特許6226517反射型マスクの製造方法、および反射型マスクの製造装置

発明の名称　反射型マスクの製造方法、および反射型マスクの製造装置

出願人　芝浦メカトロニクス株式会社　（識別番号 2428）

　　　　特許公開件数ランキング 490 位（56件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 395 位（65件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6226517

公報発行日　2017年11月8

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6226517

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