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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6231090
(24)【登録日】2017年10月27日
(45)【発行日】2017年11月15日
(54)【発明の名称】マイクロ波焼灼システムのためのマイクロ波温度測定
(51)【国際特許分類】
A61B 18/18 20060101AFI20171106BHJP
【ＦＩ】
A61B18/18 100
【請求項の数】17
【全頁数】35
(21)【出願番号】特願2015-518616(P2015-518616)
(86)(22)【出願日】2013年6月21日
(65)【公表番号】特表2015-521498(P2015-521498A)
(43)【公表日】2015年7月30日
(86)【国際出願番号】US2013047122
(87)【国際公開番号】WO2013192555
(87)【国際公開日】20131227
【審査請求日】2016年6月3日
(31)【優先権主張番号】61/809,634
(32)【優先日】2013年4月8日
(33)【優先権主張国】US
(31)【優先権主張番号】61/663,099
(32)【優先日】2012年6月22日
(33)【優先権主張国】US
(31)【優先権主張番号】61/837,633
(32)【優先日】2013年6月20日
(33)【優先権主張国】US
(73)【特許権者】
【識別番号】513109016
【氏名又は名称】コビディエン エルピー
(74)【代理人】
【識別番号】100114775
【弁理士】
【氏名又は名称】高岡 亮一
(74)【代理人】
【識別番号】100121511
【弁理士】
【氏名又は名称】小田 直
(74)【代理人】
【識別番号】100191086
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 香元
(72)【発明者】
【氏名】ブラナン，ジョゼフ，ディー．
【審査官】
後藤 健志
(56)【参考文献】
【文献】
米国特許出願公開第２００９／０１５７０７０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】
特表平０６−５０１４１１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）
Ａ６１Ｂ １８／１８
Ａ６１Ｎ ５／０４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
マイクロ波エネルギーを送達して組織を焼灼するように構成されたアンテナを備えたマイクロ波照射装置と、
伝送網を介して前記マイクロ波照射装置に接続され、かつマイクロ波信号を生成して、前記マイクロ波信号を前記アンテナに伝送するように構成されたマイクロ波発生器と、
前記伝送網を通って伝播している雑音温度を測定するように構成された放射計と、
前記マイクロ波発生器によって生成されたマイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにし、かつ前記所定の期間中に雑音温度を測定するように前記放射計を制御するように構成された制御装置と、
マイクロ波伝送網を冷却するように構成された流体冷却システムと、
前記流体冷却システム内の冷却流体と熱連通し、かつ前記冷却流体の温度を感知するように構成された第１の熱電対と、
前記マイクロ波伝送網と熱連通し、かつ前記伝送網の温度を測定するように構成された第２の熱電対と、
を備え、
前記放射計は、前記第１の熱電対によって感知された前記冷却流体の温度が、前記第２の熱電対によって感知された前記伝送網の温度と実質的に同じである場合に、前記組織からの雑音温度を測定する、マイクロ波焼灼システム。
伝送網を介して前記マイクロ波照射装置に接続され、かつマイクロ波信号を生成して、前記マイクロ波信号を前記アンテナに伝送するように構成されたマイクロ波発生器と、
前記伝送網を通って伝播している雑音温度を測定するように構成された放射計と、
前記マイクロ波発生器によって生成されたマイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにし、かつ前記所定の期間中に雑音温度を測定するように前記放射計を制御するように構成された制御装置と、
マイクロ波伝送網を冷却するように構成された流体冷却システムと、
前記流体冷却システム内の冷却流体と熱連通し、かつ前記冷却流体の温度を感知するように構成された第１の熱電対と、
前記マイクロ波伝送網と熱連通し、かつ前記伝送網の温度を測定するように構成された第２の熱電対と、
を備え、
前記放射計は、前記第１の熱電対によって感知された前記冷却流体の温度が、前記第２の熱電対によって感知された前記伝送網の温度と実質的に同じである場合に、前記組織からの雑音温度を測定する、マイクロ波焼灼システム。
【請求項2】
前記制御装置は、パルス幅変調（ＰＷＭ）マイクロ波信号を生成するように前記マイクロ波発生器を制御し、かつ前記ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に雑音温度を測定するように前記放射計を制御するように構成されている、請求項１に記載のマイクロ波焼灼システム。
【請求項3】
前記制御装置は、前記所定の期間中に雑音温度曲線を測定するように前記放射計を制御するように構成されている、請求項１に記載のマイクロ波焼灼システム。
【請求項4】
マイクロ波エネルギーを送達して組織を焼灼するように構成されたアンテナを備えたマイクロ波照射装置と、
伝送網を介して前記マイクロ波照射装置に接続され、かつマイクロ波信号を生成して、前記マイクロ波信号を前記アンテナに伝送するように構成されたマイクロ波発生器と、
前記伝送網を通って伝播している雑音温度を測定するように構成された放射計と、
前記マイクロ波発生器によって生成されたマイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにし、かつ前記所定の期間中に雑音温度を測定するように前記放射計を制御するように構成された制御装置と、
マイクロ波伝送網を冷却する冷却流体を受け入れるための入口と、前記マイクロ波伝送網から冷却流体を戻すための出口とを備えた流体冷却システムと、
前記入口に入る前記冷却流体と熱連通している第１の熱電対と、
前記出口から出る前記冷却流体と熱連通している第２の熱電対体と、
を備え、
前記第１の熱電対が、前記第２の熱電対によって感知された温度と実質的に同じ温度を感知した場合に、前記放射計は、前記組織からの雑音温度を測定する、マイクロ波焼灼システム。
伝送網を介して前記マイクロ波照射装置に接続され、かつマイクロ波信号を生成して、前記マイクロ波信号を前記アンテナに伝送するように構成されたマイクロ波発生器と、
前記伝送網を通って伝播している雑音温度を測定するように構成された放射計と、
前記マイクロ波発生器によって生成されたマイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにし、かつ前記所定の期間中に雑音温度を測定するように前記放射計を制御するように構成された制御装置と、
マイクロ波伝送網を冷却する冷却流体を受け入れるための入口と、前記マイクロ波伝送網から冷却流体を戻すための出口とを備えた流体冷却システムと、
前記入口に入る前記冷却流体と熱連通している第１の熱電対と、
前記出口から出る前記冷却流体と熱連通している第２の熱電対体と、
を備え、
前記第１の熱電対が、前記第２の熱電対によって感知された温度と実質的に同じ温度を感知した場合に、前記放射計は、前記組織からの雑音温度を測定する、マイクロ波焼灼システム。
【請求項5】
前記制御装置は、前記雑音温度曲線の傾きを決定するように構成され、前記傾きが、雑音温度測定値が単に前記組織の温度を表していることを示す所定の傾きに達した場合に、前記雑音温度測定値を記録するようにさらに構成されている、請求項３に記載のマイクロ波焼灼システム。
【請求項6】
前記制御装置は、
前記マイクロ波信号がオフになった時点で前記放射計によって測定された第１の雑音温度を記録し、
前記伝送網の温度が所定の温度に達した時点で前記放射計によって測定された第２の雑音温度を記録し、かつ
前記第１の雑音温度と前記第２の雑音温度との差を計算して、前記伝送網の雑音温度を得るようにさらに構成されている、請求項１に記載のマイクロ波焼灼システム。
前記マイクロ波信号がオフになった時点で前記放射計によって測定された第１の雑音温度を記録し、
前記伝送網の温度が所定の温度に達した時点で前記放射計によって測定された第２の雑音温度を記録し、かつ
前記第１の雑音温度と前記第２の雑音温度との差を計算して、前記伝送網の雑音温度を得るようにさらに構成されている、請求項１に記載のマイクロ波焼灼システム。
【請求項7】
前記制御装置は、前記伝送網の前記雑音温度に基づいて、前記マイクロ波発生器によって生成されたマイクロ波信号を制御するようにさらに構成されている、請求項６に記載のマイクロ波焼灼システム。
【請求項8】
前記マイクロ波信号は、パルス幅変調（ＰＷＭ）信号であり、かつ
前記制御装置は、前記ＰＷＭ信号の各オフ時間に前記放射計に雑音温度を測定させるようにさらに構成されている、請求項１に記載のマイクロ波焼灼システム。
前記制御装置は、前記ＰＷＭ信号の各オフ時間に前記放射計に雑音温度を測定させるようにさらに構成されている、請求項１に記載のマイクロ波焼灼システム。
【請求項9】
前記制御装置は、
前記ＰＷＭマイクロ波信号の前記オフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいか否かを判定し、かつ
前記ＰＷＭマイクロ波信号の前記オフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいと判定した場合に、前記マイクロ波発生器を停止するか前記ＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを低下させるようにさらに構成されている、請求項８に記載のマイクロ波焼灼システム。
前記ＰＷＭマイクロ波信号の前記オフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいか否かを判定し、かつ
前記ＰＷＭマイクロ波信号の前記オフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいと判定した場合に、前記マイクロ波発生器を停止するか前記ＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを低下させるようにさらに構成されている、請求項８に記載のマイクロ波焼灼システム。
【請求項10】
マイクロ波焼灼システムのマイクロ波発生器が、伝送網を介してマイクロ波信号をアンテナに供給する工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの制御装置が、前記マイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにする工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの放射計が、前記所定の期間中に雑音温度を測定する工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの第１の熱電対が、前記伝送網を冷却するための流体冷却システム内を流れる冷却流体の温度を感知する工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの第２の熱電対が、前記伝送網の温度を感知する工程と、
前記制御装置が、前記冷却流体の前記感知された温度が前記伝送網の前記感知された温度と実質的に同じである場合に、前記放射計によって測定された前記雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程と、を含む、マイクロ波焼灼システムの作動方法。
前記マイクロ波焼灼システムの制御装置が、前記マイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにする工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの放射計が、前記所定の期間中に雑音温度を測定する工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの第１の熱電対が、前記伝送網を冷却するための流体冷却システム内を流れる冷却流体の温度を感知する工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの第２の熱電対が、前記伝送網の温度を感知する工程と、
前記制御装置が、前記冷却流体の前記感知された温度が前記伝送網の前記感知された温度と実質的に同じである場合に、前記放射計によって測定された前記雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程と、を含む、マイクロ波焼灼システムの作動方法。
【請求項11】
前記マイクロ波信号は、パルス幅変調（ＰＷＭ）マイクロ波信号であり、前記放射計が、前記ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に前記雑音温度を測定する工程をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項12】
前記制御装置が、前記ＰＷＭマイクロ波信号の前記オフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいか否かを判定する工程と、
