特許 6236280 フォトスペーサー

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6236280

(24)【登録日】2017年11月2日

(45)【発行日】2017年11月22日

(54)【発明の名称】フォトスペーサー

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1339 20060101AFI20171113BHJP

   G03F 7/027 20060101ALI20171113BHJP

   G03F 7/038 20060101ALI20171113BHJP

   G03F 7/031 20060101ALI20171113BHJP

   G03F 7/029 20060101ALI20171113BHJP

【ＦＩ】

   G02F1/1339 500

   G03F7/027 502

   G03F7/038 501

   G03F7/031

   G03F7/029

【請求項の数】5

【全頁数】32

(21)【出願番号】特願2013-215380(P2013-215380)

(22)【出願日】2013年10月16日

(65)【公開番号】特開2014-142598(P2014-142598A)

(43)【公開日】2014年8月7日

【審査請求日】2016年7月6日

(31)【優先権主張番号】特願2012-284669(P2012-284669)

(32)【優先日】2012年12月27日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000004628

【氏名又は名称】株式会社日本触媒

(74)【復代理人】

【識別番号】100186185

【弁理士】

【氏名又は名称】高階 勝也

(74)【代理人】

【識別番号】100122471

【弁理士】

【氏名又は名称】籾井 孝文

(72)【発明者】

【氏名】田中 晋介

(72)【発明者】

【氏名】加原 浩二

【審査官】 鈴木 俊光

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００８−２９２６７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−０８０１９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−２５７５３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−２０３５７９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−０３１７７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００７／００９１２４８（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｆ １／１３３９

Ｇ０３Ｆ ７／０２７−７／０３８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

アルカリ可溶性樹脂と、
多官能モノマーと、
波長２９０ｎｍ〜３８０ｎｍに極大吸収波長を有する第１の光重合開始剤と、
波長２３０ｎｍ〜２９０ｎｍに極大吸収波長を有する第２の光重合開始剤とを含む、感光性樹脂組成物から形成される、柱状のフォトスペーサーであって、
該アルカリ可溶性樹脂が、主鎖に環構造を有する繰り返し単位および側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位を有し、該主鎖に環構造を有する繰り返し単位が、一般式（１）〜（７）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種であり、
該フォトスペーサーの下部から高さ方向に（フォトスペーサーの高さ×１／２）離れた部分の水平断面積Ａ１が、該フォトスペーサーの下部から高さ方向に（フォトスペーサーの高さ×１／４）離れた部分の水平断面積Ａ２以下であり、
該フォトスペーサーの最下部における径が、８μm以下である、
フォトスペーサー：

【化1】

式（４）〜（７）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜３０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基である。

【請求項2】

破壊強度が、１６０ｍＮ〜３００ｍＮである、請求項１に記載のフォトスペーサー。

【請求項3】

上記多官能モノマーが、ペンタエリスリトール骨格を有する、請求項１または２に記載のフォトスペーサー。

【請求項4】

前記水平断面積Ａ１と前記水平断面積Ａ２との比（Ａ２／Ａ１）が、１〜１．３である、請求項１から３のいずれかに記載のフォトスペーサー。

【請求項5】

請求項１から４のいずれかに記載のフォトスペーサーを含む、液晶ディスプレイ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、フォトスペーサーに関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置の液晶セルは、一対の基板間に液晶層が形成されており、この基板間隔を一定にするために、スペーサーが配置される。近年、このスペーサーとして、ガラスビーズ、樹脂ビーズ等のスペーサー粒子に代えて、フォトリソグラフィにより形成される柱状のスペーサー（フォトスペーサー）が用いられるようになっている（例えば、特許文献１、２）。フォトスペーサーは、感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、所定のマスクをした上で露光し、その後、現像することにより、略柱状に形成される。フォトスペーサーは、任意の位置に形成させることができるので、例えば、ブラックマトリックス上にのみ形成させて、スペーサーを要因とした表示特性の低下を防止することができる。

【0003】

フォトスペーサーに求められる特性としては、基板間隔を一定に維持するための高弾性回復性、破壊強度、基板に対する密着性等が挙げられる。これらの特性は、液晶表示装置の高品位化が進む中、より高レベルで満足することが求められている。また、液晶表示装置の高品位化に伴い、フォトスペーサーは、細く微細な形状であることが求められており、通常、その水平断面径を１０μm〜２０μm程度として設計される（例えば、特許文献３）。

【0004】

しかしながら、細すぎる場合には、高弾性回復性、破壊強度、密着性等が不十分となり、そのため、フォトスペーサーの水平断面径をさらに小さくすることは、困難である。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００９−５３６６３号公報

【特許文献2】特開２００９−１７５６４７号公報

【特許文献3】特開２００６−８４６２９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、水平断面の直径が小さく、かつ、高弾性回復性、破壊強度および基板密着性に優れるフォトスペーサーを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明のフォトスペーサーは、アルカリ可溶性樹脂と、多官能モノマーとを含む、感光性樹脂組成物から形成される、柱状のフォトスペーサーであって、
該フォトスペーサーの下部から高さ方向に（フォトスペーサーの高さ×１／２）離れた部分の水平断面積Ａ１が、該フォトスペーサーの下部から高さ方向に（フォトスペーサーの高さ×１／４）離れた部分の水平断面積Ａ２以下であり、該フォトスペーサーの最下部における径が、８μm以下である。
好ましい実施形態においては、本発明のフォトスペーサーは、破壊強度が、１６０ｍＮ〜３００ｍＮである。
好ましい実施形態においては、上記感光性樹脂組成物が、２種以上の光重合開始剤をさらに含む。
好ましい実施形態においては、上記多官能モノマーが、ペンタエリスリトール骨格を有する。
好ましい実施形態においては、上記感光性樹脂組成物が、波長２９０ｎｍ〜３８０ｎｍに極大吸収波長を有する第１の光重合開始剤と、波長２３０ｎｍ〜２９０ｎｍに極大吸収波長を有する第２の光重合開始剤とを含む。
好ましい実施形態においては、上記アルカリ可溶性樹脂が、主鎖に環構造を有する繰り返し単位と、側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位とを有する。
好ましい実施形態においては、上記主鎖に環構造を有する繰り返し単位が、一般式（１）〜（７）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種である：

