。

【請求項2】

前記保持部は磁石を含み、前記保持部の排気口側面において、磁性体の前記封止材を、磁力により保持可能である、
請求項１に記載の真空断熱パネル製造装置。

【請求項3】

前記保持部は、前記封止材の外周を保持した状態で、前記封止材を降下させて前記封止材により前記排気口を塞ぐとともに、さらに前記封止材を前記排気口側に押圧し、
前記レーザ溶接部は、前記封止材と前記包材とが重ねられた部分が間なく押さえられた状態で、前記封止材と前記包材とをレーザ溶接する、
請求項１または２に記載の真空断熱パネル製造装置。

【請求項4】

前記チャンバの前記開口の外周に、シール部材が取り付けられている、
請求項１から３のいずれか１項に記載の真空断熱パネル製造装置。

【請求項5】

前記レーザ溶接部のレーザ発射部は、軸線を中心として回転可能である、
請求項１から４のいずれか１項に記載の真空断熱パネル製造装置。

【請求項6】

前記保持部は外周に沿った３か所に取り付けられた支持棒に支持され、
前記支持棒は、上部中央に石英ガラスが取り付けられた窓が設けられている前記チャンバの前記窓が設けられた部分の外周を貫通して上端が前記昇降機構に固定されている、
請求項１から５のいずれか１項に記載の真空断熱パネルの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、例えば冷蔵庫や保冷庫、或いは保温庫や住宅等の断熱壁等に好適に用いられる真空断熱パネル製造装置に関する。

【背景技術】

【0002】

昨今、電力不足等の影響によりあらゆる産業で省エネ製品や省エネ技術の開発が進められている。真空断熱パネルも省エネ対策の１つとして開発された商品であり、現在では冷蔵庫や自動販売機等の断熱材として、断熱性能を高めて消費電力を抑えるために広く採用されている。また、住宅用の断熱材としての適用検討も進められているが、現行の真空断熱パネルは、グラスウール等の芯材をアルミラミネートフィルムでヒートシールした構造のものが一般的である。

【0003】

アルミラミネートフィルムでヒートシールした構造の真空断熱パネルでは、ヒートシール部から水分が透過して真空度が低下するため、活性炭やゼオライト等の吸着剤を封入しているが、それでも７〜８年で断熱性能が半減するといった問題がある。このため、長期に亘って断熱性を維持できる真空断熱パネルの開発が望まれている。長期の断熱性を有する真空断熱パネルとして、グラスウール等の芯材がステンレス鋼等の薄金属板で包まれた状態で、ステンレス鋼の端部が溶接され、且つ内部が真空引きされた真空断熱パネルが開発されている。

【0004】

このような真空断熱パネルの製造装置として、特許文献１には、排気口が設けられた外板体と内板体とで形成される空間に断熱材を配置し、外板体の周縁部と内板体の周縁部とが溶接された積層体を準備し、排気口の周囲にロウを配置してその上に封止材を載置し、その積層体をチャンバ内に配置し、排気口より真空吸引部により空気を吸引し、積層体を加熱することによってロウを溶融させて封止材により排気口を封止する製造装置が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特許４３６５７３６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

特許文献１の製造装置は、チャンバ内で真空引き及びロウ付けが行われるため、外板体と内板体と断熱材との積層体全体が入るチャンバが必要である。さらにチャンバ内にロウ付けが行われるためにチャンバ内に加熱部も必要である。このため、真空断熱パネル製造装置は大掛かりになりコストがかかる。

【0007】

本発明は、小型化可能な真空断熱パネル製造装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は、断熱性を有する芯材を包囲するとともに排気口が設けられた包材の内部を、前記排気口より真空引きし、前記排気口を封止材で封止して真空断熱パネルを製造する真空断熱パネル製造装置であって、下部が開口したチャンバと、前記チャンバに設けられたチャンバ排気穴と、前記チャンバの上部に設けられた石英ガラス窓部と、前記封止材を保持可能な保持部と、保持部を昇降する昇降機構と、前記チャンバを保持し昇降する枠部材と、前記チャンバの外側に設けられたレーザ溶接部と、を備える真空断熱パネル製造装置を提供する。