前記制御装置が、前記ＰＷＭマイクロ波信号の前記オフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいと判定した場合に、前記マイクロ波発生器を停止するか前記ＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを低下させる工程と、
をさらに含む、請求項１１に記載の方法。
前記制御装置が、前記ＰＷＭマイクロ波信号の前記オフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいと判定した場合に、前記マイクロ波発生器を停止するか前記ＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを低下させる工程と、
をさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項13】
マイクロ波焼灼システムのマイクロ波発生器が、伝送網を介してマイクロ波信号をアンテナに供給する工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの制御装置が、前記マイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにする工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの放射計が、前記所定の期間中に雑音温度を測定する工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの流体冷却システムが、前記伝送網を冷却するために流体冷却システムの入口を介して冷却流体を受け取る工程と、
前記流体冷却システムが、前記流体冷却システムの出口を介してマイクロ波伝送網から冷却流体を戻す工程と、
前記第１の熱電対が、前記入口に入る前記冷却流体の第１の温度を感知する工程と、
前記第２の熱電対が、前記出口から出る前記冷却流体の第２の温度を感知する工程と、
前記制御装置が、前記感知された第１の温度が前記感知された第２の温度と実質的に同じである場合に、前記放射計によって測定された前記雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程と、
を含む、マイクロ波焼灼システムの作動方法。
前記マイクロ波焼灼システムの制御装置が、前記マイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにする工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの放射計が、前記所定の期間中に雑音温度を測定する工程と、
前記マイクロ波焼灼システムの流体冷却システムが、前記伝送網を冷却するために流体冷却システムの入口を介して冷却流体を受け取る工程と、
前記流体冷却システムが、前記流体冷却システムの出口を介してマイクロ波伝送網から冷却流体を戻す工程と、
前記第１の熱電対が、前記入口に入る前記冷却流体の第１の温度を感知する工程と、
前記第２の熱電対が、前記出口から出る前記冷却流体の第２の温度を感知する工程と、
前記制御装置が、前記感知された第１の温度が前記感知された第２の温度と実質的に同じである場合に、前記放射計によって測定された前記雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程と、
を含む、マイクロ波焼灼システムの作動方法。
【請求項14】
前記制御装置が、前記放射計によって測定された雑音温度曲線の傾きを決定する工程と、
前記制御装置が、前記雑音温度曲線の前記傾きが所定の傾きに達した場合に、前記雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程と、
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
前記制御装置が、前記雑音温度曲線の前記傾きが所定の傾きに達した場合に、前記雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程と、
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項15】
前記制御装置が、前記マイクロ波信号がオフになった時点で前記放射計によって測定された第１の雑音温度を記録する工程と、
前記制御装置が、前記伝送網の温度が所定の温度に達した時点で前記放射計によって測定された第２の雑音温度を記録する工程と、
前記制御装置が、前記第１の雑音温度と前記第２の雑音温度との差を計算して、前記伝送網の雑音温度を得る工程と、
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
前記制御装置が、前記伝送網の温度が所定の温度に達した時点で前記放射計によって測定された第２の雑音温度を記録する工程と、
前記制御装置が、前記第１の雑音温度と前記第２の雑音温度との差を計算して、前記伝送網の雑音温度を得る工程と、
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項16】
前記制御装置が、前記伝送網の前記雑音温度に基づいて、前記マイクロ波信号を制御する工程をさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項17】
前記マイクロ波信号は、ＰＷＭマイクロ波信号を含み、かつ
前記マイクロ波信号を制御する工程は、前記伝送網の前記雑音温度に基づいて、前記制御装置が、前記ＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを調整する工程を含む、
請求項１６に記載の方法。
前記マイクロ波信号を制御する工程は、前記伝送網の前記雑音温度に基づいて、前記制御装置が、前記ＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを調整する工程を含む、
請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本出願は、２０１２年６月２２日に出願された米国仮特許出願第６１／６６３，０９９号、２０１３年４月８日に出願された米国仮特許出願第６１／８０９，６３４号および２０１３年６月２０日に出願された米国仮特許出願第６１／８３７，６３３号の利益および優先権を主張するものであり、それらの各開示内容全体が、全ての目的のために、参照により本明細書に組み込まれる。
【0002】
本開示は、マイクロ波焼灼システムにおけるマイクロ波温度測定に関する。
【背景技術】
【0003】
電磁放射線を使用して腫瘍細胞を加熱および破壊することができる。治療では、癌性腫瘍が認められた組織に焼灼プローブを挿入することがある。焼灼プローブを適切に配置したら、焼灼プローブにより焼灼プローブの周りの組織の中に電磁放射線を放射する。
【0004】
癌などの疾患の治療では、ある種の腫瘍細胞が、健康な細胞に通常有害である温度よりも僅かに低い高温で変性することが分かっている。温熱療法などの公知の治療方法は、隣接する健康な細胞を不可逆的な細胞破壊が生じる温度よりも低い温度に維持しながら、異常細胞を４１℃超の温度に加熱する。このような方法では、電磁放射線を照射して組織を加熱または焼灼する。
【0005】
電磁放射線を利用する電気外科手術装置が、様々な使用および用途のために開発されている。典型的には、焼灼処置で使用される装置は、電力発生源、例えばエネルギー源として機能するマイクロ波または高周波（ＲＦ）電気外科手術用発生器と、標的組織にエネルギーを導くための手術器具（例えば、アンテナアセンブリを有するマイクロ波焼灼プローブ）とを備える。上記発生器および手術器具は典型的に、発生器から器具にエネルギーを伝送するため、および器具と発生器との間で制御、フィードバックおよび識別信号を通信するための複数の導体を有するケーブルアセンブリによって動作可能に接続されている。
【0006】
モノポール型、ダイポール型およびヘリカル型などの数種類のマイクロ波プローブが使用されており、それらを組織焼灼用途で使用することができる。モノポールおよびダイポールアンテナアセンブリでは、マイクロ波エネルギーは一般に、導体の軸から離れるように垂直に放射される。モノポールアンテナアセンブリは典型的に、単一の細長い導体を含む。典型的なダイポールアンテナアセンブリは、２つの細長い導体を含み、それらは直線状に並べられ、電気絶縁体を挟んで互いに対して端と端で配置されている。ヘリカルアンテナアセンブリは、様々な寸法（例えば、直径および長さ）の螺旋状の導体構成を含む。ヘリカルアンテナアセンブリの主な動作モードは、螺旋による放射場が螺旋軸に対して垂直な平面において最大となるノーマルモード（ブロードサイド）、および螺旋軸に沿って放射が最大となる軸方向モード（エンドファイア）である。
【0007】
所望の手術結果を達成するために、特定の種類の組織焼灼処置に応じて特定の焼灼体積を決定してもよい。焼灼体積は、アンテナ設計、アンテナ性能、アンテナインピーダンス、焼灼時間およびワット数ならびに組織特性（例えば、組織インピーダンス）と相関している。
【0008】
悪性細胞を変性させるために必要な温度と健康な細胞に通常有害な温度との差が小さいため、より予測可能な温度分布を得て、マイクロ波エネルギーが照射される組織の周りの健康な組織の損傷を最小に抑えながら腫瘍を根絶するために、正確な温度測定が必要となる。組織温度を測定するために、熱電対または光ファイバーなどの埋め込み型サーモプローブが典型的に使用される。しかし、これらの測定は、サーモプローブの測定点の周りの小体積の組織に制限される。
【発明の概要】
【0009】
一態様では、本開示は、マイクロ波照射装置と、伝送網を介してマイクロ波照射装置に接続されたマイクロ波発生器と、伝送網を通って伝播している雑音温度信号を測定する放射計と、マイクロ波発生器および放射計に接続された制御装置とを備えたマイクロ波焼灼システムを特徴とする。マイクロ波照射装置は、組織を焼灼するためのマイクロ波エネルギーを送達するアンテナと、マイクロ波信号を生成して、伝送網を介してマイクロ波信号をアンテナに伝送するマイクロ波発生器とを備える。制御装置は、マイクロ波発生器によって生成されたマイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにして、所定の期間中に雑音温度を測定するように放射計を制御する。
【0010】
制御装置は、パルス幅変調（ＰＷＭ）マイクロ波信号を生成するようにマイクロ波発生器を制御してもよく、かつ、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に雑音温度を測定するように放射計を制御してもよい。制御装置は、所定の期間中に雑音温度曲線を測定するように放射計を制御してもよい。
【0011】
本マイクロ波焼灼システムは、マイクロ波伝送網を冷却する流体冷却システムと、流体冷却システム内の冷却流体と熱連通し、かつ冷却流体の温度を感知する第１の熱電対と、マイクロ波伝送網と熱連通し、かつ伝送網の温度を測定する第２の熱電対とを備えていてもよい。放射計は、第１の熱電対によって感知された冷却流体の温度が第２の熱電対によって感知された伝送網の温度と実質的に同じである場合に、組織からの雑音温度を測定してもよい。
【0012】
本マイクロ波焼灼システムは、マイクロ波伝送網を冷却するための冷却流体を受け取るための入口および冷却流体をマイクロ波伝送網から戻すための出口を有する流体冷却システムと、入口に入る冷却流体と熱連通している第１の熱電対と、出口から出る冷却流体と熱連通している第２の熱電対とを備えていてもよい。放射計は、第１の熱電対が第２の熱電対によって感知された温度と実質的に同じである温度を感知した場合に、組織からの雑音温度を測定してもよい。
【0013】
制御装置は、雑音温度測定値の大きさの傾きを決定し、その傾きが、雑音温度測定値が単に組織の温度を表していることを示す所定の傾きに達した場合に、雑音温度測定値を記録してもよい。制御装置は、マイクロ波信号がオフになった時点で放射計によって測定された第１の雑音温度を記録し、伝送網の温度が所定の温度に達した時点で放射計によって測定された第２の雑音温度を記録し、かつ第１の雑音温度と第２の雑音温度との差を計算して伝送網の雑音温度を得てもよい。制御装置は、伝送網の雑音温度に基づいて、マイクロ波発生器によって生成されるマイクロ波信号を制御してもよい。
【0014】
マイクロ波信号は、パルス幅変調（ＰＷＭ）信号であってもよく、制御装置は、ＰＷＭ信号の各オフ時間に放射計に雑音温度を測定させてもよい。制御装置は、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいか否かを判定してもよく、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいと判定した場合に、マイクロ波信号をオフにするかＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを減少させてもよい。
【0015】
別の態様では、本開示は、マイクロ波焼灼システムにおける温度の測定方法を特徴とする。本方法は、伝送網を介してマイクロ波信号をアンテナに供給する工程と、マイクロ波信号を所定の期間にわたってオフにする工程と、放射計を用いて所定の期間中に雑音温度を測定する工程とを含む。
【0016】