【化1】

式（４）〜（７）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜３０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基である。
好ましい実施形態においては、上記水平断面積Ａ１と上記水平断面積Ａ２との比（Ａ２／Ａ１）が、１〜１．３である。
本発明の別の局面によれば、液晶ディスプレイが提供される。この液晶ディスプレイは、上記フォトスペーサーを含む。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、非逆テーパー形状とすることにより、高弾性回復性、破壊強度および基板密着性を低下させることなく、水平断面の直径が小さいフォトスペーサーを得ることができる。

【0009】

また、非逆テーパー形状のフォトスペーサーは、液晶層への気泡の混入を防いで、表示装置の表示性能の向上に寄与し得る。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】（ａ）および（ｂ）は、本発明の好ましい実施形態によるフォトスペーサーの概略断面図である。

【図2】逆テーパー形状のフォトスペーサーを説明する概略断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

Ａ．フォトスペーサー
本発明のフォトスペーサーは、感光性樹脂組成物から形成される柱状のフォトスペーサーである。なお、本明細書において「柱状」とは、円柱状、楕円柱状、角柱状、円錐台形状、角錐台形状を含む概念である。図１（ａ）は、本発明の好ましい実施形態によるフォトスペーサーの概略断面図である。このフォトスペーサー１０は、高さ方向で実質的に径差がなく、実質的に矩形状である。図１（ｂ）は、本発明の別の好ましい実施形態によるフォトスペーサーの概略断面図である。このフォトスペーサー２０は、下部より上部の方が細い台形である。本発明のフォトスペーサーは、図１（ａ）および（ｂ）に例示されるように、フォトスペーサーの下部から高さ方向に（フォトスペーサーの高さＬ×１／２）離れた部分Ｈ１の水平断面積Ａ１が、該フォトスペーサーの下部から高さ方向に（フォトスペーサーの高さＬ×１／４）離れた部分Ｈ２の水平断面積Ａ２以下である。なお、本明細書においては、このように水平断面積Ａ１と水平断面積Ａ２とがＡ２≧Ａ１の関係にある形状を、「非逆テーパー形状」と称する。また、水平断面積Ａ１と水平断面積Ａ２とがＡ２＜Ａ１の関係にある形状（例えば、図２に示す形状）を「逆テーパー形状」と称する。本発明においては、このような非逆テーパー形状とすることにより、径が細くとも（具体的には、後述のように、最下部における径が８μm以下）、弾性回復率、破壊強度等の機械的特性および基板密着性に優れるフォトスペーサーを得ることができる。

【0012】

フォトスペーサーの下部から高さ方向に（フォトスペーサーの高さＬ×１／２）離れた部分Ｈ１の水平断面積Ａ１と、フォトスペーサーの下部から高さ方向に（フォトスペーサーの高さＬ×１／４）離れた部分Ｈ２の水平断面積Ａ２との比（Ａ２／Ａ１）は、好ましくは１〜１．３であり、より好ましくは１〜１．２であり、さらに好ましくは１〜１．１５であり、特に好ましくは１〜１．１である。Ａ２／Ａ１がこのような範囲のフォトスペーサーは、基板密着性に優れ、かつ、弾性回復率および破壊強度が高い。また、該フォトスペーサーは、液晶層への気泡の混入を防いで、表示装置の表示性能の向上に寄与し得る。

【0013】

フォトスペーサーの最下部における径（水平断面の径）は、８μm以下であり、好ましくは５μm〜８μmであり、さらに好ましくは６μm〜８μmであり、特に好ましくは６μm〜７．５μmである。このような範囲であれば、表示装置の高精細化に対応し得るフォトスペーサーを得ることができる。なお、本明細書において「径」とは、最下部面の周上の２点を結び、最下部面の重心を通る直線の長さを意味する。したがって、フォトスペーサーが円柱状または円錐台形状である場合（すなわち、最下部面が円状の場合）は最下部面の直径を意味する。

【0014】

フォトスペーサーの最下部における太さは、フォトスペーサーの水平断面積でいえば、好ましくは３μｍ^２〜５０μｍ^２であり、より好ましくは３μｍ^２〜４５μｍ^２であり、さらに好ましくは１２μｍ^２〜４５μｍ^２であり、特に好ましくは２０μｍ^２〜４５μｍ^２である。

【0015】

フォトスペーサーの高さは、所望とする基板間隔に応じて、任意の適切な高さに設定され得る。フォトスペーサーの高さは、例えば、１μｍ〜１０μｍである。

【0016】

１つの実施形態においては、本発明のフォトスペーサーの圧縮率は、１０％〜９０％である。圧縮率の評価方法は後述する。

【0017】

本発明のフォトスペーサーの弾性回復率の下限は、好ましくは５５％以上であり、より好ましくは６０％以上であり、さらに好ましくは６５％以上であり、さらに好ましくは７０％以上であり、さらに好ましくは７５％以上であり、さらに好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。弾性回復率は大きければ大きいほど好ましく、本発明のフォトスペーサーの弾性回復率の上限は、例えば、１００％である。弾性回復率の評価方法は後述する。

【0018】

１つの実施形態においては、フォトスペーサーの最下部における径が６μｍ〜８μｍである場合、本発明のフォトスペーサーの弾性回復率は、好ましくは７０％〜１００％であり、より好ましくは８０％〜９５％である。

【0019】

本発明のフォトスペーサーの弾性回復率ｂ（％）と、フォトスペーサーの最下部における径ａ（μｍ）との関係は、実用的な径ａの範囲において、好ましくは、ｂ＞３．１ａ＋４５であり、より好ましくはｂ＞３．１ａ＋５０であり、さらに好ましくはｂ＞３．１ａ＋５３である。