【0009】

前記保持部は磁石を含み、前記保持部の排気口側面において、磁性体の前記封止材を、磁力により保持可能であってもよい。

【0010】

前記保持部は前記封止材を、前記包材の前記排気口を覆う領域に押圧可能であってもよいる。

【0011】

前記チャンバの前記開口の外周に、シール部材が取り付けられていてもよい。

【0012】

前記レーザ溶接部のレーザ発射部は、軸線を中心として回転可能であってもよい。

【発明の効果】

【0013】

本発明によると、小型化可能な真空断熱パネル製造装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】真空断熱パネル１の断面図である。

【図2】真空断熱パネル１の分解図である。

【図3】真空断熱パネル１を製造する真空断熱パネル製造装置２のブロック図である。

【図4】シーム溶接装置１００を説明する図である。

【図5】シーム溶接装置１００の概略斜視図である。

【図6】真空断熱パネル製造装置２の真空装置３を説明する図である。

【図7】真空断熱パネル製造装置２を用いた真空断熱パネル１の製造方法を説明する図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下、本発明の好ましい実施形態につき、図面を参照しながら説明する。図１は本発明の真空断熱パネル製造装置２で製造される真空断熱パネル１の断面図である。図２は真空断熱パネル１の分解図である。

【0016】

（真空断熱パネル１の全体構成）
真空断熱パネル１は、断熱性を有する素材からなる芯材１０と、この芯材１０を挟むように配置される第１金属板（包材）２０及び第２金属板３０（包材）と、を備える。
第１金属板２０及び第２金属板３０は、中央部に膨出部２１、３１が設けられている。その膨出部２１、３１の内面側の凹部に芯材１０を収容した状態で、第１金属板２０と第２金属板３０とが重ね合わされている。
重ねあわせた第１金属板２０及び第２金属板３０の周縁部４０（４辺）はシーム溶接されている。

【0017】

第２金属板３０の中央には円形の開口である排気口３２が設けられている。排気口３２を挟んで、第２金属板３０の内側には、円環形状の裏当て材５０が配置され、第２金属板３０の外側には、円形の封止材６０が配置されて排気口３２を封止している。
裏当て材５０と、第２金属板３０と、封止材６０とは、後述するようにレーザ溶接され、真空断熱パネル１の内部は真空状態に保たれている。

【0018】

（芯材１０）
芯材１０は、断熱性を有する素材であるガラス繊維やロックウール等の無機繊維や、合成繊維や天然繊維等の有機繊維を用いて、所定の厚みを有するように積層されて構成されている。

【0019】

（金属板２０，３０）
第１金属板２０及び第２金属板３０は、平面視において芯材１０よりも一回り大きな矩形形状に形成され、芯材１０の上面及び下面を覆うように配置される。
第１金属板２０及び第２金属板３０の材料としては、アルミニウム合金板及びステンレス鋼板等の各種金属板を用いることができるが、耐変形性や長期に亘っての外観維持の観点から、強度及び耐食性に優れたステンレス鋼板を用いることが好ましい。
第１金属板２０及び第２金属板３０の厚さは、真空断熱パネル１の内部の真空状態を好適に保ちつつ、真空断熱パネル１を軽量化する観点から、０．１ｍｍ〜０．３ｍｍであることが好ましい。

【0020】

（膨出部２１，３１）
第１金属板２０及び第２金属板３０には芯材収容用に膨出部２１，３１が設けられている。膨出部２１，３１は、第１金属板２０及び第２金属板３０のそれぞれの内面側が芯材１０に対応する形状に凹んで外面側に膨出した形状を有する。

【0021】

（排気口３２）
第２金属板３０の膨出部３１の中央には排気口３２が設けられている。

【0022】

（裏当て材５０）
裏当て材５０は、円環形状を有し、中央には、第２金属板３０に設けた排気口３２と同一径の開口部５１が設けられている。封止材６０は円板状であり、裏当て材５０と同一径である。実施形態で裏当て材５０及び封止材６０は磁性体であるＳＵＳ４３０を用いる。ただし、これに限定されず、裏当て材５０は磁性体に限らず他の金属部材であってもよく、また封止材６０は他の磁性体であってもよい。