マイクロ波信号は、パルス幅変調（ＰＷＭ）マイクロ波信号であってもよく、本方法は、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に雑音温度を測定する工程を含んでもよい。本方法は、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいか否かを判定する工程と、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に測定された雑音温度が所定の雑音温度値よりも大きいと判定した場合に、マイクロ波信号をオフにするかＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを減少させる工程とを含んでもよい。
【0017】
本方法は、伝送網を冷却するための流体冷却システム内を流れる冷却流体の温度を感知する工程と、伝送網の温度を感知する工程と、冷却流体の感知された温度が伝送網の感知された温度と実質的に同じである場合に、放射計によって測定された雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程とを含んでもよい。
【0018】
本方法は、伝送網を冷却するために流体冷却システムの入口を介して冷却流体を受け取る工程と、流体冷却システムの出口を介してマイクロ波伝送網から冷却流体を戻す工程と、入口に入る冷却流体の第１の温度を感知する工程と、出口から出る冷却流体の第２の温度を感知する工程と、感知された第１の温度が感知された第２の温度と実質的に同じである場合に、放射計によって測定された雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程とを含んでもよい。
【0019】
本方法は、放射計によって測定された雑音温度曲線の傾きを決定する工程と、雑音温度曲線の傾きが所定の傾きに達した場合に、その雑音温度を組織の雑音温度として特定する工程とを含んでもよい。
【0020】
本方法は、マイクロ波信号がオフになった時点で放射計によって測定された第１の雑音温度を記録する工程と、伝送網の温度が所定の温度に達した時点で放射計によって測定された第２の雑音温度を記録する工程と、第１の雑音温度と第２の雑音温度との差を計算して伝送網の雑音温度を得る工程とを含んでもよい。本方法は、伝送網の雑音温度に基づいてマイクロ波信号を制御する工程を含んでもよい。マイクロ波信号は、ＰＷＭマイクロ波信号を含んでもよく、マイクロ波信号を制御する工程は、伝送網の雑音温度に基づいてＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを調整する工程を含んでもよい。
【0021】
流体冷却されるプローブアセンブリを有する本開示のエネルギー送達装置およびそれを備えたシステムの目的および特徴は、添付の図面を参照しながらその様々な実施形態の説明を読めば、当業者には明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】本開示の実施形態に係るマイクロ波焼灼システムのブロック図である。
【図13】本開示の一実施形態に係る放射計制御装置が組み込まれたケーブルの斜視図である。
【図14】本開示の一実施形態に係る放射計制御装置を備えたマイクロ波照射装置の斜視図である。
【図15】本開示の一実施形態に係る放射計制御装置を備えたマイクロ波ケーブルの斜視図である。
【図18】本開示の他の実施形態に係るマイクロ波焼灼システムのブロック図である。
【図19】本開示の実施形態に係る放射計を制御するために使用される温度を測定するための熱電対が組み込まれたマイクロ波照射装置のブロック図である。
【図20】本開示のいくつかの実施形態に係る放射計による温度測定のタイミングを示すグラフである。
【図22】本開示のさらに他の実施形態に係る放射計による温度測定のタイミングを示すタイミング図である。
【図23】本開示の一実施形態に係るマイクロ波焼灼システムの動作方法のフローチャートである。
【図24】本開示の一実施形態に係る放射計測定を用いる伝送網の温度の制御方法のフローチャートである。
【図25】本開示の別の実施形態に係るマイクロ波焼灼システムの動作方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0023】
本開示は一般に、マイクロ波伝送網の熱的特性およびマイクロ波照射装置の周りの生理環境を監視するためのマイクロ波温度測定回路網が組み込まれたマイクロ波焼灼システムに関する。マイクロ波放射測定は、熱放射とみなされる電磁エネルギーを測定するための技術であり、熱源から生じるマイクロ波エネルギーを検出および測定するために使用することができる。
【0024】
本開示に係るマイクロ波焼灼システムは、組織を焼灼するためのエネルギーを伝送するアンテナ（設定された「焼灼周波数」）と、平均温度に変換することができる加熱された組織によって発せられた熱雑音電力を受け取るアンテナ（設定された「放射計周波数」）とを組み合わせたものである。放射計周波数が十分に高い（例えば、３〜９ＧＨｚ）場合、アンテナの周りの小さい十分な体積（例えば、ｌ〜３ｍｍ）全体の温度を平均して、アンテナを熱電対として使用することができる。
【0025】
本開示に係るマイクロ波焼灼システムは、マイクロ波照射装置のカテーテルまたはそのシャフト断面の大きさを増加させることなく、組織およびマイクロ波焼灼システムの構成要素の熱監視を可能にするように、マイクロ波焼灼システムの既存の伝送網と組み合わせたマイクロ波温度測定を使用する。これらのシステムは、組織温度のリアルタイムな監視およびフィードバックを行い、焼灼の進行、完全性または完全性の欠如のリアルタイムな確認により処置の結果を高める。システム構成要素の温度の監視により、マイクロ波焼灼システムは、処置全体にわたる適切な冷却を保証し、それにより潜在的な装置の故障または潜在的な患者もしくは使用者の損傷を防止することができる。
【0026】
添付の図面を参照しながら、本マイクロ波焼灼システムおよび構成要素の実施形態について記載する。同様の符号は、図の説明の全体にわたって同様または同一の要素を指すものとする。図面に示され、かつ本記載で使用される「近位」という用語は、装置または装置の構成要素の使用者により近い部分を指し、「遠位」という用語は、装置またはその構成要素の使用者により遠い部分を指す。
【0027】
本記載では、「一実施形態では」「実施形態では」「いくつかの実施形態では」または「他の実施形態では」という語句を使用することがあるが、これらはそれぞれ、本開示に係る同一または異なる実施形態のうちの１つ以上を指すものとする。
【0028】
電磁エネルギーは一般に、エネルギーの増加または波長の減少によって、電波、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線およびガンマ線に分類される。本記載で使用される「マイクロ波」とは一般に、３００メガヘルツ（ＭＨｚ）（３×１０８サイクル／秒）〜３００ギガヘルツ（ＧＨｚ）（３×１０１１サイクル／秒）の周波数範囲の電磁波を指す。本記載で使用される「焼灼処置」とは一般に、例えば、マイクロ波焼灼、高周波（ＲＦ）焼灼またはマイクロ波もしくは高周波焼灼補助下切除などの任意の焼灼処置を指す。
【0029】
本記載で使用される「エネルギー照射装置」とは一般に、マイクロ波もしくはＲＦ電気外科手術用発生器など電力発生源から組織にエネルギーを移動させるために使用することができる任意の装置を指す。本明細書の目的では、「エネルギー照射装置」という用語は、「エネルギー送達装置」という用語と同義である。本記載で使用される「伝送線路」とは一般に、ある点から別の点までの信号の伝播のために使用することができる任意の伝送媒体を指す。本記載で使用される「流体」とは一般に、液体、気体またはその両方を指す。
【0030】
本記載で使用される「制御装置」という用語は、デジタルおよび／またはアナログ信号を生成して別の装置を制御または駆動するためのデジタルおよび／またはアナログ部品を用いる任意の電気装置を指す。「制御装置」という用語は、デジタル信号プロセッサ、マイクロコントローラ、または本明細書に記載されている方法のいくつかを実施するためのプロセッサ、メモリおよびＩ／Ｏポートを有するコンピュータを指すものとする。
【0031】
図１は、本開示の実施形態に係るマイクロ波焼灼システム１００のブロック図である。マイクロ波焼灼システム１００は、マイクロ波照射装置１１０、マイクロ波ケーブル１２０および１２５、結合回路１３０、マイクロ波発生器１４０、フィルタ１３５および放射計１６０を備える。マイクロ波発生器１４０は、マイクロ波信号を生成し、マイクロ波ケーブル１２０および１２５を介してマイクロ波照射装置１１０にそれを出力する。マイクロ波照射装置１１０は、マイクロ波信号がアンテナに印加された場合にマイクロ波放射線を放射する少なくとも１つのアンテナを備える。アンテナから放射されたマイクロ波放射線により腫瘍を焼灼することができるように、上記アンテナを腫瘍内に配置してもよい。
【0032】
結合回路１３０は、雑音温度信号またはマイクロ波ケーブル１２０および１２５を通って伝播している信号の少なくとも一部を放射計１６０に供給するために、マイクロ波発生器１４０とマイクロ波照射装置１１０との間に接続されている。フィルタ１３５は、マイクロ波信号の少なくとも一部から雑音温度信号を分離する。次いで、放射計１６０は雑音温度信号をサンプリングし、それを制御装置１５０に供給する。制御装置１５０は、アナログ／デジタル変換器（ＡＤＣ）を用いてマイクロ波雑音温度信号をデジタルでサンプリングし、その結果を基準化して、マイクロ波雑音温度信号を温度読み取り値に変換してもよい。また、以下により詳細に記載するように、制御装置１５０を表示装置とインタフェースで接続して、温度読み取り値を表示してもよい。
【0033】
放射計１６０によって測定された雑音温度を使用して、温度フィードバック制御を可能にしてもよい。フィードバック制御は、所望の組織効果を達成し、かつ全体的な処置の結果を高めるために、開ループ制御（例えば、使用者による制御）または閉ループ制御（例えば、自律システム）を含んでもよい。また、放射計１６０および制御装置１５０を使用して、マイクロ波焼灼システム１００の構成要素の温度を監視してもよい。例えば、放射計１６０および制御装置１５０を使用して、マイクロ波ケーブル１２０の温度を監視し、適切な冷却を保証し、かつ故障を回避してもよい。
【0034】
図２は、本開示のいくつかの実施形態に係るマイクロ波焼灼システム２００のブロック図である。マイクロ波焼灼システム２００は、マイクロ波発生器２２０と、マイクロ波発生器２２０に接続されたマイクロ波照射装置２１０とを備える。マイクロ波照射装置２１０は、マイクロ波アンテナ２３０と、マイクロ波焼灼処置中に臨床医によるマイクロ波アンテナ２３０の操作を可能にする、マイクロ波アンテナ２３０に接続されたハンドル２４０とを備える。
【0035】
マイクロ波アンテナ２３０は、特定の外科手術、特定の管腔構造、特定の標的組織、臨床医の好みなどに対応する柔軟でない焼灼カテーテルまたは柔軟な焼灼カテーテルとして具体化してもよい。例えば、一実施形態では、患者の肺の比較的狭い気道を通って移動させるために非常に柔軟な焼灼カテーテルを有すると有利であることが分かるであろう。場合によっては、例えば、焼灼カテーテルにより組織を貫通または穿刺しなければならない場合には、僅かにのみ柔軟な焼灼カテーテルを有すると有利であることが分かるであろう。なおさらに、所望の量の柔軟性を達成するために、「マイクロ波エネルギー送達装置およびシステム（Microwave Energy-Delivery Device and System）」という発明の名称の米国特許出願第１３／８３４，５８１号（その開示内容全体が参照により本明細書に組み込まれる）に記載されている焼灼カテーテルを用いることが望ましい場合がある。当業者には、マイクロ波アンテナ２３０が、本開示の範囲から逸脱することなく、構造細部において簡略化またはより複雑化された他の焼灼カテーテルの実施形態を用いることができることが分かるであろう。
【0036】
正確な温度測定値を得るために、放射計１６０を、マイクロ波アンテナ２３０の放射部の可能な限り近くに配置して、放射計１６０の中に望ましくない雑音が入るのを制限する。例えば、図２に示すように、放射計１６０および結合回路１３０をマイクロ波照射装置２１０のハンドル２４０内に配置する。結合回路１３０をマイクロ波供給伝送線路とアンテナ要素との間に接続して、アンテナ要素内を伝播しているマイクロ波信号の少なくとも一部を放射計１６０に供給する。放射計１６０は、結合回路１３０に接続されており、アンテナ２３０の周りの環境（例えば、焼灼される組織）の温度に比例する電圧信号Ｖ０を出力する。この電圧信号Ｖｏは、通信回線２１５を介してマイクロ波発生器２２０に供給される。
【0037】
図１および図２の結合回路１３０は、エネルギーを放射計１６０の中に案内する任意のマイクロ波結合回路網であってもよい。図３Ａ〜図３Ｃは、図１および図２の結合回路１３０の例示的な実施形態のブロック図である。図３Ａは、マイクロ波伝送線路内を伝播している信号の一部をポート３に結合する方向性結合器３００のブロック図である。次いで、信号の一部は放射計に供給され、放射計は、信号の一部内の雑音温度信号を測定する。図３Ｂは、ポート２とポート３とを切り換えるスイッチ３５０のブロック図である。いくつかの実施形態では、スイッチ３５０は通常、マイクロ波信号がマイクロ波アンテナに供給されるようにポート２に切り換えられ、かつ放射計が雑音温度測定値を得ることができるように、一定間隔でポート３に周期的に切り換えられる。他の実施形態では、スイッチ３５０は、マイクロ波焼灼処置中に所定の時間、例えば、マイクロ波焼灼処置の開始時および終了時近くに、ポート３に切り換えてもよい。スイッチ３５０としては、ダイオードスイッチなどの固体スイッチまたは機械式リレーなどの移動型スイッチが挙げられる。
【0038】