【0020】

本発明のフォトスペーサーの破壊強度の下限は、好ましくは２０ｍＮ以上であり、より好ましくは５０ｍＮ以上であり、さらに好ましくは１００ｍＮ以上であり、さらに好ましくは１３０ｍＮ以上であり、さらに好ましくは１４５ｍＮ以上であり、さらに好ましくは１６０ｍＮ以上であり、特に好ましくは１７５ｍＮ以上であり、最も好ましくは１９０ｍＮ以上である。破壊強度は大きければ大きいほど好ましく、本発明のフォトスペーサーの破壊強度の上限値は、例えば、好ましくは３００ｍＮである。破壊強度の評価方法は後述する。

【0021】

１つの実施形態においては、フォトスペーサーの最下部における径が６μｍ〜８μｍである場合、本発明のフォトスペーサーの破壊強度は、好ましくは１６０ｍＮ〜３００ｍＮであり、より好ましくは１６０ｍＮ〜２５０ｍＮであり、さらに好ましくは１７５ｍＮ〜２００ｍＮである。

【0022】

Ｂ．感光性樹脂組成物
上記感光性樹脂組成物は、バインダーポリマーとしてのアルカリ可溶性樹脂と、多官能モノマーとを含む。実用的には、上記感光性樹脂組成物は、光重合開始剤、溶剤および添加剤をさらに含み得る。

【0023】

Ｂ−１．アルカリ可溶性樹脂
上記アルカリ可溶性樹脂としては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な樹脂が用いられ得る。アルカリ可溶性樹脂は、好ましくはアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂であり、より好ましくはアクリル系樹脂である。

【0024】

上記アクリル系樹脂は、好ましくは、主鎖に環構造を有する繰り返し単位（Ａ）を有する。主鎖に環構造を有する繰り返し単位（Ａ）を有するアクリル系樹脂を用いることにより、現像液に対する溶解性が高い感光性樹脂組成物を得ることができる。このような感光性樹脂組成物を用いれば、現像残渣を生じさせることなく、フォトスペーサーを形成することができる。また、主鎖に環構造を有する繰り返し単位（Ａ）を有するアクリル系樹脂を用いれば、径が細くとも、基板密着性に優れるフォトスペーサーを得ることができる。

【0025】

主鎖に環構造を有する繰り返し単位（Ａ）としては、例えば、マレイミド構造、Ｎ−置換マレイミド構造、ラクトン環構造、グルタル酸無水物構造、無水マレイン酸構造等を有する繰り返し単位が挙げられる。なかでも好ましくは、マレイミド構造またはＮ−置換マレイミド構造である。主鎖にマレイミド構造またはＮ−置換マレイミド構造を有する繰り返し単位を有するアクリル系樹脂を用いることにより、現像液に対する溶解性がより高い感光性樹脂組成物を得ることができる。具体的には、主鎖に環構造を有する繰り返し単位（Ａ）は、一般式（１）〜（３）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、一般式（１）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。一般式（１）で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂を用いれば、より破壊強度の高いフォトスペーサーを得ることができる。

【化2】

【0026】

主鎖に環構造を有する繰り返し単位（Ａ）は、一般式（４）〜（７）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種であってもよい。なかでも好ましくは、一般式（４）または（７）で表される繰り返し単位である。

【化3】

式（４）〜（７）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜３０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、好ましくは水素原子または炭素数が１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、より好ましくは水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基である。

【0027】

主鎖に環構造を有する繰り返し単位（Ａ）を有するアクリル系樹脂は、主鎖に環構造を有するモノマー（ａ）を含むモノマー組成物を重合して得ることができる。主鎖に環構造を有するモノマー（ａ）としては、例えば、マレイミド、ベンジルマレイミド、フェニルマレイミド、ナフチルマレイミド、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−クロロフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−クロロフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−クロロフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メトキシフェニルマレイミド等の芳香族置換マレイミド類；シクロヘキシルマレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、イソプロピルマレイミド等のアルキル置換マレイミド類等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも好ましくは、マレイミド、ベンジルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミドであり、より好ましくはベンジルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミドであり、さらに好ましくはベンジルマレイミドである。一般式（４）〜（７）で表される繰り返し単位を構成するモノマー（ａ）としては、例えば、一般式（８）または（９）で表される１，６−ジエン類が挙げられる。

【化4】

式（８）および（９）中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は上記で説明したとおりである。

【0028】

上記モノマー組成物中、主鎖に環構造を有する繰り返し単位（Ａ）を構成するモノマー（ａ）の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは５重量％〜５０重量％であり、より好ましくは８重量％〜３０重量％であり、さらに好ましくは１０重量％〜２０重量％である。

【0029】

好ましくは、上記アクリル系樹脂は、側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）を有する。アクリル系樹脂が側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）を有していれば、アルカリ現像性に優れる感光性樹脂組成物を得ることができる。側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）を構成するモノマー（ｂ）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、イタコン酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート等のカルボキシル基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられる。なかでも好ましくは（メタ）アクリル酸である。

【0030】

上記モノマー組成物中、側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）を構成するモノマー（ｂ）の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは１０重量％〜９０重量％であり、より好ましくは１５重量％〜８５重量％であり、さらに好ましくは２０重量％〜８０重量％である。

【0031】

好ましくは、上記アクリル系樹脂は、側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ｃ）を有する。アクリル系樹脂が側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ｃ）を有していれば、露光感度が高く、かつ、弾性回復率および破壊強度が高いフォトスペーサーを得ることができる。側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ｃ）は、側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）の酸基の一部または全部（好ましくは、一部）を反応点として、炭素二重結合を有する化合物を付加することにより、得ることができる。

【0032】

側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）の酸基がカルボキシル基である場合、炭素二重結合を有する化合物として、エポキシ基と二重結合とを有する化合物、イソシアネート基と二重結合とを有する化合物等が用いられ得る。エポキシ基と二重結合とを有する化合物としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル等が挙げられる。イソシアネート基と二重結合とを有する化合物としては２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）の酸基がカルボン酸無水物基である場合、炭素二重結合を有する化合物として、水酸基と二重結合とを有する化合物が用いられ得る。水酸基と二重結合とを有する化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0033】