【0023】

（真空断熱パネル製造装置２）
つぎに、上述の真空断熱パネル１を製造する、実施形態の真空断熱パネル製造装置２について説明する。図３は、真空断熱パネル製造装置２のブロック図である。真空断熱パネル製造装置２は、第１金属板２０及び第２金属板３０の外周のシーム溶接工程を行うシーム溶接装置１００と、シーム溶接が行われて、まだ内部が真空にされていない状態のパネルの内部を真空にして封止する真空装置３とを備える。真空装置３は、真空吸引部２００とレーザ溶接部３００とを備える。

【0024】

（シーム溶接装置１００）
まず、シーム溶接装置１００について説明する。図４はシーム溶接装置１００を説明する図、図５はシーム溶接装置１００の概略斜視図である。
シーム溶接装置１００は、複数の下側電極１３０と、複数の上側電極１４０と、これら複数の上側電極１４０を支持する複数の上側電極支持部材１５０と、上側電極移動機構１６０と、第１電極間距離可変機構１７０と、第２電極間距離可変機構１８０と、を備える。
本実施形態では、下側電極１３０、上側電極１４０、上側電極支持部材１５０、上側電極移動機構１６０、及び第１電極間距離可変機構１７０は、それぞれ、２つずつ設けられている。

【0025】

下側電極１３０は、図４及び図５に示すように、レール状（ブロック状）に形成され、床面１０１に配置されている。複数の下側電極１３０は、互いに並行に延びる。本実施形態では、２つの下側電極１３０が配置されている。本実施形態では、下側電極１３０は、床面１０１に配置された後述の第２電極間距離可変機構１８０を介して床面１０１に配置されている。

【0026】

上側電極１４０は、下側電極１３０それぞれの上方に配置されている。上側電極１４０は、円盤状に形成され、円盤の周方向（回転方向）が下側電極１３０の延びる方向に沿うように配置される。
上側電極支持部材１５０は、上側電極１４０を、下側電極１３０の延びる方向に回転可能に支持する。本実施形態では、上側電極支持部材１５０は、上側電極１４０の側方にそれぞれ配置され、上側電極１４０の回転中心に連結され水平方向に延びる軸部材１５１と、この軸部材１５１を回転可能に支持する本体部１５２と、を備える。

【0027】

上側電極移動機構１６０は、上側電極支持部材１５０を下側電極１３０の延びる方向に移動させる。上側電極移動機構１６０は、例えば、上側電極支持部材１５０の上方に配置されて下側電極１３０の延びる方向と同じ方向に延びると共に上側電極支持部材１５０を支持するレール部材により構成される。

【0028】

第１電極間距離可変機構１７０は、下側電極１３０と上側電極１４０との間の距離を可変させる。第１電極間距離可変機構１７０は、例えば、下端側が上側電極支持部材１５０に連結され上端側が上側電極移動機構１６０に連結されるピストンロッド１７１と、このピストンロッド１７１を上下方向に進退させるシリンダ（図示せず）と、により構成される。

【0029】

第２電極間距離可変機構１８０は、下側電極１３０と底面との間に介在して配置され、複数の下側電極１３０の間の距離Ｗ及び複数の上側電極１４０の間の距離Ｗを可変させる。第２電極間距離可変機構１８０は、床面１０１に設置される基台１８１と、この基台１８１の上面に配置される固定テーブル１８２及び可動テーブル１８３と、を備える。

【0030】

基台１８１は、床面１０１に固定される。固定テーブル１８２は、基台１８１の上面に固定される。可動テーブル１８３は、基台１８１に対してスライド移動可能に設置される。
本実施形態では、上述の２つの下側電極１３０のうちの一方は、固定テーブル１８２の上面に固定され、他方は可動テーブル１８３の上面に固定される。また、２つの上側電極移動機構１６０及び第１電極間距離可変機構１７０のうちの一方は、支持フレーム１９０を介して固定テーブル１８２の上面に固定され、他方は支持フレーム１９０を介して可動テーブル１８３の上面に固定される。
可動テーブル１８３は、下側電極１３０の延びる方向に直交する方向Ｘにスライド移動する。これにより、２つの下側電極１３０の間の距離Ｗ及び２つの上側電極の間の距離Ｗを変更させられる。