図３Ｃに示すように、結合回路１３０は、代わりとして、１つ以上の雑音温度周波数を放射計１６０に通すための第１のＬＣ共振バンドパスフィルタ３８０と、マイクロ波信号をマイクロ波照射装置に通すための第２のＬＣ共振バンドパスフィルタ３８５とを有するＴ形回路網３７５を含んでもよい。
【0039】
図４Ａは、図１および図２のマイクロ波焼灼システムに用いることができる放射計４００の回路ブロック図である。放射計４００は、低雑音増幅器４０２、局部発振器４０４、周波数混合器４０６、バンドパスフィルタ４０８、中間周波（ＩＦ）増幅器４１０、検出器４１２および積分器４１４を備える。低雑音増幅器４０２は、雑音温度信号を増幅して、増幅された雑音温度信号を得る。局部発振器４０４は正弦波を生成し、周波数混合器４０６は、増幅された雑音温度信号を正弦波と混合して、雑音温度信号をマイクロ波信号の周波数よりも低い中間周波数（ＩＦ）に変換する。中間周波数は、１００Ｈｚ〜１００ｋＨｚの範囲の周波数（例えば１０ｋＨｚ）であってもよい。
【0040】
バンドパスフィルタ４０８は、周波数混合器４０６からの信号出力を濾過し、ＩＦ増幅器４１０は、濾過した信号を増幅する。検出器４１２は雑音温度信号を検出し、積分器４１４は、検出された雑音温度信号を積分して、マイクロ波アンテナの周りの環境の温度に比例する電圧信号を供給する。利得変動を克服し、かつ温度測定値の精度を高めるために、放射計４００は、長い積分時間（例えば１０ミリ秒〜１０秒）と、狭い帯域幅Ｂ（例えば、３．５ＧＨｚ±３５ＭＨｚ）を有するバンドパスフィルタとを有する積分器を使用してもよい。
【0041】
放射計４００からの電圧信号出力をさらに処理し、伝送網を通って伝播している信号を濾過して雑音温度信号を得てもよい。例えば、放射計４００は、時間領域および／または周波数領域濾過技術を使用して、雑音温度信号、組織の雑音温度信号および伝送網の雑音温度信号を分離してもよい。
【0042】
図４Ｂは、本開示の別の実施形態に係る放射計４２０の回路ブロック図である。放射計４００は、マイクロ波信号入力４２１と一定の温度Ｔｃに維持される抵抗型負荷４２４とを切り換えるスイッチ４２２（「ディッケ変調装置」ともいう）を備える。抵抗型負荷４２４は、伝送網の温度を表す温度を測定するために伝送網と熱連通するように配置された熱電対であってもよい。抵抗型負荷４２４は、組織の雑音温度を分離するために、伝送網の雑音温度を打ち消すのに使用される基準温度を供給する。当該スイッチは、単極双投スイッチであってもよい。基準信号発生器４２６は、スイッチドライバ４２８を介してスイッチ４２２に供給される制御信号を生成して、スイッチ４２２のスイッチング周波数を制御する。
【0043】
スイッチ４２２からの出力は、増幅器４３０に送られ、増幅器４３０は、マイクロ波信号入力４２１の中に入る雑音温度信号または負荷温度信号入力４２４の中に入る基準温度信号を増幅する。増幅器４３０は、増幅器により雑音が雑音温度信号の中に入らないように低雑音増幅器であってもよい。増幅器４３０からの出力は、雑音温度信号の振幅を検出する検出器４３２に送られる。雑音温度信号の振幅は、増幅器４３４によって増幅され、位相検出器４３６に供給される。基準信号発生器４２６は、スイッチ４２２のスイッチングと同調して動作するように位相検出器４３６を制御する。次いで、位相検出器４３６からの出力を積分器４３８によって積分し、積分器４３８は、雑音温度信号における波動の振幅を減少させる。
【0044】
動作時に、基準信号発生器４２６は、受信機の利得変化が生じる周波数よりも高い周波数（例えば、３０〜ｌ０００Ｈｚ）で矩形波を生成する。スイッチドライバ４２８は、生成された矩形波に従ってスイッチ４２２を駆動する。こうすることにより、受け取られた雑音温度に対する受信機の利得変化の効果（例えば、増幅器のドリフト）が除去される。
【0045】
図５は、図１のマイクロ波焼灼システムに使用されるマイクロ波温度測定回路網モジュール５００のブロック図である。マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、マイクロ波伝送網（例えばアンテナ）の熱的特性ならびにマイクロ波照射装置の周りの生理環境（例えば組織）を監視する。マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、放射計５１０、フィルタ５２０、伝送線路コネクタ５８０ａおよび５８０ｂ、伝送線路コネクタ５８０ａおよび５８０ｂ間に接続された伝送線路５７５ならびに伝送線路５７５に接続された結合回路網５３０を備える。
【0046】
結合回路網５３０は、伝送線路５７５を通って伝播している信号の少なくとも一部をフィルタ５２０に結合する。これらの信号は、高出力マイクロ波信号５８２および雑音温度信号５８４を含む。フィルタ５２０は、結合回路網５３０によって供給された信号を濾過して雑音温度信号５８４を分離する。例えば、フィルタ５２０は、低周波数の高出力マイクロ波信号（例えば、２４５０ＭＨｚのマイクロ波信号）から、高周波数の雑音温度信号（例えば、４ＧＨｚの雑音温度信号）を分離してもよい。フィルタ５２０は、雑音温度信号をさらに濾過して、組織からの雑音温度信号、本マイクロ波焼灼システムの構成要素からの雑音温度信号（例えば、マイクロ波伝送網からの雑音温度信号）を得てもよい。時間および／または周波数領域信号処理技術を使用して、高出力マイクロ波信号、組織からのマイクロ波雑音温度、および本マイクロ波焼灼システムの構成要素からのマイクロ波雑音温度を分離することができる。例えば、フィルタ５２０は、高速フーリエ変換（ＦＦＴ）を用いて、雑音温度信号の振幅を決定してもよい。
【0047】
フィルタ５２０は、マイクロ波信号を雑音温度信号から分離することを目的とした様々なアナログおよびデジタル電子部品であってもよい。例えば、フィルタ５２０は、デジタル回路を用いて実装してもよく、その場合、フィルタ５２０は、結合回路網５３０によって供給されたマイクロ波信号の少なくとも一部をデジタル形式に変換するためのアナログ／デジタル変換器（ＡＤＣ）を備えていてもよい。デジタル回路は、デジタル信号プロセッサまたはフィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）の中に実装してもよい。雑音温度信号を、本マイクロ波焼灼システムにおける雑音温度源（例えば、ケーブル、サーキュレータ、結合器、フィルタ、コネクタ、増幅器など）および組織の雑音温度源からのそれぞれの雑音温度にさらに分離してもよい。また、制御装置５４０は、制御信号、例えば、マイクロ波発生器を制御するためのパルス制御信号を生成して、その出力を調整し、例えば、以下により詳細に記載するように、放射計測定を向上または最適化することができる。
【0048】
マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、制御装置５４０、ユーザインタフェース（ＵＩ）５５０、表示装置ドライバ５６０、表示装置５７０ならびにデータバスコネクタ５１５ａおよび５１５ｂをさらに備える。制御装置５４０は、放射計５１０から測定された雑音温度データを受け取り、測定された雑音温度データに基づいて温度情報を決定する。制御装置５４０の制御下で、表示装置ドライバ５６０および表示装置５７０を介してシステムの使用者に温度情報を直接表示して、リアルタイムな状態（例えば、医療処置の進行または完了）を使用者に知らせてもよい。制御装置５４０は、本システムの全体的な治療効果を最適化し、かつシステムのロバスト性および患者／使用者の安全性を確保するように設計されたフィードバックアルゴリズムへの入力として温度情報を使用してもよい。
【0049】
マイクロ波温度測定回路網モジュール５００によって行われるリアルタイムな処置の監視により、焼灼処置の状態（例えば、焼灼の完全性または不完全性）に対応する温度値を、表示装置５７０を介して使用者に直接表示してもよい。制御装置５４０によって行われるシステムのロバスト性の監視により、マイクロ波伝送網すなわち同軸の伝送線路およびアンテナの温度を監視し、かつマイクロ波伝送網に対して定められた所定の温度限界に基づいて、マイクロ波出力を制限してもよい。
【0050】
ユーザインタフェース（ＵＩ）５５０は、最小限のインタフェースによる接続から最大限のインタフェースによる接続まで、温度測定回路網モジュール５００と本マイクロ波焼灼システムの他の構成要素との間に様々なレベルのインタフェースを設けてもよい。最小限のインタフェースで接続された温度測定回路網モジュール５００により、温度値を使用者に表示してもよく、その場合、温度測定回路網モジュールへのインタフェースとしては、温度測定回路網モジュール５００の構成要素および電力供給ラインコネクタ５２５ａおよび５２５ｂに接続された本マイクロ波焼灼システムの他の構成要素に電力を分配するための電力供給ラインコネクタ５２５ａおよび５２５ｂが挙げられる。最小限のインタフェースで接続された温度測定回路網モジュール５００は、伝送線路５７５への結合のための結合回路網５３０も備える。
【0051】
最大限のインタフェースで接続された温度測定回路網モジュールは、本マイクロ波焼灼システムの主制御装置として動作する制御装置５４０をさらに備える温度測定回路網モジュールであり、その場合、温度測定回路網モジュール５００へのインタフェースとしては、データバスコネクタ５１５ａおよび５１５ｂが挙げられ、そこを通して、混合された信号の制御および監視データが、制御装置５４０から、データバスコネクタ５１５ａおよび５１５ｂを介して温度測定回路網モジュール５００に接続された本マイクロ波焼灼システムの他の構成要素に伝送される。例えば、制御装置５４０は、コネクタ５１５ｂを介してマイクロ波発生器にコマンドを送って、マイクロ波信号の特性を変更するかマイクロ波信号の生成を完全に停止してもよい。
【0052】
図５のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００は全て、本マイクロ波焼灼システム内の同じ物理的位置に存在していてもよく、あるいは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００の各種要素は、本マイクロ波焼灼システム内の異なる位置に位置していてもよい（すなわち、分割構成であってもよい）。図６および図７は、図５のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００の分割構成を示す。図６は、結合回路網５３０によりマイクロ波伝送線路６７５から結合された、雑音温度信号の測定に関連するマイクロ波温度測定回路網モジュール５００の構成要素を備える測定モジュール６００である。
【0053】
結合回路網５３０は、図３Ａの方向性結合器３００、図３Ｂのスイッチ３５０、図３ＣのＴ形回路網３７５、バンドパスフィルタまたはダイプレクサーなどの任意の公知のマイクロ波結合スキームによって実装してもよい。フィルタ５２０は、放射計５１０に入る結合されたマイクロ波エネルギーを目的の熱パラメータを表すものに制限する。フィルタ５２０は、周波数スペクトル選択を実行し、放射計５１０は、雑音温度信号を検出するための検出器（例えば、図４Ｂの検出器４３２）を備える。
【0054】
測定モジュール６００は、本マイクロ波焼灼システムの他の構成要素とインタフェースで接続するためのコネクタも備える。測定モジュール６００は、雑音温度信号をデータバスコネクタ６１５ａおよび６１５ｂを介して測定モジュール６００に接続された本マイクロ波焼灼システムの他の構成要素に伝送することができるデータバスコネクタ６１５ａおよび６１５ｂを備える。測定モジュール６００は、入力供給ラインコネクタ６２５ｂに接続されたマイクロ波焼灼システムの別の構成要素から電力を受け取るための入力供給ラインコネクタ６２５ｂ、および電力供給ラインコネクタ６２５ａに接続されたマイクロ波焼灼システムのさらに別の構成要素に電力が供給される出力供給コネクタ６２５ａも備える。
【0055】
測定モジュール６００は、温度測定回路網モジュールの伝送線路５７５の両端に接続された伝送線路コネクタ６８０ａおよび６８０ｂをさらに備える。伝送線路コネクタ６８０ａおよび６８０ｂは、結合回路網５３０がマイクロ波発生器１０００によってマイクロ波照射装置８００に伝送されるマイクロ波信号の一部を得ることができるように、本マイクロ波焼灼システムの構成要素間に測定モジュール６００を接続するために使用される。例えば、図１７Ａに示すように、測定モジュール６００をマイクロ波発生器１０００とマイクロ波照射装置８００との間に直接接続してもよい。あるいは、測定モジュール６００を、マイクロ波照射装置８００には直接接続するが、マイクロ波発生器１０００には、マイクロ波ケーブル９００に接続し、次いでそれをマイクロ波発生器１０００に接続することにより間接的に接続してもよい。
【0056】
図７は、図５のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００の分割構成の制御モジュール７００を示す。制御モジュール７００は、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００およびユーザインタフェース（ＵＩ）電子機器の「高性能部品」に関連する要素を備える。「高性能部品」としては、温度測定値（例えば、デジタルの形態の雑音温度信号）をデータバスコネクタ７１５を介して放射計５１０からを受け取り、かつマイクロ波出力を制限して所望のシステム応答を達成することにより温度情報に反応する制御装置５４０が挙げられる。制御装置５４０は、放射計５１０の性能および精度を高めるように、データバスコネクタ７１５を介してマイクロ波発生器１０００と通信してもよい。例えば、制御装置５４０は、以下により詳細に記載するように、放射計がパルス間で雑音温度測定を行うことができるように、高出力マイクロ波治療エネルギーのパルスを出力するようにマイクロ波発生器１０００を制御してもよい。