上記アクリル系樹脂は、好ましくは、側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位（Ｄ）をさらに有する。上記アクリル系樹脂が、側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位（Ｄ）を有することにより、架橋密度が高く、弾性回復率および破壊強度の高いフォトスペーサーを得ることができる。側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位（Ｄ）としては、例えば、一般式（１０）で表される繰り返し単位が挙げられる。

【化5】

式（１０）中、Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９はそれぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、好ましくは水素原子である。Ｒ^１０は、炭素数が１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数が２〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基または炭素数が６〜２０の芳香族炭化水素基であり、好ましくは水素原子、炭素数が１〜２０の直鎖状のアルキル基、炭素数が２〜２０の直鎖状のアルケニル基または炭素数が６〜２０の芳香族炭化水素基であり、より好ましくは炭素数が１〜１０の直鎖状のアルキル基または炭素数が６〜１２の芳香族炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素数が１〜５の直鎖状のアルキル基、フェニル基またはビフェニル基であり、特に好ましくはメチル基、フェニル基またはビフェニル基である。なお、アルキル基、アルケニル基および芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。ＡＯは、オキシアルキレン基を表す。ＡＯで表されるオキシアルキレン基の炭素数は２〜２０であり、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜５であり、さらに好ましくは２である。繰り返し単位（Ｄ）は１種または２種以上のオキシアルキレン基を含み得る。ｘは０〜２の整数を表す。ｙは０または１を表す。ｎは、オキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、２以上であり、好ましくは２〜１００であり、より好ましくは２〜５０であり、さらに好ましくは２〜１５である。

【0034】

側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位（Ｄ）は、側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有するモノマー（ｄ）により構成される。モノマー（ｄ）としては、例えば、一般式（１１）で表されるモノマーが挙げられる。

【化6】

式（１１）中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、ＡＯ、ｘ、ｙおよびｎは、上記で説明したとおりである。

【0035】

モノマー（ｄ）としては、例えば、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート（ＥＯ２モル）、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ４モル）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ９モル）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ１３モル）、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ４―１７モル）、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート（ＰＯ５モル）、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート（ＥＯ２モル）等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも好ましくは、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート（ＥＯ２モル）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ９モル）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ＥＯ１３モル）である。さらに好ましくは、エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＥＯ２モル）、メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ＥＯ９モル）、メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ＥＯ１３モル）である。これらのモノマー（ｄ）を用いれば、弾性回復率の優れたフォトスペーサーを容易に得ることができる。なお、本明細書において、例えば「ＥＯ２モル」、「ＰＯ５モル」等の表記は、オキシアルキレン基の平均付加モル数を表す。

【0036】

上記モノマー組成物中、側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位（Ｄ）を構成するモノマー（ｄ）の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは０．５重量％〜５５重量％であり、より好ましくは１重量％〜５０重量％であり、さらに好ましくは１重量％〜４５重量％である。

【0037】

上記アクリル系樹脂は、上記モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）および／またはモノマー（ｃ）と共重合可能なその他のモノマー（ｅ）由来のその他の繰り返し単位（Ｅ）をさらに有し得る。その他のモノマー（ｅ）は、エポキシ基を有さないことが好ましい。エポキシ基を有さないその他のモノマー（ｅ）を用いることにより、すなわち、アルカリ可溶性樹脂としてエポキシ基を有さないアクリル系樹脂を用いることにより、保存安定性に優れる感光性樹脂組成物を得ることができる。

【0038】

その他のモノマー（ｅ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ビフェニル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコールル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ビフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデシルオキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシプロピレングリコール、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリロイルモルホリン（モルホリノ（メタ）アクリレート）、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−トリフェニルメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリル酸アミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、ブタジエン、イソプレン等のブタジエンまたは置換ブタジエン化合物、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、アクリロニトリル等のエチレンまたは置換エチレン化合物；酢酸ビニル等のビニルエステル類等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。

【0039】

上記モノマー組成物中、その他の繰り返し単位（Ｅ）を構成するモノマー（ｅ）の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは０重量％〜５５重量％であり、より好ましくは５重量％〜５０重量％であり、さらに好ましくは１０重量％〜４５重量％である。

【0040】

上記アクリル系樹脂は、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。

【0041】

上記アクリル系樹脂の重量平均分子量は、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法（ＧＰＣ）で測定した値が、好ましくは３，０００〜２００，０００であり、より好ましくは４，０００〜１００，０００であり、さらに好ましくは５，０００〜５０，０００である。このような範囲であれば、耐熱性を確保し、かつ、塗膜形成に適切な粘度を有する感光性樹脂組成物を得ることができる。

【0042】

上記アクリル系樹脂の酸価は、好ましくは２０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは２５ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、さらに好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。このような範囲であれば、アルカリ現像性に優れ、現像残渣の発生が少なく、かつ、密着性に優れるフォトスペーサーを得ることができる。

【0043】

上記アクリル系樹脂は、モノマー組成物を、任意の適切な方法で重合して得ることができる。重合方法としては、例えば、溶液重合法が挙げられる。

【0044】

上記モノマー組成物は、任意の適切な溶媒を含み得る。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のエステル類；メタノール、エタノール等のアルコール類；トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロホルム；ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。上記モノマー組成物を重合する際の重合濃度は、好ましくは５重量％〜９０重量％であり、より好ましくは５重量％〜５０重量％であり、さらに好ましくは１０重量％〜５０重量％である。

【0045】

上記モノマー組成物は、任意の適切な重合開始剤を含み得る。重合開始剤としては、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）等のアゾ化合物等が挙げられる。重合開始剤の含有割合は、モノマー組成物中の全モノマー１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部〜１５重量部、より好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。