【0031】

（真空装置３）
次に、真空断熱パネル製造装置２の真空装置３について説明する。図６は、真空断熱パネル製造装置２の真空装置３を説明する図である。真空装置３は、真空吸引部２００と、レーザ溶接部３００とを備える。図中、わかりやすいように一部断面で示すが、必ずしも全体を断面で示すわけではない。

【0032】

（真空吸引部２００）
真空吸引部２００は、底部が開口しているチャンバ２１０と、チャンバ２１０内に設けられた封止材昇降機構２５０とを備える。

【0033】

（チャンバ２１０）
チャンバ２１０は底部が開口（開口部２１１）している。その開口部２１１の外周には、パッキン２１７が円周方向の全周に亘り配置されている、このパッキン２１７と第２金属板３０の表面とが密着することでシール性が保たれ、真空引きが可能となっている。

【0034】

チャンバ２１０の底部の外周には、外径側に延びるフランジ部２１２が設けられている。フランジ部２１２の外周には、上方に延びる柱部材２１８が固定されている。柱部材２１８は、図３においては左右対称に２本取り付けられているように示すが、実施形態では周方向に均等に３か所に取り付けられている。
柱部材２１８の上端は、封止材昇降機構２５０を保持する上板２１９に固定されている。上板２１９は、円環状で中央部に円形の上板開口部２２０が設けられている。

【0035】

チャンバ２１０の上部の中央には窓２１３が設けられ、窓２１３には、石英ガラス２１４が取り付けられている。チャンバ２１０の側部にはチャンバ排気穴２１５が設けられている。チャンバ排気穴２１５には配管２１６が接続され、配管２１６には図示しない真空ポンプが接続されている。

【0036】

封止材昇降機構２５０は、封止材６０を保持する保持プレート２５１と、保持プレート２５１を下端で支持する支持棒２５３と、支持棒２５３の上端が固定された昇降プレート２５５と、昇降プレート２５５と螺合された昇降棒２５８と、昇降棒を回転する鎖歯車２６０，鎖２６１，回転ノブ２６２と、を備える。

【0037】

（保持プレート２５１）
保持プレート２５１は、中央に穴２５２の開いた円環状で、磁石が内部に取り付けられている。上述のように封止材６０は磁性体で製造されているので、保持プレート２５１は封止材６０を磁力で保持することができる。
なお、保持プレート２５１の磁力は、作業者が手で簡単に保持プレート２５１から封止材６０を脱着可能な程度で、後述するように第２金属板３０の排気口３２を封止する際には真空で吸引される力のほうが磁力よりも強く、真空で吸引された状態で保持プレート２５１を上昇させると封止材６０は保持プレート２５１から離間する。

【0038】

保持プレート２５１には、円周に沿った３か所に支持棒２５３が取り付けられている。支持棒２５３は、図３においては左右対称に２本取り付けられているように示すが、実施形態では周方向に均等に３か所に取り付けられている。支持棒２５３は、上方に延び、上端は昇降プレート２５５に取り付けられている。
支持棒２５３は、チャンバ２１０の上面の石英ガラス２１４の周囲の３か所を、チャンバ２１０の気密状態を保持しつつ上下動可能に挿通されている。

【0039】

（昇降プレート２５５）
昇降プレート２５５は、中央に穴２５６の開いた円環状で、保持プレート２５１を支持する支持棒２５３が固定されている個所の外周側には、ねじ穴２５７が設けられている。
図３においては左右対称に２か所にねじ穴２５７が設けられているように示すが、実施形態では周方向に均等に３か所に取り付けられている。

【0040】

昇降プレートのねじ穴２５７には、外周がねじ切りされた昇降棒２５８が螺合している。昇降棒２５８も、図３においては左右対称に２か所に設けられているように示すが、実施形態では周方向に均等に３か所に設けられている。