【0057】
ユーザインタフェース５５０に接続された制御装置５４０は、使用者に熱状態を警告（例えば、温度値を表示）するか、例えば、本マイクロ波焼灼システムの任意の構成要素を誤用した場合、安全性または装置のロバスト性のために、標的組織の温度またはマイクロ波照射装置の温度の限界値などの限界または値に達した場合に特定のシステムの機能を停止してもよい（例えば、ＭＷ電力出力を停止してもよい）。制御装置５４０は、本マイクロ波焼灼システムの別のモジュールから電力を受け取るための電力供給ラインコネクタ７２５も備える。例えば、電力供給ラインコネクタ７２５は、マイクロ波発生器１０００の電力分配ユニット１０４５から電力を受け取るために、図１０のマイクロ波発生器１０００の電力供給ラインコネクタ１０２５ｂに接続していてもよい。
【0058】
一般に、図５〜図７のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００、６００および７００のそれぞれに対して、回路網モジュールに接続された本マイクロ波焼灼システムの構成要素のうちの１つによって提供される調整電源によって電力を供給してもよい。例えば、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００、６００および７００は、マイクロ波発生器１０００の電源１０５０および電力調整器１０４０から電力を受け取ってもよい。あるいは、これらのマイクロ波温度測定回路網モジュール５００、６００および７００に対して、それら自体の電源および電力調整回路（例えば、電池、太陽電池または主電源）によって電力を供給してもよい。
【0059】
図８は、マイクロ波治療エネルギーを組織に送達して、組織に関連する疾患または望ましくない病状を治療するマイクロ波照射装置８００のブロック図である。マイクロ波照射装置８００は、マイクロ波エネルギーを送達するためのプローブまたはアンテナ８１０、照射装置回路８２０、ユーザインタフェース８４０、ハンドルまたはハブ８３０、入出力流体冷却／バッファポート８５０、データバスコネクタ８１５、電力供給ラインコネクタ８２５および伝送線路コネクタ８８０を備える。アンテナ８１０は、伝送線路コネクタ８８０を介してマイクロ波信号を受け取る。
【0060】
照射装置回路８２０は、熱電対バッファ、マイクロ波起動スイッチおよび／または装置識別情報を記憶するメモリ（例えば、ＥＥＰＲＯＭ）備えていてもよい。熱電対バッファは、熱電対（例えば、図２０の熱電対２００１、２００２および２００４）の電圧を、干渉に対してあまり敏感でない熱電対電圧を表す緩衝された電圧に変換する。装置識別情報をマイクロ波発生器（例えば、図１０のマイクロ波発生器１０００）によって使用して、適切に識別されたマイクロ波照射装置８００のみをマイクロ波発生器に接続させることができる。また、メモリは、マイクロ波照射装置８００の動作パラメータ（例えば、時間、電力および線量限界）およびマイクロ波照射装置８００の使用に関する情報を記憶していてもよい。使用監視により、本装置の単回使用または特定数の起動を超えるマイクロ波照射装置８００の限定的再利用を可能にしてもよい。
【0061】
マイクロ波起動スイッチは、ユーザインタフェース８４０内の使用者によって選択可能な起動ボタンに接続されている。使用者が起動ボタンを選択すると、マイクロ波起動スイッチが閉じて、マイクロ波信号がマイクロ波照射装置８００のアンテナ８１０に伝播可能になる。照射装置回路８２０は、データバスコネクタ８１５に接続している本マイクロ波焼灼システムの装置と通信することができるように、データバスコネクタ８１５に接続されている。例えば、照射装置回路８２０は、データバスコネクタ８１５に接続されたマイクロ波発生器に装置識別情報を提供してもよい。また、照射装置回路８２０は、電力供給ラインコネクタ８８０を介して電力を受け取ってもよい。
【0062】
入出力冷却／バッファポート８５０は、アンテナ８１０に冷却流体を供給して焼灼体積の大きさおよび形状を制御する流体システム（図示せず）に接続している。冷却流体は、電力の組織への移動を制御するために誘電体を含んでいてもよい。流体システムは、流体貯蔵部、入出力冷却／バッファポート８５０を通して冷却流体を送り出すための流体ポンプ、冷却流体を運ぶための管およびセンサ（図示せず）を備えていてもよい。流体システムの例は、同一出願人による米国特許出願第１２／５６６，２９９号に詳細に記載されており、その開示内容は参照により本明細書に組み込まれる。
【0063】
図９は、高出力マイクロ波信号をマイクロ波照射装置８００に運ぶためのケーブル９００のブロック図である。ケーブル９００は再利用可能なケーブルであってもよく、ケーブル回路９１０、ケーブル回路９１０に接続されたユーザインタフェース９２０、データバスコネクタ９１５ａおよび９１５ｂ、電力供給ラインコネクタ９２５ａおよび９２５ｂならびに伝送線路コネクタ９８０ａおよび９８０ｂを備える。コネクタ９１５ａ、９１５ｂ、９２５ａ、９２５ｂ、９８０ａおよび９８０ｂは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００、マイクロ波照射装置８００、マイクロ波発生器１０００などの本マイクロ波焼灼システムの任意の構成要素の対応するコネクタに接続するように構成されていてもよい。
【0064】
以下に記載するように、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、再利用可能なケーブルの中に組み込まれていてもよい。図８の照射装置回路８２０と同様に、ケーブル回路９１０は、装置識別、熱電対バッファおよび／またはマイクロ波起動を支持してもよい。ケーブル回路９１０は、データバスコネクタ９１５ａおよび９１５ｂを介して、本マイクロ波焼灼システム内の他の構成要素とも通信する。
【0065】
図１０は、本開示の実施形態に係るマイクロ波発生器１０００のブロック図である。マイクロ波発生器１０００は、マイクロ波信号発生器１０１０、マイクロ波信号発生器１０１０の出力に接続されたマイクロ波モジュール増幅器１０２０、マイクロ波モジュール増幅器の出力に接続された伝送線路コネクタ１０８２および図８のマイクロ波照射装置８００に接続された別のケーブルに接続するための同軸ケーブルコネクタアセンブリを備える。マイクロ波信号発生器１０１０は、マイクロ波信号を生成し、その信号は、マイクロ波モジュール増幅器１０２０によって増幅されて、高出力マイクロ波信号５８２が生成される。高出力マイクロ波信号５８２は、伝送線路コネクタ１０８２を介してマイクロ波発生器１０００から出力される。本明細書に記載されているように、伝送線路コネクタ１０８２は、マイクロ波焼灼システムの別の構成要素、例えば、高出力マイクロ波信号５８２をマイクロ波照射装置（例えば、図８のマイクロ波照射装置８００）に運ぶ図９のケーブル９００に接続している。
【0066】
マイクロ波発生器１０００は、本マイクロ波焼灼システムの各種構成要素に電力を供給するための発電システムをさらに備える。発電システムは、電源１０５０、電力調整器１０４０および電力分配回路１０４５を備える。電源１０５０は、主電源コネクタ１０７８（主電源ライン（図示せず）を介して標準的なＡＣ出口に接続していてもよい）からの交流（ＡＣ）を直流（ＤＣ）に変換する。電力調整器１０４０は、電源１０５０からのＤＣ出力を各種電力レベルの調整されたＤＣに変換する。
【0067】
電力調整器１０４０は、マイクロ波信号発生器１０１０、システム制御装置１０６０および電力分配回路１０４５に低電力ＤＣを供給する。次いで、電力分配回路１０４５は、マイクロ波発生器１０００に接続している構成要素に電力を供給するために、電力供給ラインコネクタ１０２５ａおよび１０２５ｂに電力を供給する。特に、電力分配回路１０４５は、電力供給ラインコネクタ１０２５ｂを介して、図７の制御モジュール７００などの外部制御／監視回路に低電力ＤＣを供給する。電力分配回路１０４５は、マイクロ波照射装置８００ならびに電力供給ラインコネクタ１０２５ａおよび１０２５ｂに直接または間接的に接続している本マイクロ波焼灼システムの他の構成要素にも低電力ＤＣを供給する。また、電力調整器１０４０は、伝送線路コネクタ１０８２を介して、高出力マイクロ波信号５８２を出力するマイクロ波モジュール増幅器１０２０にも高出力ＤＣを供給する。
【0068】
システム制御装置１０６０は、マイクロ波モジュール増幅器１０２０からのマイクロ波信号５８２出力の位相、周波数および他のパラメータを制御するために、マイクロ波信号発生器１０１０に接続されている。システム制御装置１０６０は、マイクロ波発生器１０００と本開示のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００を含むマイクロ波発生器１０００に接続している本マイクロ波焼灼システムの各種構成要素との通信を可能にするために、データバスコネクタ１０１５ａおよび１０１５ｂにも接続されている。実施形態では、システム制御装置１０６０は、データバスコネクタ１０１５ａおよび１０１５ｂを通してフィードバック信号を受信して、高出力マイクロ波信号５８２のパラメータを制御してもよい。例えば、図５のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００の制御装置５４０は、例えば、高出力マイクロ波信号５８２のパルス出力、停止または変更により、高出力マイクロ波信号５８２を制御することができる。
【0069】
マイクロ波発生器１０００は、表示装置１０３０および表示装置ドライバ１０３５を含む入出力装置も備える。システム制御装置１０６０は、本マイクロ波焼灼システムの動作に関する情報を表示装置１０３０に表示するように表示装置ドライバ１０３５を制御する。マイクロ波発生器１０００は、足踏みスイッチ制御装置に接続するための足踏みスイッチコネクタ１０７６も備える。システム制御装置１０６０は、マイクロ波発生器１０００からの出力を制御するために、足踏みスイッチ制御装置からコマンド信号を受け取る。
【0070】
マイクロ波発生器１０００には、遠隔温度プローブ（図示せず）に接続するための温度プローブコネクタ１０８０も組み込まれている。以下に記載するように、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００の温度測定値を較正するために、遠隔温度プローブを使用して患者の体温を測定して患者の体温測定値を得てもよい。また、温度プローブコネクタ１０８０は、Ｔ型熱電対配置を許容するものであってもよい。マイクロ波温度測定回路網モジュール５００の制御装置は、放射計出力をＴ型信号に調整することができる。この特徴を使用して、前面パネル７セグ表示装置を介して使用者に温度を表示することができる。
【0071】
図１１Ａ〜図１１Ｃおよび図１２Ａ〜図１２Ｄは、図５のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００を用いる本マイクロ波焼灼システムの異なる例示的構成を示す。図１１Ａ〜図１１Ｃおよび図１２Ａ〜図１２Ｄに示すように、温度測定回路網モジュール５００は、マイクロ波発生器１０００とマイクロ波照射装置８００との間にマイクロ波伝送経路に沿って配置されている。
【0072】
図１１Ａ〜図ｌｌＣは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００が、互いに接続可能な３〜４つの別個の構成要素に分割されたマイクロ波焼灼システム内の独立型構成要素である構成を示す。図１１Ａでは、マイクロ波温度測定回路網モジュールは、マイクロ波照射装置とマイクロ波発生器モジュールとの間に接続可能である。例えば、マイクロ波発生器１０００およびマイクロ波温度測定回路網モジュール５００が携帯可能なマイクロ波焼灼システムのハンドル内に配置され、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００がマイクロ波照射装置８００とマイクロ波発生器１０００との間に接続されるようにマイクロ波照射装置８００がハンドルに接続可能であり、かつマイクロ波温度測定回路網モジュール５００がハンドルに接続可能である携帯可能なマイクロ波焼灼システムに、図１１Ａの構成を使用してもよい。
【0073】
図１１Ｂでは、マイクロ波温度測定回路網モジュールは、ケーブル９００の遠位端およびマイクロ波照射装置８００に接続可能である。図１１Ｃでは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、ケーブル９００の近位端およびマイクロ波発生器１０００に接続可能である。
【0074】
図１２Ａ〜図１２Ｄは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００が、互いに接続可能な２または３つの別個の構成要素に分割されたマイクロ波焼灼システムの構成要素のいずれか１つの中に組み込まれている構成を示す。図１２Ａでは、測定モジュール６００も、マイクロ波照射装置８００とマイクロ波発生器１０００との間に接続可能な独立型構成要素である。図１２Ａでは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、マイクロ波照射装置８００の中に組み込まれている。図１２Ｂでは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、マイクロ波発生器１０００の中に組み込まれている。図１２Ｃでは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、ケーブル９００の遠位端においてコネクタアセンブリの中に組み込まれている。図１２Ｄでは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、ケーブル９００の近位端においてコネクタアセンブリの中に組み込まれている。