【0046】

上記アクリル系樹脂を溶液重合法により重合する際の重合温度は、好ましくは４０℃〜１５０℃であり、より好ましくは６０℃〜１３０℃である。

【0047】

側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ｃ）を有するアクリル系樹脂を得る場合、上記重合後、得られたアクリル系樹脂に上記炭素二重結合を有する化合物を付加する。炭素二重結合を有する化合物を付加する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、重合禁止剤および触媒の存在下で、炭素二重結合を有する化合物を、側鎖に酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）の酸基の一部または全部（好ましくは、一部）に反応させて付加することにより、側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位（Ｃ）を形成させることができる。

【0048】

上記炭素二重結合を有する化合物の付加量は、上記重合後のアクリル系樹脂（すなわち、炭素二重結合を有する化合物を付加する前のアクリル系樹脂）１００重量部に対して、好ましくは５重量部以上であり、より好ましくは１０重量部以上であり、さらに好ましくは１５重量部以上であり、特に好ましくは２０重量部以上である。このような範囲であれば、露光感度に優れる感光性樹脂組成物を得ることができる。このような感光性樹脂組成物を用いれば、緻密な硬化塗膜を形成して、基板密着性に優れ、弾性回復率および破壊強度が高いフォトスペーサーを形成することができる。また、炭素二重結合を有する化合物の付加量が上記範囲であれば、炭素二重結合を有する化合物の付加により水酸基が十分に生成され、アルカリ現像液に対する溶解性に優れる感光性樹脂組成物を得ることができる。上記炭素二重結合を有する化合物の付加量の上限は、上記重合後のアクリル系樹脂（すなわち、炭素二重結合を有する化合物を付加する前のアクリル系樹脂）１００重量部に対して、好ましくは１７０重量部以下であり、より好ましくは１５０重量部以下であり、さらに好ましくは１４０重量部以下である。炭素二重結合を有する化合物の付加量が多すぎる場合、感光性樹脂組成物の保存安定性および溶解性が低下するおそれがある。

【0049】

重合禁止剤としては、例えば、６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール等のアルキルフェノール化合物が挙げられる。触媒としては、例えば、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン等の３級アミンが挙げられる。

【0050】

Ｂ−２．多官能モノマー
上記感光性樹脂組成物は、多官能モノマーをさらに含み得る。多官能モノマーとしては、例えば、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルベンゼンホスホネート等の多官能芳香族ビニル系モノマー；（ジ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類；これらのモノマーをカプロラクトン変性またはアルキレンオキサイド変性した多官能モノマー等が挙げられる。これらの多官能モノマーを用いれば、官能基数が多いので架橋密度の高いフォトスペーサーを得ることができる。

【0051】

上記多官能モノマーは、好ましくはペンタエリスリトール骨格を有する。ペンタエリスリトール骨格を有する多官能モノマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。ペンタエリスリトール骨格を有する多官能モノマーを用いれば、径が細くとも、弾性回復率の高いフォトスペーサーを得ることができる。

【0052】

上記多官能モノマーの含有割合は、上記アルカリ可溶性樹脂と該多官能モノマーとの合計重量１００重量部に対して、好ましくは１０重量部〜９０重量部であり、より好ましくは３０重量部〜８５重量部であり、さらに好ましくは５０重量部〜８５重量部である。

【0053】

Ｂ−３．光重合開始剤
上記感光性樹脂組成物は、好ましくは、２種以上の光重合開始剤を含む。

【0054】

１つの実施形態においては、光重合開始剤として、異なる波長範囲に極大吸収波長を有する第１の光重合開始剤および第２の光重合開始剤を用いる。異なる波長範囲に極大吸収波長を有する２種以上の光重合開始剤を用いることにより、露光時に紫外光を効率的に利用することができる。その結果、下部が上部よりも細くならない、すなわち非逆テーパー形状のフォトスペーサーが形成される。非逆テーパー形状のフォトスペーサーは、径が細くとも、基板密着性に優れ、弾性回復率および破壊強度が高い。また、該フォトスペーサーは、液晶層への気泡の混入を防いで、表示装置の表示性能の向上に寄与し得る。

【0055】

上記第１の光重合開始剤は、好ましくは波長２９０ｎｍ〜３８０ｎｍに極大吸収波長を有し、より好ましくは波長２９５ｎｍ〜３５０ｎｍに極大吸収波長を有し、さらに好ましくは２９５ｎｍ〜３４０ｎｍに極大吸収波長を有する。このような第１の光重合開始剤を用いることにより、非逆テーパー形状のフォトスペーサーを得ることができる。なお、３８０ｎｍより高波長側に極大吸収波長を有する光重合開始剤を用いた場合、フォトスペーサーの太さを制御することが困難となり、太すぎるフォトスペーサーが形成されるおそれがある。本発明において、「極大吸収波長」とは、濃度が０．００１重量％の光重合開始剤溶液について、光路長１ｃｍで測定した吸光度が０．５以上となる極大吸収の波長をいう。

【0056】

上記第１の光重合開始剤として、好ましくはα−アミノケトン系化合物が用いられ、より好ましくは、一般式（１２）で表されるα−アミノケトン系化合物が用いられる。このような化合物を用いれば、非逆テーパー形状であり、かつ、径が細いフォトスペーサーを得ることができる。

【化7】

式（１２）中、Ｘ^１およびＸ^２はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、ベンジル基または４−メチルベンジル基であり、好ましくはメチル基である。−ＮＸ^３Ｘ^４はジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基またはモルフォリノ基であり、好ましくはジメチルアミノ基またはモルフォリノ基であり、より好ましくはモルフォリノ基である。Ｘ^５は、水素原子、炭素数が１〜８のアルキル基、炭素数が１〜８のアルコキシ基、炭素数が１〜８のアルキルチオ基、ジメチルアミノ基、またはモルフォリノ基であり、好ましくは炭素数が１〜８のアルキルチオ基またはモルフォリノ基であり、より好ましくは炭素数が１〜３のアルキルチオ基またはモルフォリノ基であり、さらに好ましくはメチルチオ基である。