【0041】

昇降棒２５８は、上板２１９に設けられた孔２５９を貫通し、上板２１９に対して、回転可能且つ上下動不能に保持されている。
昇降棒２５８の上端には、鎖歯車２６０が取り付けられている。３本の昇降棒２５８の鎖歯車２６０の間には鎖２６１が架け渡されている。鎖２６１は、鎖歯車２６０との歯車と噛み合っている。昇降棒２５８のうちの１つの、鎖歯車２６０の上部には、回転ノブ２６２が取り付けられている。

【0042】

（レーザ溶接部３００）
上述した真空吸引部２００の外側を覆うような形で、枠部材３０１が配置されている。枠部材３０１は、ベース部材３０２と、ベース部材３０２の外周部より上方に延びる柱部材３０３と、柱部材３０３の上端に固定された上枠部３０４とを備え、連結棒３０６で真空吸引部２００と固定されている。
上枠部３０４と柱部材３０３を固定しているナット３０７とバネ３０８の作用により、ナット３０７を時計方向または反時計方向に回すと上枠部３０４が上下に移動し、封止前の真空断熱パネル１の固定ならびに封止後の真空断熱パネル１の開放が可能な構造となっている。上枠部３０４の中央には円形の穴３０５が設けられている。
上枠部３０４の上部には、レーザ溶接部３００が配置されている。レーザ溶接部３００はレーザ照射部３１０を備える。レーザ照射部３１０は、真空装置３の軸線Ａを中心として回転可能である。すなわち、軸線Ａを中心とした所定径の円周に沿って移動可能である。

【0043】

上述した上板開口部２２０、窓２１３、穴２５２、及び石英ガラス２１４は、軸線Ａを中心として配置されており、軸線Ａを中心として回転可能なレーザ照射部３１０から発射されたレーザ光は、上板開口部２２０を通って石英ガラス２１４を透過し、穴２５２を通過し、封止材６０と第２金属板３０の排気口３２の外周部と、裏当て材５０とを溶接する。

【0044】

なお、上板開口部２２０、窓２１３、穴２５２、及び石英ガラス２１４の径は、排気口３２の径より、一定の幅大きく、例えば裏当て材５０の外径程度で、後述するように、封止材６０、第２金属板３０及び裏当て材５０をレーザ溶接する際に、レーザ光の光路を邪魔することがない。

【0045】

（真空断熱パネル１の製造方法）
次に、実施形態の真空断熱パネル製造装置２を用いた真空断熱パネル１の製造方法について説明する。図７は、真空断熱パネル製造装置２を用いた真空断熱パネル１の製造方法を説明する図である。
真空断熱パネル１の製造方法は、重ね合わせ工程と、シーム溶接工程と、真空引き工程と、レーザ溶接工程と、切断工程と、を備える。

【0046】

（重ね合わせ工程）
図７（ａ）は、重ね合わせ工程を説明する図である。
まず、膨出部２１が形成された第１金属板２０を膨出部２１が下方を向くように配置し、その第１金属板２０の上面の凹部に芯材１０を収容する。
芯材１０の上に、裏当て材５０を載置する。裏当て材５０は、芯材１０のほぼ中央になるように配置する。
そして、第１金属板２０、芯材１０及び裏当て材５０の上に、膨出部３１が形成された第２金属板３０を膨出部３１が上側を向くように重ね合わせて積層体１Ａを形成する。
このとき、裏当て材５０の開口部５１と、第２金属板３０の排気口３２とが一致するように調整する。

【0047】

（シーム溶接工程）
図７（ｂ）はシーム溶接工程を説明する図である。シーム溶接工程では、重ね合わせ工程で製造された積層体１Ａにおける、第１金属板２０及び第２金属板３０の縁部（４辺）をシーム溶接する。縁部は、膨出部２１，３１よりも外側で、内部に芯材１０が含まれていない部分である。このシーム溶接工程は、大気中で行われる。

【0048】

シーム溶接は、図４及び図５に示すシーム溶接装置１００により行われる。
まず、重ね合わせ工程で製造された積層体１Ａをシーム溶接装置１００にセットする。
具体的には、図４においての可動テーブル１８３をスライド移動させて、２つの下側電極１３０の間の距離を、シーム溶接する２つの辺Ｌ１（図５に図示）の間の距離に一致させておく。
そして、積層体１Ａをシーム溶接する２つの辺Ｌ１が下側電極１３０の上面に位置するように配置する。