【0075】
図１３は、図５に示されているマイクロ波温度測定回路網モジュール５００の回路が組み込まれた独立型マイクロ波温度測定回路網モジュール１３００の斜視図である。マイクロ波温度測定回路網モジュール１３００は、図１１Ａおよび図１１Ｃの構成に示されているようにマイクロ波発生器１０００に直接接続するため、または図１１Ｂの構成に示されているようにマイクロ波ケーブル９００に接続するために、その近位端にコネクタ１３２０を備える。
【0076】
第１のコネクタには、温度測定回路網モジュール１３００とマイクロ波発生器との通信を可能にするために、同軸コネクタ１３２２と同心のデータバスコネクタ１３２４が組み込まれている。温度測定回路網モジュール１３００は、表示装置１３５０と、セレクタ１３３０およびスイッチ１３６０を有するユーザインタフェースとを備える。表示装置１３５０は、例えば、図５の温度測定回路網モジュール５００の放射計５１０によって得られた熱測定値に基づいて制御装置５４０によって決定される温度を表示する。
【0077】
セレクタ１３３０は、使用者にマイクロ波電力を停止する温度限界を選択させることができる摘み１３３５を備える。制御装置５４０は、測定された温度が選択された温度限界を超えていると制御装置５４０が判定した場合に停止させるメッセージをマイクロ波発生器１０００に送ってもよい。あるいは、ケーブルは、測定された温度が選択された温度限界を超えていると制御装置５４０が判定した場合に開かれる、マイクロ波照射装置からのマイクロ波電力を遮断するスイッチ（図示せず）を備えていてもよい。スイッチ１３６０により、使用者は、マイクロ波照射装置８００への電力を供給または停止することができる。いくつかの実施形態では、表示装置１３５０は、タッチスクリーンディスプレイであり、セレクタ１３３０および／またはスイッチ１３６０は、タッチスクリーンディスプレイにおいて「仮想」のセレクタおよび／またはスイッチとして実装されている。他の実施形態では、セレクタ１３３０および／またはスイッチ１３６０は、物理的セレクタおよび／またはスイッチとして実装されている。
【0078】
マイクロ波温度測定回路網モジュール１３００は、図１１Ａおよび図１１Ｂの構成に示されているようにマイクロ波照射装置８００に直接接続するため、または図１１Ｃの構成に示されているようにマイクロ波ケーブル９００に接続するために、その遠位端に別のコネクタ１３１０を備える。コネクタ１３２０と同様に、コネクタ１３１０には、温度測定回路網モジュール１３００とマイクロ波照射装置８００との通信を可能にするために、同軸のコネクタ１３１２を有する同心のデータバスコネクタ１３１４が組み込まれている。コネクタ１３１０は、捩じることでマイクロ波照射装置との接続を確立または解除するように構成されていてもよい。
【0079】
図１４は、図５のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００がマイクロ波照射装置のコネクタアセンブリ１４０５の中に組み込まれたマイクロ波照射装置１４００の斜視図である。コネクタアセンブリ１４０５は、放射部１４１０を有するプローブ１４０８に接続されている。図１３と同様に、コネクタアセンブリ１４０５は、温度測定値を表示する表示装置と、使用者が温度設定値を変更し、かつプローブ１４０８に供給されているマイクロ波信号を停止して放射部１４１０にマイクロ波放射線を放射させることができるユーザインタフェースとを備える。
【0080】
コネクタアセンブリ１４０５は、図１２Ａの構成に示されているようにマイクロ波発生器１０００に直接接続するか、マイクロ波ケーブルを介してマイクロ波発生器１０００に接続するように構成された、図１３のコネクタ１３１０および１３２０と同様のコネクタ１４０６を備える。温度測定データを、コネクタ１４０６のデータバスを介してマイクロ波発生器１０００に伝送してもよい。
【0081】
図１５は、同軸ケーブル１５０１と、同軸ケーブル１５０１の近位端に取り付けられたコネクタアセンブリ１５０３と、同軸ケーブル１５０１の遠位端に取り付けられたコネクタアセンブリ１５０５とを備えたマイクロ波ケーブルアセンブリ１５００の斜視図である。本実施形態では、図５のマイクロ波温度測定回路網モジュール５００の構成要素は、図１２Ｃの構成に示されているように、マイクロ波ケーブルアセンブリ１５００のコネクタアセンブリ１５０５内に組み込まれている。図１４のコネクタアセンブリ１４０５と同様に、コネクタアセンブリ１５０５は、温度測定値を表示する表示装置と、使用者に温度設定値を変更させ、かつマイクロ波ケーブルアセンブリ１５００によって運ばれているマイクロ波信号を停止することができるユーザインタフェースとを備える。
【0082】
あるいは、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００は、図１２Ｄの構成に示されているように、マイクロ波ケーブルアセンブリ１５００の近位端においてコネクタアセンブリ１５０３の中に組み込まれていてもよい。コネクタアセンブリ１５０３および１５０５はそれぞれ、図１３のコネクタ１３１０および１３２０と同様に、コネクタ１５０４および１５０６を備える。図１２Ｃの構成に示されているように、コネクタ１５０４は、マイクロ波発生器１０００に直接接続するように構成されており、コネクタ１５０６は、マイクロ波照射装置８００に直接接続するように構成されている。この構成では、温度データを、コネクタ１５０４のデータバスを介してマイクロ波発生器１０００に伝送してもよい。
【0083】
マイクロ波温度測定回路網モジュール５００の構成要素をマイクロ波ケーブルに組み込むことにより、本開示に係るマイクロ波温度測定を組み込むためにマイクロ波照射装置８００および／またはマイクロ波発生器１０００に対して行わなければならない変更の数を最小限に抑える。場合によっては、システム制御装置１０６０の回路は、マイクロ波温度測定回路網モジュール５００の制御装置５４０から温度データを受け取るように単に再構成されている。
【0084】
図１６Ａ〜図１６Ｄおよび図１７Ａ〜図１７Ｄは、図６および図７に示すようなマイクロ波温度測定回路網モジュールの分割構成を用いて、本マイクロ波焼灼システムの異なる例示的構成を示す。図１６Ａ〜図１６Ｄおよび図１７Ａ〜図１７Ｄに示すように、測定モジュール６００は、マイクロ波発生器１０００とマイクロ波照射装置８００との間にマイクロ波伝送線路に沿って配置されている。制御モジュール７００は、本焼灼システム内の任意の場所に配置されていてもよい。
【0085】
図１６Ａ〜図１６Ｄは、制御モジュール７００がマイクロ波発生器１０００の中に組み込まれ、かつ本マイクロ波焼灼システムが互いに接続可能な３つの別個の構成要素に分割されている構成を示す。図１２Ａでは、測定モジュール６００は、ケーブル９００の遠位端の中に組み込まれている。図１２Ｂでは、測定モジュール６００は、マイクロ波照射装置８００の中に組み込まれている。図１２Ｃでは、測定モジュール６００は、ケーブル９００の近位端に接続可能である。図１２Ｄでは、測定モジュールは、マイクロ波照射装置とマイクロ波発生器との間に接続されている独立型構成要素である。例えば、マイクロ波発生器１０００および制御モジュール７００が携帯可能なマイクロ波焼灼システムのハンドル内に配置され、測定モジュール６００がマイクロ波照射装置８００とマイクロ波発生器１０００との間に接続されるようにマイクロ波照射装置８００がハンドルに接続可能であり、かつ測定モジュール６００がハンドルに接続可能である携帯可能なマイクロ波焼灼システムに、図１２Ｄの構成を使用してもよい。
【0086】
図１７Ａ〜図１７Ｄは、制御モジュール７００がマイクロ波発生器１０００に接続可能な独立型構成要素であり、かつ本マイクロ波焼灼システムが互いに接続可能な３または４つの別個の構成要素に分割されている構成を示す。図１７Ａでは、測定モジュール６００も、マイクロ波照射装置８００とマイクロ波発生器１０００との間に接続可能な独立型構成要素である。構成１７Ｂでは、測定モジュール６００は、マイクロ波照射装置８００の中に組み込まれている。図１７Ｃでは、測定モジュール６００は、ケーブル９００の遠位端の中に組み込まれている。
【0087】
図１７Ｄでは、本マイクロ波焼灼システムは、３つの別個の構成要素に分割されており、測定モジュール６００は、マイクロ波発生器１０００の中に組み込まれている。図１６Ｄの構成のように、例えば、マイクロ波発生器１０００および測定モジュール６００が携帯可能なマイクロ波焼灼システムのハンドル内に配置され、マイクロ波照射装置８００が測定モジュール６００に接続されるようにマイクロ波照射装置８００がハンドルに接続可能であり、かつ制御モジュール７００がマイクロ波発生器１０００に接続されるように制御モジュール７００がハンドルに接続可能である携帯可能なマイクロ波焼灼システムに、図１７Ｄの構成を使用してもよい。
【0088】
図１８は、本開示の他の実施形態に係るマイクロ波焼灼システム１８００のブロック図である。マイクロ波焼灼システム１８００は、マイクロ波焼灼システム１８００が、制御装置１５０によって制御されるフィルタ１８０２および１８０４を備えること以外は、図１に示すマイクロ波焼灼システム１００と同じである。第１のフィルタ１８０２は、高出力マイクロ波信号から雑音温度信号を分離してもよい。次いで、第２のフィルタ１８０４は、第１のフィルタ１８０２からの雑音温度出力から組織の雑音温度および伝送網の雑音温度を抽出してもよい。
【0089】
制御装置１５０は、同調信号、ゲート信号および他の信号を供給して、結合回路によって供給されたマイクロ波エネルギーを第１のフィルタ１８０２および第２のフィルタ１８０４により濾過する方法を制御してもよい。第２のフィルタ１８０４は、伝送網の雑音温度または組織の雑音温度の成分を分離するようにさらに構成されていてもよい。例えば、伝送網の異なる構成要素は、異なる周波数で雑音温度信号を生成することがある。第２のフィルタ１８０４は、周波数領域技術を用い、異なる周波数で雑音温度信号を分析して、伝送網の各構成要素の雑音温度を決定してもよい。あるいは、第２のフィルタ１８０４は、時間領域および周波数領域技術の両方を用いて、マイクロ波発生器１０００などの意図的な発生源からの雑音温度信号をケーブルおよび組織などの他の雑音温度源から分離してもよい。
【0090】
いくつかの状況では、伝送網（例えば、マイクロ波照射装置および／またはマイクロ波ケーブル）からの雑音温度により、組織の雑音温度が不明瞭になることがある。この問題を克服するために、オフ期間にマイクロ波発生器からのマイクロ波信号出力をオフにしてもよく、放射計は、このオフ期間中の温度を監視してもよい。さらに、周囲の冷却または能動的流体冷却のいずれかにより、伝送網を急激に冷却して、伝送網の雑音温度および組織の雑音温度の分離を可能にしてもよい。伝送網を十分に冷却したら、放射計により温度を測定して、組織の雑音温度を得てもよい。
【0091】
図１９のグラフ１９００によって示されているように、マイクロ波エネルギー源を時間ｔ＝０でオフにした場合、雑音温度１９０２の大きさは、伝送網の雑音温度と組織の雑音温度との組み合わせを表す。周囲冷却または能動的流体冷却のいずれかにより伝送網が冷却されると、雑音温度の大きさは、雑音温度曲線の急な傾き１９０４によって示されているように急激に低下する。伝送網を、雑音温度の大きさが組織温度１９０６を表す点（例えば、時間ｔ＝ｔ１）まで冷却したら、放射計により雑音温度を測定して、組織のみの雑音温度を得てもよい。温度曲線の穏やかな傾き１９０８は、組織温度の低下によるものである。次いで、マイクロ波信号を時間ｔ＝ｔ２で再びオンにし、組織治療を継続する。
【0092】
図１９のグラフ１９００において、例えば、時間ｔ＝０で発生器をオフにした直後に最初に温度を測定して、伝送網の雑音温度を得てもよい。この温度は、伝送網の温度と組織の温度を組み合わせた温度を表す。従って、伝送網の温度を得るために、発生器がオフになった直後に測定された雑音温度から組織の雑音温度を減算する。
【0093】
マイクロ波信号をオンにする代わりに、冷却流体の流れを時間ｔ＝ｔ２で停止することができ、その結果、冷却流体の温度が組織温度に上昇するにつれて、雑音温度曲線が上昇する。冷却流体温度が組織温度に等しくなるにつれて、冷却流体温度のこの上昇はロールオフする。このロールオフ点をさらに使用して組織温度を示してもよい。次いで、所望の温度が達成されていない場合は、マイクロ波信号を時間ｔ＝ｔ３でオンにする。
【0094】
図２０は、温度の大きさが組織温度を表す時点を決定するために伝送網および冷却流体の温度測定を行うための熱電対を有するマイクロ波照射装置２０００を示す。マイクロ波照射装置２０００は、流体入口２０１１に入る流体の温度を測定するための流体入口２０１１に位置する第１の熱電対２００１と、流体出口２０１２から出る流体の温度を測定するための流体出口２０１２に位置する第２の熱電対２００２とを備える。マイクロ波照射装置２０００は、伝送網の代表的な温度を正確に測定するのに適した伝送網に沿った位置に位置する第３の熱電対２００４をさらに備える。例えば、第３の熱電対２００４は、伝送網の同軸ケーブルコネクタ２００６の内側導体２００８の近くに位置していてもよい。
【0095】