【0057】

上記α−アミノケトン系化合物の具体例としては、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ジエチルアミノ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルホリノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−（４−メチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−エチルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−イソプロピルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ブチルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−メトキシフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−ジメチルアミノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォルニル）フェニル］−１−ブタノン等が挙げられる。これらの化合物は、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも好ましくは、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンまたは２−ジメチルアミノ−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォルニル）フェニル］−１−ブタノンであり、より好ましくは２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンである。第１の光重合開始剤として、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンを用いれば、非逆テーパー形状であり、かつ径が細いフォトスペーサーを得ることができる。

【0058】

上記第１の光重合開始剤は、市販品を用いてもよい。市販の第１の光重合開始剤としては、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製の商品名「イルガキュア９０７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア３７９」等が挙げられる。

【0059】

上記第１の光重合開始剤の含有割合は、上記アルカリ可溶性樹脂と上記多官能モノマーとの合計重量１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部〜３０重量部、より好ましくは０．５重量部〜１０重量部であり、さらに好ましくは１．０重量部〜５重量部である。

【0060】

上記第２の光重合開始剤は、好ましくは波長２３０ｎｍ〜２９０ｎｍに極大吸収波長を有し、より好ましくは波長２４０ｎｍ〜２８０ｎｍに極大吸収波長を有し、さらに好ましくは波長２５０ｎｍ〜２７０ｎｍに極大吸収波長を有する。

【0061】

上記第２の光重合開始剤として、好ましくはα−ヒドロキシケトン系化合物が用いられ、より好ましくは一般式（１３）または一般式（１４）で表されるα−ヒドロキシケトン系化合物が用いられ、さらに好ましくは一般式（１４）で表されるα−ヒドロキシケトン系化合物が用いられる。このような化合物を用いれば、非逆テーパー形状であり、かつ、径が細いフォトスペーサーを得ることができる。

【化8】

式（１３）中、Ｘ^６は水素原子、炭素数が１〜１０のアルキル基、または炭素数が１〜１０のアルコキシ基であり、好ましくは水素原子、炭素数が１〜５のアルキル基または炭素数が１〜５のアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子または炭素数が１〜２のアルコキシ基である。Ｘ^７およびＸ^８はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜１０のアルキル基であり、好ましくは炭素数が１〜５のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。また、Ｘ^７とＸ^８とが結合して炭素数が４〜８（好ましくは６〜８、より好ましくは６）のシクロアルキル基を形成していてもよい。
式（１４）中、Ｘ^９〜Ｘ^１２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜１０のアルキル基であり、好ましくは炭素数が１〜５のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。また、Ｘ^９とＸ^１０、および／またはＸ^１１とＸ^１２とが結合して炭素数が４〜８のシクロアルキル基を形成していてもよい。
上記アルキル基、アルコキシ基、アルキル基およびシクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。

【0062】

上記α−ヒドロキシケトン系化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルブタン−１−オン、１−（４−メチルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ブチルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−オクチルフェニル）プロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−メトキシフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−クロロフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ブロモフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−カルボエトキシフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンなどが挙げられる。これらの化合物は、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも好ましくは、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンまたは２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンであり、より好ましくは２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンである。第２の光重合開始剤として、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンを用いれば、非逆テーパー形状であり、かつ、径が細いフォトスペーサーを得ることができる。

【0063】

上記第２の光重合開始剤は、市販品を用いてもよい。市販の第２の光重合開始剤としては、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製の商品名「イルガキュア１８４」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア１２７」、「ダロキュア１１７３」等が挙げられる。

【0064】

上記第２の光重合開始剤の含有割合は、上記アルカリ可溶性樹脂と上記多官能モノマーとの合計重量１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部〜３０重量部であり、より好ましくは０．０５重量部〜１０重量部であり、さらに好ましくは０．０７重量部〜１重量部である。

【0065】

また、上記第２の光重合開始剤の含有割合は、上記第１の光重合開始剤と該第２の光重合開始剤の合計重量に対して、好ましくは５重量％〜４０重量％であり、より好ましくは５重量％〜３０重量％であり、さらに好ましくは５重量％〜２０重量％である。このような範囲であれば、基板密着性に優れ、弾性回復率および破壊強度が高いフォトスペーサーを得ることができる。

【0066】

上記第１の光重合開始剤および第２の光重合開始剤の合計含有割合は、上記アルカリ可溶性樹脂と上記多官能モノマーとの合計重量１００重量部に対して、好ましくは０．５重量部〜５０重量部であり、より好ましくは１重量部〜１０重量部であり、さらに好ましくは１．５重量部〜５重量部である。

【0067】

第１の光重合開始剤および第２の光重合開始剤に加えて光重合開始助剤を組み合わせて用いることもでき、光重合開始助剤を複数の組み合わせで用いることもできる。光重合開始助剤の具体例としては、１，３，５−トリス（３−メルカプトプロピオニルオキシエチル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−イソシアヌレート（昭和電工社製、カレンズＭＴ（登録商標）ＮＲ１）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート等の３官能チオール化合物；ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（昭和電工社製、カレンズＭＴ（登録商標）ＰＥ１）等の４官能チオール化合物；ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−プロピオネート）等の６官能チオール化合物等の多官能チオールが挙げられる。

【0068】

Ｂ−４．溶剤
上記感光性樹脂組成物は、任意の適切な溶剤を含み得る。溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のエステル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類；トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。溶剤の量は、所望とする感光性樹脂組成物の粘度に応じて、任意の適切な量に設定され得る。

【0069】

Ｂ−５．添加剤
上記感光性樹脂組成物は、必要に応じて、任意の適切な添加剤を含み得る。添加剤としては、例えば、水酸化アルミニウム、タルク、クレー、硫酸バリウム等の充填材、染料、顔料、消泡剤、カップリング剤、レベリング剤、増感剤、離型剤、滑剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重合抑制剤、増粘剤、分散剤等が挙げられる。