【0049】

次いで、シーム溶接装置１００により２つの辺Ｌ１をシーム溶接する。
具体的には、まず、第１電極間距離可変機構１７０により２つの上側電極１４０を下降させてそれぞれ下側電極１３０との間に第１金属板２０及び第２金属板３０を挟み込む。
上側電極移動機構１６０により２つの上側電極１４０をそれぞれ下側電極１３０の延びる方向に同時に回転移動させつつ、第１金属板２０と第２金属板３０とをシーム溶接する。
これにより、第１金属板２０及び第２金属板３０の互いに対向する２つの辺Ｌ１が同時にシーム溶接される。

【0050】

次いで、シーム溶接装置１００により、辺Ｌ１と直交する２つの辺Ｌ２を、上記Ｌ１と同様にシーム溶接する。このとき、辺Ｌ１の溶接ラインと、辺Ｌ２の溶接ラインとが交差するようにする。
これにより、第１金属板２０及び第２金属板３０の互いに対向する２つの辺Ｌ１と、それと直交し且つ互いに対向する辺Ｌ２とがシーム溶接される。
以上のシーム溶接工程により、内部が真空にされていないパネル１Ｂが製造される。

【0051】

（真空引き工程）
図７（ｃ）は真空引き工程を説明する図である。
まず、保持プレート２５１に封止材６０を装着する。このとき、保持プレート２５１はチャンバ２１０の開口部２１１よりも上方に位置している。また、封止材６０の中心が軸線Ａに来るようにする。このとき、封止材６０は磁性体で製造されており、保持プレート２５１の磁力により、容易に着脱可能である。

【0052】

シーム溶接工程により製造された、内部が真空にされていないパネル１Ｂを、枠部材３０１のベース部材３０２の上におけるチャンバ２１０の下に配置する。そして、ナット３０７を締めることにより枠部材３０１を使って固定する。このとき、パネル１Ｂの排気口３２の中心が、装置の軸線Ａ上に来るようセットし、均一にパネル１Ｂを圧下するように固定する。
この際、チャンバ２１０の底部には、パッキン２１７が取り付けられているので、パネル１Ｂの第２金属板３０の上面との密閉性がよい。
チャンバ２１０のチャンバ排気穴２１５に接続された図示しない真空ポンプを作動させ。チャンバ２１０内の目標真空度以下になるまで真空引きを行なう。

【0053】

なお、この真空引きを行う際に、封止材６０を、一旦下降させて、排気口３２に近接させ、その状態で真空引きを開始するようにしてもよい。真空引きの当初は乱気流が発生し、芯材１０の例えばグラスウール等が飛び散る可能性があるが、このように、乱気流が発生する可能性のある真空引きの初期において、封止材６０と排気口３２との距離を近接させることにより、気流が安定するので、このような内容物の飛び散り等の可能性が低減される。気流が安定した後、真空引きに支障がないように封止材６０を上昇させる。
真空引き当初の排気口３２と封止材６０との間の距離は、乱気流によるグラスウールの飛散を防止する観点から、０．５ｍｍ〜３．０ｍｍであることが好ましい。

【0054】

目標真空度到達後、図７（ｄ）に示すように、封止材６０を降下させて排気口３２を塞ぐ。ここで、封止材６０の降下は以下のように行う。
図６に示す回転ノブ２６２を回転する。そうすると、鎖２６１により回転力が伝達され、鎖歯車２６０がそれぞれ回転する。鎖歯車２６０が回転すると、鎖歯車２６０に連結した昇降棒２５８も回転し、昇降棒２５８のねじ部と螺合している昇降プレート２５５が上下動する。昇降プレート２５５が下降すると、昇降プレート２５５に支持された支持棒２５３及び支持棒２５３の下端に支持された保持プレート２５１が降下し、保持プレート２５１に保持された封止材６０も降下する。
このように封止材６０を降下させ、排気口３２側に押圧する。この押圧により、パネル１Ｂ内に挿入されている裏当て材５０と降下した封止材６０とで、第２金属板３０を挟む形となるため、降下した封止材６０と、第２金属板３０と、裏当て材５０との３枚が重ねられた部分は、隙間なく抑えられた状態になる。