放射計によって測定された雑音温度が組織温度を表す時点を決定するために、熱電対２００１、２００２および２００４を使用して冷却流体および伝送網の温度を測定する。制御装置が放射計測定値を制御することができるように、これらの組織測定値を、通信インタフェース２０１０を介して、マイクロ波照射装置２０００の外部にある制御装置（例えば、図５の温度測定回路網モジュール５００の制御装置５４０）に伝送してもよい。具体的には、制御装置が、熱電対２００４によって測定された伝送網の温度が熱電対２００１および２００２によって測定された冷却流体の温度と同じであると判定した場合、伝送網は雑音温度にもはや寄与していない。この時点では、組織が雑音温度に寄与する唯一のものになり得る。従って、制御装置は、この時点で雑音温度を測定して組織の雑音温度を得るように、放射計を制御してもよい。
【0096】
あるいは、制御装置は、入口を通って流れる冷却流体の温度（熱電対２００１により測定）が出口を通って流れる冷却流体の温度（熱電対２００２により測定）と同じである場合に、雑音温度を測定して組織温度測定値を得るように、放射計を制御してもよい。別の代替形態としては、制御装置は、温度曲線の傾きが、以下により詳細に記載するように、図１９の組織温度の傾き１９０８に安定した場合に雑音温度を測定するように、放射計を制御してもよい。
【0097】
図２１Ａおよび図２１Ｂは、本開示の他の実施形態に係る放射計による温度測定のタイミングを示すタイミング図である。図２１Ａに示すように、マイクロ波発生器によって生成されたマイクロ波信号は、可変的平均電力を得るための最大の発生器ピーク電力におけるパルス幅変調（ＰＷＭ）信号２１０２であってもよい。オフ時間２１０４とオン時間２１０６との合計は、ＰＷＭ信号２１０２の期間ｔを定め、ここでは、１／ｔはＰＷＭ変調周波数であり、１ｋＨｚ〜１００ｋＨｚであってもよく、マイクロ波周波数は、５００ＭＨｚ〜１５ＧＨｚである。ＰＷＭ信号２１０２の平均出力Ｐ平均は、以下の方程式によって与えられる：【数1】
（式中、Ｐ最大は最大ピーク電力である）
【0098】
図２１Ｂに示すように、本開示に係る放射計は、マイクロ波ＰＷＭ信号のオフ時間中に本マイクロ波焼灼システムの雑音温度をサンプリング２１０８してもよい。ＰＷＭ信号のデューティサイクルが１００％未満である限り、放射計が雑音温度をサンプリングできるオフ時間が存在する。オフ時間中に雑音温度をサンプリングすることにより、雑音温度信号を高出力マイクロ波治療エネルギーから分離する。
【0099】
他の実施形態では、本マイクロ波焼灼システムは、長期間（例えば、５〜６０秒）にわたってマイクロ波信号をさらにオフにしてもよく、それにより、本システムを（能動的または受動的に）冷却し、かつ図１９において上に記載したように、放射計に時間の関数である雑音温度曲線を測定させることができる。これは、図２２のタイミング図によって示されている。図１８の制御装置１５０は、第１の期間２２１２にパルス幅変調（ＰＷＭ）信号であるマイクロ波信号２２０２を生成し、かつ第２の期間２２２２にＰＷＭ信号をオフにするようにマイクロ波発生器１４０を制御するように構成されていてもよい。同時に、制御装置１５０またはマイクロ波発生器１４０の制御装置は、ＰＷＭ信号のデューティサイクルを変更して出力を変更してもよい。また、制御装置１５０は、マイクロ波信号２２０２に沿って各種時点２２０４で雑音温度を測定して雑音温度測定信号２２０６を得るように、放射計１６０を制御してもよい。
【0100】
具体的には、制御装置１５０は、本マイクロ波焼灼システムの最大の雑音温度を監視するためにＰＷＭオフ期間２２１４中に雑音温度を測定するように、放射計１６０を制御してもよい。ＰＷＭオフ期間２２０４の雑音温度測定値２２１６を、制御装置（例えば、マイクロ波発生器からのマイクロ波信号出力を制御することができる図５および図７の制御装置５４０）へのフィードバックとして提供してもよい。例えば、制御装置５４０によって雑音温度測定値２２１６を使用して、ＰＷＭ信号２２１２のデューティサイクルを減少させ、伝送網の温度を許容される限界内に維持して、本マイクロ波焼灼システムの適切な冷却を保証するか誤用を防止してもよい。制御装置５４０は、雑音温度測定値２２１６のいずれかが所定の雑音温度値よりも大きいか否かを判定してもよく、雑音温度測定値２２１６のいずれかが所定の雑音温度値よりも大きい場合に、マイクロ波信号をオフにするかＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを減少させてもよい。
【0101】
さらに、放射計は、マイクロ波信号をオフにした第２の期間２２２２の間に、より長い連続的なサンプル２２２４を取得するように構成されていてもよい。得られた雑音温度曲線２２２６を使用して、上記のように伝送網の冷却挙動を観察することにより、各種雑音温度寄与成分を分離する（例えば、伝送網の雑音温度を組織の雑音温度から分離する）ことができる。マイクロ波ＰＷＭ信号を周期的に、例えば、３０〜６０秒ごとにオフにすることにより、システム制御装置は、伝送網および本マイクロ波焼灼システムの他の構成要素を冷却することができ、本システムの制御装置は、伝送網および本システムの他の構成要素の温度を好適な温度レベルに低下させるために、ＰＷＭ信号のデューティサイクルの低下を回避することができる。
【0102】
マイクロ波信号がオフにする期間２２２２がＰＷＭオン時間２２１２の僅かな割合である場合、マイクロ波照射装置に送達される平均電力を高くするか、発生器増幅器の最大出力近くに維持してもよい。例えば、最大出力Ｐ最大が１１５Ｗであり、マイクロ波信号オフ時間が１分ごとに５秒間であり、９５％のデューティサイクルを有するＰＷＭ信号を用いた場合、発生器からの平均マイクロ波出力Ｐは、【数2】
【0103】
図２３は、本開示の一実施形態に係るマイクロ波焼灼システムの動作方法２３００のフローチャートである。方法２３００を工程２３０１で開始した後、工程２３０２では、伝送網を介してＰＷＭマイクロ波信号をアンテナに供給する。ＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを調整するマイクロ波発生器によってＰＷＭマイクロ波信号を生成して、所望の組織効果を達成する電力レベルを得てもよい。工程２３０４では、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に、放射計によって雑音温度を測定する。工程２３０６では、ＰＷＭマイクロ波信号がアンテナに供給される第１の所定の期間が経過したか否かを判定する。第１の所定の期間が経過したら、方法２３００は、工程２３０２でＰＷＭ信号を供給し続け、工程２３０４で雑音温度を測定する。
【0104】
第１の所定の期間が経過したら、工程２３０８では、ＰＷＭマイクロ波信号をオフにし、それにより、本マイクロ波焼灼システムの流体冷却システムからの冷却流体により伝送網を急激に冷却させる。工程２３１０では、例えば、図２０の熱電対２００１、２００２および２００４によって冷却流体の温度および伝送網の温度を測定する。工程２３１２では、冷却流体の温度が伝送網の温度と等しいまたは実質的に等しいか否かを判定する。冷却流体の温度が伝送網の温度と等しいまたは実質的に等しいと判定した場合、工程２３１３で、冷却流体の流れを停止する。ラジエータまたはアンテナの周りに流れる冷却流体により、組織の雑音温度の測定が難しくなることがある。冷却流体の流れを停止することにより、組織によりラジエータまたは焼灼区域の周りの停滞した冷却流体を加熱し、冷却流体を組織の温度またはほぼその温度にし、このようにして、組織の雑音温度測定値の精度を高めることができる。冷却流体の流れを停止した後の冷却流体の温度曲線（例えば、傾きおよび最大のロールオフ）を使用して、組織治療の完了の成功を示してもよい。
【0105】
工程２３１３で冷却流体の流れを停止した後に、工程２３１４では、雑音温度を放射計によって測定し、それを組織の雑音温度として記録する。冷却流体の流れを停止してから所定量の時間が経過した後に、組織の雑音温度を放射計によって測定してもよい。
【0106】
工程２３１６では、方法２３００は、第２の所定の期間が経過するまで待機した後、工程２３０２に戻ってＰＷＭマイクロ波信号をオンにする。第２の所定の期間は、５秒〜５分の範囲であってもよい。第２の所定の期間は、焼灼処置の間に変動してもよい。例えば、比較的短い（例えば５秒間の）第２の所定の期間を焼灼処置の間に数回使用して、処置時間を著しく遅延させることなく組織治療のリアルタイムな進行を監視してもよい。より短い期間では、流体の流れを僅かな時間にわたって停止してもよく、あるいは、流体の流れを全く停止しなくてもよい。次いで、第２の所定の期間を長くてして（例えば５分間）、焼灼処置後に焼灼処置の最終的な結果を監視し、かつ所望の結果が達成されたことを確認してもよい。より長い期間では、流体の流れを停止してもよい。
【0107】
図２４は、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に放射計によって得られた雑音温度測定値を用いる伝送網の温度の制御方法２３００と共に用いることができる、本開示の一実施形態に係るマイクロ波焼灼システムの動作方法２４００のフローチャートである。図２３の方法２３００と同様に、工程２３０２では、伝送網を介して所望のパルス幅を有するＰＷＭマイクロ波信号をアンテナに供給する。
【0108】
工程２３０４では、ＰＷＭマイクロ波信号のオフ期間中に、雑音温度を放射計によって測定する。工程２４０２では、放射計によって測定された雑音温度が所定の最大温度よりも大きいか否かを判定する。大きい場合、工程２４０４でＰＷＭマイクロ波信号のデューティサイクルを低下させて伝送網の温度を低下させる。あるいは、伝送網の冷却速度を増加させるために、冷却流体の流量を増加させてもよい。別の代替形態としては、所定の期間にわたってＰＷＭマイクロ波信号をオフにして、伝送網を冷却してもよい。
【0109】
図２５は、本開示の別の実施形態に係るマイクロ波焼灼システムの動作方法のフローチャートである。方法２５００を工程２５０１で開始した後、工程２３０２では、伝送網を介してマイクロ波信号をアンテナに供給する。工程２５０６では、マイクロ波信号がアンテナに供給される第１の所定の期間が経過したか否かを判定する。第１の所定の期間は、処置の種類に応じて３秒間〜１分間またはそれ以上の範囲であってもよい。例えば、大きな体積の焼灼のために、第１の所定の期間はより長くなり、腎臓の脱神経では、この期間はより長くなる。第１の所定の期間が経過していない場合、工程２５０２では、方法２５００は、マイクロ波信号をアンテナに供給し続ける。
【0110】
第１の所定の期間が経過したら、工程２５０６でマイクロ波信号をオフにし、工程２５０８で第１の雑音温度を放射計によって測定する。マイクロ波信号をオフにした直後に第１の雑音温度を測定してもよい。工程２５１０では、雑音温度を測定し、雑音温度曲線の傾きを計算する。現在の雑音温度および１つ以上の過去の雑音温度測定値に基づいて、雑音温度曲線の傾きを計算してもよい。工程２５１２では、計算した傾きが、伝送網の温度が基準温度に達し、かつ測定された雑音温度が組織の雑音温度を表すことを示す所定の傾きにおよそ等しいか否かを判定する。計算した傾きが所定の傾きにおよそ等しくないと判定した場合、方法２５００は、工程２５１０に戻って雑音温度を測定し、かつ雑音温度曲線の傾きを計算する。
【0111】
工程２５１２において計算した傾きが所定の傾きにおよそ等しいと判定した場合、工程２５１４では、放射計は、第２の雑音温度を測定し、それを組織の雑音温度として記録する。工程２５１６では、第１の雑音温度と第２の雑音温度との差を決定し、伝送網の雑音温度として記録する。次いで、工程２５１８では、方法２５００は、第２の所定の期間が経過するまで待機した後、工程２５０２に戻ってマイクロ波信号をオンにする。
【0112】
上記マイクロ波焼灼システムは、マイクロ波エネルギーを組織の中に導くことができ、様々な処置および手術での使用に適し得る。上記マイクロ波焼灼システムは、用手補助内視鏡および腹腔鏡下手術での利用に適し得る。上記マイクロ波焼灼システムは、観血的手術用途での利用にも適し得る。
【0113】
本開示の態様は、肺の癌および他の疾患の治療に使用される上記マイクロ波焼灼システムの使用である。肺疾患、特に喫煙による癌の位置および治療は、肺の通路の蛇行した経路、大きさが極めて小さい末梢の肺の通路ならびに診断手順および治療中の肺の動きによりかなり難しい。
【0114】
癌性もしくは罹患した標的組織を特定する有効な方法には、コンピュータ断層撮影（ＣＴ）画像の使用が含まれる。診断ツールとしてのＣＴの使用は、現在では日常的なものになっており、現在では、ＣＴの結果は、病変部の大きさおよび位置に関する実施者に利用可能な主要な情報源であることが非常に多い。この情報は、生検などの手術処置の計画の際に実施者によって使用されるが、通常、処置の開始前に実施者の能力が及ぶ範囲で記憶しなければならない「オフライン」情報としてのみ利用可能である。以下に記載するように、標的情報の入力に加えて、ＣＴデータとの一体化によりシステムの機能性を高め、それにより、特定された標的への経路計画を非常に容易にし、かつ標的位置まで体内を誘導する能力が得られる。
【0115】
本開示に係るマイクロ波焼灼システムは、患者の体内の解剖学的管腔網内の標的位置への経路を構築、選択および提示するためのシステムおよび方法を用いてもよい。これらのシステムおよび方法は、特に限定されるものではないが、肺の気管支気道を通したプローブ（例えば、図８のマイクロ波照射装置８００）の案内およびナビゲーションに適している。これらのシステムおよび方法は、術前および手術構成要素を含む。術前構成要素はナビゲーション前に行い、経路計画として分類することができる。手術構成要素はナビゲーション中に行い、ナビゲーションとして分類することができる。
【0116】