【0070】

１つの実施形態においては、感光性樹脂組成物は、ＵＶ吸収剤を含む。ＵＶ吸収剤を含む感光性樹脂組成物を用いれば、上下で径の差が小さいフォトスペーサーを得ることができ、フォトスペーサーを細い柱状することができる。本発明のフォトスペーサーは、細くとも、十分な破壊強度を有する。

【0071】

上記感光性樹脂組成物がＵＶ吸収剤を含む場合、ＵＶ吸収剤の含有割合は、上記アルカリ可溶性樹脂と上記多官能モノマーとの合計重量１００重量部に対して、好ましくは０．０５重量部〜１０重量部、より好ましくは０．１重量部〜５重量部であり、さらに好ましくは０．２重量部〜３重量部である。ＵＶ吸収剤の含有割合が、１０重量部を越える場合、非逆テーパー形状のフォトスペーサーが得られないおそれがある。

【0072】

Ｃ．フォトスペーサーの形成方法
本発明のフォトスペーサーは、上記感光性樹脂組成物を用いて得ることができる。上記感光性樹脂組成物を用いれば、基板密着性に優れ、弾性回復率および破壊強度が高いフォトスペーサーを形成することができる。

【0073】

上記フォトスペーサーは、フォトリソグラフィにより形成することができる。具体的には、上記感光性樹脂組成物を基板に塗布した後に乾燥させ、得られた塗膜上にフォトマスクを配置して露光し、塗膜を硬化させ、その後、現像することにより、フォトスペーサーを形成することができる。フォトリソグラフィによれば、任意の位置にフォトスペーサーを形成することができるので、例えば、液晶表示装置において、ブラックマトリックス上にのみフォトスペーサーを形成して、スペーサーを要因とした表示特性の低下を防止することができる。

【0074】

上記感光性樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、スピンコーター、バーコーター、グラビアコーター、ロールコーター、ナイフコーター、アプリケーター等を用いる方法が挙げられる。乾燥温度は、好ましくは４０℃〜２００℃であり、より好ましくは７０℃〜１００℃である。乾燥時間は、好ましくは１分間〜３０分間であり、より好ましくは２分間〜１０分間である。

【0075】

上記フォトマスクの配置位置は、所望とするフォトスペーサーのサイズに応じて、任意の適切な位置に配置される。フォトマスクは塗膜の上部に配置され、塗膜とフォトマスクとの距離は、好ましくは０μｍ〜５００μｍであり、より好ましく１０μｍ〜４００μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ〜３００μｍであり、特に好ましくは３０μｍ〜２００μｍである。

【0076】

上記露光時のＵＶ照射強度（３６５ｎｍ照度換算）は、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ^２〜２００ｍＪ／ｃｍ^２であり、より好ましくは２０ｍＪ／ｃｍ^２〜１５０ｍＪ／ｃｍ^２であり、さらに好ましくは３０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００ｍＪ／ｃｍ^２である。

【0077】

上記現像に際しては、アルカリ水溶液を用いることが好ましい。環境への負荷が少なく高感度の現像を行うことができるからである。アルカリ成分としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等が用いられる。アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、好ましくは０．０１重量％〜５重量％であり、より好ましくは０．０２重量％〜３重量％であり、さらに好ましくは０．０３重量％〜１重量％である。このような範囲であれば、上記感光性樹脂組成物を適切に溶解して、現像性よくフォトスペーサーを形成することができる。アルカリ水溶液には界面活性剤をさらに添加してもよい。

【0078】

現像後に、ポストベークを行ってもよい。ポストベーク時の加熱温度は、好ましくは１５０℃〜３００℃である、より好ましくは１８０℃〜２５０℃である。加熱時間は、好ましくは１０分〜９０分であり、より好ましくは２０分〜６０分である。上記感光性樹脂組成物が、側鎖に２以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位（Ｂ）を有するアクリル系樹脂を含む場合、ポストベークにより、架橋密度の高いフォトスペーサーを形成することができる。

【0079】

本発明のフォトスペーサーは、液晶ディスプレイ、より具体的には液晶ディスプレイの液晶セルのスペーサーとして好適に利用することができる。

【実施例】

【0080】

以下に、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。

【0081】

（１）重量平均分子量：Ｍｗ
ＧＰＣ（ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ、東ソー社製）にてＴＨＦを溶離液とし、カラムにＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｎ（東ソー社製）を用いて測定し、標準ポリスチレン換算にて算出した。
（２）固形分
製造例で調製した共重合体溶液をアルミカップに約０．３ｇはかり取り、アセトン約１ｇを加えて溶解させた後、常温で自然乾燥させた。その後、熱風乾燥機（商品名：ＰＨＨ−１０１、エスペック株社製）を用い、１４０℃で３時間乾燥した後、デシケータ内で放冷し、重量を測定した。その重量減少量から、ポリマー溶液の固形分（アクリル系樹脂）の重量を計算した。
（３）酸価
製造例で調製した共重合体溶液を１．５ｇ精秤し、アセトン９０ｇと水１０ｇの混合溶媒に溶解させ、０．１ＮのＫＯＨ水溶液で滴定した。滴定は、自動滴定装置（商品名：ＣＯＭ−５５５、平沼産業社製）を用いて行い、固形分濃度から、ポリマー１ｇ当たりの酸価を求めた（ｍｇＫＯＨ／ｇ）。