【0055】

（レーザ溶接工程）
その後、レーザ溶接部３００のレーザ照射部３１０より、封止材６０と、第２金属板３０と、裏当て材５０とが３枚重ねられた部分にレーザを照射する。レーザの照射は、レーザ照射部３１０を回転させることにより、排気口３２の周囲に全周に渡って行う。
ここで、降下した封止材６０と第２金属板３０との他に、裏当て材５０が配置されている。第２金属板３０は薄いので、レーザ溶接時において封止材６０と第２金属板３０のみの場合、溶け落ちる可能性がある。しかし、本実施形態では更に裏当て材５０が配置されているので、溶け落ちの可能性が低い。
レーザ照射部３１０より照射されたレーザ光により、封止材６０と、第２金属板３０と、裏当て材５０とが３枚重ねられた部分は、円周溶接され、第１金属板２０及び第２金属板３０により挟まれて芯材１０が配置されている内部空間を、完全封止することが可能で、これにより真空断熱パネル１が完成する。

【0056】

降下した封止材６０と、第２金属板３０と、裏当て材５０との３枚が重ねられた部分をレーザ溶接した後、真空を解除し、回転ノブ２６２を下降時と逆回転することで保持プレート２５１を上昇させる。

【0057】

（切断工程）
切断工程では、レーザ溶接工程を経て内部空間が封止された真空断熱パネル１を、枠部材３０１のナット３０７を緩めて真空装置３から取り外し、真空断熱パネル１の外周部における余剰部分を切断し、真空断熱パネル１が完成する。

【0058】

（実施例）
以下の条件の下、上述の真空断熱パネル製造装置２を用いて、実際に真空断熱パネル１を製造した。
芯材１０として、約１２００ｇ／ｍ^２の目付のグラスウールを用い、第１金属板２０及び第２金属板３０を重ね合わせた際に、後述の膨出部の内面側をすき間なく充填できる寸法の物を使用した。
第１金属板２０及び第２金属板３０として、ＳＵＳ３０４の鋼板を用いた。寸法は２２０ｍｍ×２２０ｍｍ×０．１ｍｍである。そして、第１金属板２０及び第２金属板３０に、１９０ｍｍ×１９０ｍｍ×５．０ｍｍの膨出部２１，３１をそれぞれプレス成形により作製した。
第２金属板３０の膨出部３１の中央の排気口３２は、直径２０ｍｍとした。
裏当て材５０及び封止材６０は、磁性体であるＳＵＳ４３０を用いた。寸法は、厚さ０．３ｍｍ、外径寸法４０ｍｍのものを用いた。裏当て材５０の開口部５１は、第２金属板３０に設けた排気口３２と同一となる直径２０ｍｍとした。

【0059】

シーム溶接装置１００としては単相交流式を用いた。上側電極は、直径１００ｍｍで厚さ４ｍｍの電極先端部がフラットの円盤状である。下側電極は、厚さ４ｍｍ、高さ５０ｍｍ、長さ２５０ｍｍで電極先端部の曲率が２０Ｒのブロック状のものである。溶接条件は、加圧力２５０Ｎ、溶接速度１ｍ／ｍｉｎ、溶接電流１．６ｋＡ、通電時間のＯＮ／ＯＦＦ比は、３ｍｓ／２ｍｓである。

【0060】

チャンバ２１０の開口部２１１の外径は２２０ｍｍ程度であり、パッキン２１７は厚さ２０ｍｍのシリコンゴム製である。
石英ガラス２１４は、波長１μｍのレーザ光が透過可能な外径４０ｍｍの円形の石英ガラスを用いた。

【0061】

レーザ溶接部３００は、ＩＰＧ社製のファイバーレーザ溶接機を用い、溶接条件は、溶接速度：１０ｍ／ｍｉｎ、出力：７００Ｗ、レーザスポット径：φ０．２ｍｍ、レーザ発振方式はパルス方式とした。