経路計画段階は、同一出願人による「マイクロ波エネルギー送達装置およびシステム(MICROWAVE ENERGY-DELIVERY DEVICE AND SYSTEM)」という発明の名称の米国出願第１３／８３４，５８１号および「経路計画システムおよび方法(PATHWAY PLANNING SYSTEM AND METHOD)」という発明の名称の米国出願第１３／８３８，８０５号により詳細に記載されている３つの一般的な工程を含み、それらの各開示内容全体が参照により本明細書に組み込まれる。第１の工程では、気管支樹（「ＢＴ」）の３次元モデルを生成および表示するためにソフトウェアグラフィカルインタフェースを使用する。第２の工程では、所望であれば、自動的、半自動的または手動で、ＢＴ上の経路を選択するためにソフトウェアグラフィカルインタフェースを使用する。第３の工程では、経路を、表示装置上に可視化することができる経路に沿ったウェイポイントのセットに自動的に領域分割する。気道は、分岐状の解剖学管腔網の一例として本明細書に使用されていることを理解されたい。従って、「ＢＴ」という用語は、任意のそのような管腔網を表すように一般的な意味で使用されており、頭文字の「ＢＴ」は他の管腔網には当てはまらないが、気管支樹のみを指すものとして解釈されるべきではない。
【0117】
ＣＴ画像内の気管と標的とを繋ぐＢＴ内の経路を特定したら、システムは、ナビゲーション段階で、マイクロ波照射装置８００により標的に到達しなければならない。そのようなシステムの１つは、同一出願人による「マイクロ波エネルギー送達装置およびシステム(MICROWAVE ENERGY-DELIVERY DEVICE AND SYSTEM)」という発明の名称の米国出願第１３／８３４，５８１号に記載されている。
【0118】
経路計画段階のためにＣＴデータ（画像）を用いてもよい。また、ナビゲーション段階のためにＣＴデータを使用してもよい。ＣＴデータは、その独自の座標系を有するため、他の画像診断法にも好ましい。２つの座標系すなわちＣＴの座標系と患者の座標系との一致は、レジストレーションとして一般に知られている。レジストレーションは一般に、ＣＴ内および体表または体内の両方の位置を特定し、かつ両系のそれらの座標を測定することにより行われる。
【0119】
ＣＴデータおよび患者データの手動および半自動化レジストレーションの方法は、例えば、コヴィディエン社に譲渡された米国特許第７，２３３，８２０号に詳細に記載されており、それらは参照により本明細書に組み込まれる。特に手動のレジストレーションは、なお実行可能なレジストレーション方法ではあるが、やや時間がかかり、複数の工程を必要とするため、多くの実施者は、本開示のソフトウェアにより使用可能な自動レジストレーション技術に依存している。但し、場合によっては、特にＣＴ画像データの質が十分でない場合は、なお手動レジストレーションを行うことが必要であったり望ましかったりすることがある。
【0120】
上で参照したレジストレーション技術の手動基準点の指定は非常に効果的であるが、サンプリングされる点の数の選択が必ず精度と効率とのトレードオフを表すため、自動レジストレーションが、大部分の処置での標準となっている。同様に、半自動化技術は実行可能な選択肢であるが、それはカテーテルアセンブリの遠位端に画像センサを必要とし、それによりシステムの複雑さがさらに増してしまう。
【0121】
自動レジストレーション技術については、同一出願人による米国特許出願第１２／７８０，６７８号に詳細に記載されており、その開示内容が参照により本明細書に組み込まれる。分岐構造のデジタル画像と分岐構造内部のセンサの位置を表すリアルタイムインジケータとの自動レジストレーションは、その構造内部のデジタル画像を「ペイントする」ためにセンサを用いることにより達成される。十分な位置データが収集されると、レジストレーションが達成される。レジストレーションは、分岐構造を通るナビゲーションにより、さらなる位置データが必ず収集され、その結果、レジストレーションが絶えず精製されるという意味で「自動」である。
【0122】
標的を特定し、経路を計画し、位置特定可能ガイドを含む気管支鏡を患者の体内に挿入し、かつ仮想の気管支鏡画像を気管支鏡の画像データと共に記録すると、本システムは、位置センサを患者の肺の中の標的に誘導する準備が整った状態となる。コンピュータは、標的を特定し、かつ仮想の気管支鏡画像を示す表示装置を提供する。但し、表示装置上の各画像中に現れるのは、位置センサの現在の位置から標的までの経路である。これは、上記経路計画段階中に確立された経路である。この経路は、例えば色のついた線によって表してもよい。また、各画像中に現れるのは、位置特定可能ガイドおよび位置センサの遠位先端部の表示である。位置特定可能ガイドを前進させ、かつ経路を辿ることにより、医学の専門家は、標的までの特定された経路を辿ることができる。時には、上に記載したように、仮想の気管支鏡画像では、特に肺の胸膜境界において十分な精度が得られないことがある。そのような場合、使用者は、より詳細な情報を得るために、ＣＴ画像に頼ることができる。
【0123】
位置センサの位置をリアルタイムで測定するが、標的位置が見つからないことがある。標的は一般に、センサによってリアルタイムで監視される患者の体の位置に対して固定されているものとみなされている。しかし、呼吸により生じる周期的な胸の動きにより、ナビゲーション精度が低下することがある。この周期的な動きの影響を低下させるために、患者の呼吸数を減少させるなどの予防措置を行うことが好ましい。また、周期的な動きの極値でのみ測定がなされるように、位置センサの位置を選択的にサンプリングすることにより、ソフトウェアにおいてこの動きを補償してもよい。患者の胸の動きの極値は、呼吸周期中のセンサの周期的な変位により、容易に特定することができる。最大呼気状態は典型的に、最大吸気状態よりも呼吸周期の比較的大きな割合において安定なままであるという理由から、測定のために最大呼気状態を使用することが好ましいと思われる。あるいは、連続的に測定を行い、さらなる処理によって周期的な変動を排除または減少させることができる。この処理としては、測定値に低周波フィルタを適用することが挙げられる。あるいは、周期的な動きの期間における測定値の平均値を計算および使用して、標的位置の近似値を求める支援をしてもよい。これは、ＣＴデータが完全に息を吸い込んだか吐き出した位置で患者から得られたものであるか否かを知ることにより支援され、これを比較および位置決めのより良好な近似値のために使用することができる。
【0124】
位置特定可能ガイドを標的位置まで上手く誘導したら、位置特定可能ガイドを取り出し、ツール（例えば、マイクロ波照射装置８００）を標的位置に導くために、シースをガイドチャネルとして配置したままにすることが好ましい。
【0125】
本開示の計画／ナビゲーションシステムおよび方法は、マーカーを用いてもよい。これらのマーカーを、経過観察分析および監視のために腫瘍および病変部を特定するなどの様々な目的のために使用して、生検サンプリングが行われた位置を特定し、かつ治療用途のために腫瘍または病変部の境界または中心を特定することができる。本開示の範囲に含まれる他の使用は、当業者によって理解されるであろう。マーカーの配置は、ビデオ補助下胸腔鏡外科手術（ＶＡＴＳ）肺処置を行う場合に特に有用であり得、それについては、同一出願人による米国出願第１３／８３４，５８１号により詳細に記載されており、その開示内容は参照により本明細書に組み込まれる。
【0126】
埋め込まれたマーカーの位置を特定するために、蛍光透視法、超音波および他の画像診断法などの様々な技術を用いることができる。マーカーに例えば金で作られた放射線不透過性部分が設けられている場合に、これらは特に有用である。特に、ＶＡＴＳ処置により、特に肺の胸膜境界近くの組織の治療を行う際に、それのみで視覚的識別が得られる。可視化を向上させるためのいくつかの技術では、インクまたは染料を患者に注射して、マーカーの位置を特定する。これらの技術は、むしろ視覚的識別のための臨床医によるその場限りの解決になりやすい。
【0127】
最初の問題として、特に変色した罹患した肺組織において任意の種類のマーカーを可視化することは非常に難しい可能性がある。さらに、従来の染料および溶液は、特にマーカーが外科手術の数時間以上前に配置された場合に、あまりに広く拡散するため、特定される組織の正確な特定ができなくなる傾向がある。通常は、染料の注射から７２時間以内に外科手術に着手しなければならない。他方、金基準マーカーは、不可能ではないとしても、画像診断法を全く行わずに特定することは難しく、時として、現在利用可能な基準マーカーは時間と共に、あるいは患者の咳によっても移動する傾向がある。
【0128】
同一出願人による米国出願第１３／８３４，５８１号（その開示内容は参照により本明細書に組み込まれる）に記載されているように、本計画／ナビゲーションシステムおよび方法の一実施形態は、上記マイクロ波焼灼システムを用いて組織を経皮的に焼灼することができるように、ＶＡＴＳの間に目的の組織の視覚的識別を促進するためのマーカーの配置に関する。
【0129】
特定の計画／ナビゲーションシステムに関して本明細書に記載されているが、本開示の範囲を逸脱することなく、他の経路計画／ナビゲーションシステムを用いてもよい。例えば、同一出願人による米国特許出願第１３／４７７，２７９号、第１３／４７７，２９１号、第１３／４７７，３７４号、第１３／４７７，３９５号、第１３／４７７，４０６号および第１３／４７７，４１７号に記載されているシステム（その各開示内容全体が参照により本明細書に組み込まれる）ならびに、例えば現在ではＡｃｔｉｖｉｅｗｅｓ社に譲渡されている米国特許第７，８７６，９４２号に記載されているシステムを用いてもよい。
【0130】
肺組織の治療に関して本明細書に記載されているが、本開示の実施形態は、他の組織の治療への使用に等しく適用可能である。例えば、本開示のシステムおよび方法を使用して、肝臓組織、腎臓組織、膵臓組織、胃腸組織、間質性腫瘤(interstitial masses）ならびにマイクロ波焼灼により治療可能であることが当業者に知られている体の他の部分を治療し得ると考えられる。
【0131】
本開示に記載されているハンドピース、ケーブルおよび温度測定モジュールとして用いることができるマイクロ波照射装置（一般に装置という）は、その中に装置を識別するためのデータを記憶することができる１つ以上のデータ記憶部品（例えば、ＥＥＰＲＯＭ、ＰＲＯＭなど）を備えていてもよい。記憶されたデータは、装置の識別子ならびに装置の使用に関するデータ（例えば、起動数または使用のタイムスタンプ）および装置の再処理に関するデータを含んでいてもよい。上記装置が本システムの他の構成要素と適合可能であり、特定の地理的位置での動作が許可され、規定の使用数または使用時間を超えておらず、かつ適度に無菌であることが保証されていることを確認するために、データ記憶部品から読み込まれるデータを、図１０のマイクロ波発生器１０００などの本システムの他の構成要素によって読み込んでもよい。
【0132】
あるいは、本装置は、本装置およびマイクロ波発生器を識別するバーコードを含んでいてもよく、あるいは、本マイクロ波焼灼システムの他の構成要素は、バーコードから識別子を読み取るためのバーコードリーダーも備えていてもよい。次いで、バーコードリーダーは、コンピュータが本装置の使用を追跡することができるように、読み取られた識別子をバーコードリーダーに接続されたコンピュータに提供してもよい。
【0133】
装置の意図しない使用を防止する方法の１つは、本装置の再処理を要求する前に使用数を制限することである。単回使用装置に関する一つの例として、装置（例えば、図８のマイクロ波照射装置８００）を発生器（例えば、図１０のマイクロ波発生器１０００）に接続した後、または装置の最初の使用後に、タイムスタンプをデータ記憶部品のデータフィールドに書き込んでもよい。このデータフィールドを絶えず確認して、そのタイムスタンプからあまりに長い期間が経過してないことを確認してもよい。装置の接続／起動と同時または最初のタイムスタンプから許可された使用時間の満了後に、データをデータ記憶部品内の別個のデータフィールドに書き込んでもよい。単回使用装置の例では、データフィールドが、本システムの他の構成要素によって読み込むことができるそこに書き込まれた任意のデータを有すると、他の構成要素は、装置の使用を許可することを拒否し、使用者に、再処理のために装置を送付しなければならないというメッセージを提供してもよい。また、本開示の範囲を逸脱することなく、当業者によって理解される他の使用スキームを使用してもよい。
【0134】
装置を検査することができ、摩耗部分を交換することができ、データ記憶部品に記憶されたデータを読み込むことができ、かつ装置を滅菌することができる認可された再処理施設で、再処理を行ってもよい。データ記憶部品から読み込まれたデータを、点検および分析のために元の製造業者に送り戻してもよい。データ記憶部品は、装置を処理した回数を特定するデータフィールドを含んでいてもよい。このデータフィールドは、装置を再処理するたびに更新される。
【0135】
装置を再処理することができる回数も制限してもよい。従って、指定された限度に達したら、装置を完全に破壊しなければならない。再処理の一部として、別の構成要素への挿入または第１の起動からの上記タイムスタンプを上書きしてもよく、このようにして、別の構成要素への次の挿入時に装置が使用可能になる。限定された例に関して一般に本明細書に記載してきたが、再処理を様々なスキームで行ってもよく、データ記憶部品上のデータフィールドの数を読み込むまたは上書きするか、データをそれらに書き込んで、装置の安全性および無菌性を確保してもよい。
【0136】
例示および記載のために、添付の図面を参照しながら実施形態を詳細に記載してきたが、当然のことながら、本発明の方法および装置は、それらにより限定されるものとして解釈されるべきではない。当業者には、本開示の範囲を逸脱することなく、上記実施形態に対して様々な修飾をなし得ることは明らかであろう。