【0062】

上述の条件の下、真空断熱パネル１を製造し、その性能評価を実施した。
真空断熱パネル１の性能は、英弘精機社製の熱伝導率測定装置（型式：ＦＯＸ２００）を用い、真空断熱パネル１の中央部の平均温度が２５℃となる条件で熱伝導率を測定し評価した。
同様の条件で３体の真空断熱パネル１を試作し、熱伝導率を測定した結果、何れのサンプルも熱伝導率は２．５〜３．０ｍＷ／ｍ・Ｋの範囲に収まっており、断熱性能に優れ耐熱性にも優れたステンレス製の真空断熱パネル１を試作可能な事が確認できた。

【0063】

（効果）
（１）実施形態の真空断熱パネル製造装置２はレーザ溶接部３００を備えるので、レーザによって封止材６０により排気口３２を封止することができる。
レーザ溶接は、ロウ付けのような溶接個所の加熱が必要なく、石英ガラス２１４を通してチャンバ２１０の外部より照射可能である。したがって、チャンバ２１０内に、加熱部等を配置する必要がなく。チャンバ２１０の小型化が可能であり、真空断熱パネル１の製造コストを削減することができる。
レーザ溶接を行う場合、第２金属板３０の排気口３２の部分の内側に裏当て材５０を配置する。したがって、レーザ溶接による溶け落ちの可能性が少なく、その裏当て材５０が配置されている部分へのレーザ溶接が可能となる。ゆえに、排気口３２のレーザ溶接を用いた封止材６０による封止が可能となる。

【0064】

（２）このようにチャンバ２１０は小型化が可能であるので、パネル１Ｂの排気口３２を含む一部分を被せるように配置するコンパクトな形状にすることができ、排気が容易で手間がかからず、コスト削減と共に、操作時間の短縮も可能である。

【0065】

（３）封止材６０を保持可能な保持部２５１と、その保持部２５１を昇降可能な昇降機構２５０を備えるので、封止材６０を降下させて、排気口３２側に押圧することが可能である。したがって、パネル１Ｂ内に挿入されている裏当て材５０と降下した封止材６０とで、第２金属板３０を挟むことができる。これにより、降下した封止材６０と、第２金属板３０と、裏当て材５０との３枚が重ねられた部分は、隙間なく抑えられた状態にすることができ、続くレーザ照射による密封が可能となる。

【0066】

（５）保持プレート２５１は、磁石を含むので、磁性体で製造された封止材６０の着脱が容易である。

【0067】

（６）レーザ照射部３１０は、軸線Ａを中心として回転可能である。すなわち、軸線Ａを中心とした所定径の円周に沿って移動させので、排気口３２の外周を円形溶接することができる。

【0068】

（７）チャンバ２１０の底部には、パッキン（シール部材）２１７が取り付けられているので、パネル１Ｂの第２金属板３０の上面との密閉性がよい。

【符号の説明】

【0069】

１ 真空断熱パネル
２ 真空断熱パネル製造装置
３ 真空装置
１０ 芯材
２０ 第１金属板
２０ 金属板
２１ 膨出部
３０ 第２金属板
３０ 金属板
３１ 膨出部
３２ 排気口
５０ 裏当て材
６０ 封止材
１００ シーム溶接装置
２００ 真空吸引部
２１０ チャンバ
２１１ 開口部
２１４ 石英ガラス
２１７ パッキン
２５０ 封止材昇降機構
２５１ 保持プレート
２５５ 昇降プレート
３００ レーザ溶接部

【要約】

【課題】小型化可能な真空断熱パネル製造装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空断熱パネル製造装置２は、断熱性を有する芯材１０を包囲するとともに排気口３２が設けられた包材２０，３０の内部を、前記排気口３２より真空引きし、前記排気口３２を封止材６０で封止して真空断熱パネル１１を製造する真空断熱パネル製造装置２であって、下部が開口したチャンバ２１０と、前記チャンバ２１０に設けられたチャンバ排気穴２１５と、前記チャンバ２１０の上部に設けられた石英ガラス窓部２１４と、前記封止材６０を保持可能な保持部２５１と、保持部２５１を昇降する昇降機構２５０と、前記チャンバ２１０を保持し昇降する枠部材３０１と、前記チャンバ２１０の外側に設けられたレーザ溶接部３００と、を備える。
【選択図】図６

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】