【0082】

（４）現像残渣
現像後、感光性樹脂組成物のとけ残りの有無を目視観察にて評価した。
（５）フォトスペーサーの密着性
形成されたフォトスペーサーの欠損の有無を目視にて観察し、以下の基準で評価した。
○：欠損無く、密着性が非常に優れる
△：一部に欠損あり、密着性がよい
×：全欠損、密着性が悪い
（６）フォトスペーサーの圧縮率
フォトスペーサーの圧縮率を、微小圧縮試験機（商品名：ＨＭ２０００、フィッシャー・インストルメンツ社製）を用いて測定した。１００μｍ角の平面圧子により、負荷速度および徐荷速度をともに４．７ｍＮ/秒として、８０ｍＮまでの荷重を負荷したのち０．４９ｍＮまで除荷して、負荷時の荷重−変形量曲線および徐荷時の荷重−変形量曲線を作成した。このとき、負荷時の荷重８０ｍＮでの変形量をＬ１とて、下記式により、圧縮率を算出した。
圧縮率（％）＝Ｌ１×１００／スペーサー高さ
（７）フォトスペーサーの弾性回復率
フォトスペーサーの弾性回復率を、微小圧縮試験機（商品名：ＨＭ２０００、フィッシャー・インストルメンツ社製）を用いて測定した。１００μｍ角の平面圧子により、負荷速度および徐荷速度をともに４．７ｍＮ/秒として、８０ｍＮまでの荷重を負荷したのち０．４９ｍＮまで除荷して、負荷時の荷重−変形量曲線および徐荷時の荷重−変形量曲線を作成した。このとき、負荷時の荷重８０ｍＮでの変形量をＬ１とし、除荷時の荷重０．４９ｍＮでの変形量をＬ２として、下記式により、弾性回復率を算出した。
弾性回復率（％）＝（Ｌ１−Ｌ２）×１００／Ｌ１
（８）フォトスペーサーの破壊強度
フォトスペーサーの破壊強度を、微小圧縮試験機（商品名：ＨＭ２０００、フィッシャー・インストルメンツ社製）を用いて測定した。１００μｍ角の平面圧子により、負荷速度および徐荷速度をともに４．７ｍＮ/秒として、３００ｍＮまでの荷重を負荷し、スペーサーが破壊されるときの荷重を荷重−変形量曲線から読み取った。
（９）フォトスペーサーの太さ（最下部における水平方向断面の直径）および高さ
フォトスペーサーの最下部における直径および高さは、レーザー顕微鏡（商品名「ＶＫ−９７００」、キーエンス社製）を用いて測定した。
（１０）フォトスペーサーの形状（非逆テーパー形状／逆テーパー形状）
フォトスペーサーの形状が非逆テーパー形状であるか、あるいは逆テーパー形状であるかの評価は、ＦＥ−ＳＥＭ（商品名「Ｓ−４８００」、日立製作所製）を用いて、（フォトスペーサーの高さＬ×１／２）離れた部分Ｈ１の直径Ｄ１、および（フォトスペーサーの高さＬ×１／４）離れた部分Ｈ２の直径Ｄ２を測定し、該直径Ｄ１、Ｄ２から、Ｈ１での水平断面積Ａ１、およびＨ２での水平断面積Ａ２を算出して行った。Ａ２／Ａ１が１以上となる場合が、非逆テーパー形状である。

【0083】

［製造例１］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ベンジルマレイミド（ＢｚＭＩ）１５ｇ、アクリル酸（ＡＡ）４４．５ｇ、１モルエトキシ化フェニルフェノールアクリレートと２モルエトキシ化フェニルフェノールアクリレートとの１：１（モル比）混合物（商品名「ＯＰＰＥ」、第一工業製薬社製、以下ＯＰＰＥともいう）４０．５ｇ、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート（商品名「パーブチル（登録商標）Ｏ」、日本油脂社製、以下ＰＢＯともいう）２ｇ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４２ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ドデシルメルカプタン（ｎＤＭ）２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてジメチルベンジルアミン（ＤＭＢＡ）０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．４重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７２００、酸価は５５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。共重合体溶液の製造条件、固形分濃度、重量平均分子量（Ｍｗ）および酸価を、製造例２〜１７とともに、表１に示す。

【0084】

【表1】

【0085】

［製造例２］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ５５ｇ、ＯＰＰＥ３０ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ３０ｇおよびＰＧＭＥ３０ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１３ｇおよびＰＧＭＥ１３ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１１ｇ、ＰＧＭＥ１１ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．３重量％を含む共重合体溶液（Ａ−２）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１８０００、酸価は１０３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0086】

［製造例３］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４２ｇ、ＯＰＰＥ４３ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．０重量％を含む共重合体溶液（Ａ−３）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１８２００、酸価は４４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0087】

［製造例４］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、ＯＰＰＥ４０．５ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ１．２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．５重量％を含む共重合体溶液（Ａ−４）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は２５２００、酸価は５６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0088】

［製造例５］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、ＯＰＰＥ４０．５ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ５ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３８．８重量％を含む共重合体溶液（Ａ−５）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０４００、酸価は５５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0089】

［製造例６］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１０ｇ、ＡＡ７６ｇ、ＯＰＰＥ１４ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ４２ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ１．５ｇ、ＰＧＭＥＡ８ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ４２ｇとＰＧＭＥ９８ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ１２４ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．７ｇ、ＰＧＭＥＡ３２ｇ、ＰＧＭＥ７４ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で１２時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．６重量％を含む共重合体溶液（Ａ−６）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１９３００、酸価は５４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0090】

［製造例７］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ２３ｇ、ＯＰＰＥ６２ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ３０ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３５．０重量％を含む共重合体溶液（Ａ−７）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００、酸価は５６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0091】

［製造例８］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、シクロヘキシルマレイミド（ＣＨＭＩ）１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、ＯＰＰＥ４０．５ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．０重量％を含む共重合体溶液（Ａ−８）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７５００、酸価は５４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0092】

［製造例９］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ジメチル−２、２’−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート（ＭＤ）１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、ＯＰＰＥ４０．５ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３８．８重量％を含む共重合体溶液（Ａ−９）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００、酸価は５３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0093】

［製造例１０］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、（α−アリルオキシメチル）アクリル酸メチル（ＡＭＡ）１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、ＯＰＰＥ４０．５ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３８．９重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１０）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７５００、酸価は５４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0094】

［製造例１１］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、ＯＰＰＥ２０．５ｇ、１モルエトキシ化フェニルフェノールアクリレート（商品名「Ａ−ＬＥＮ−１０」、新中村化学社製、以下Ａ−ＬＥＮ−１０ともいう）２０ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．１重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１１）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１８１００、酸価は５４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0095】

［製造例１２］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、Ａ−ＬＥＮ−１０を３８．５ｇ、メトキシポリエチレングリコール（４００）アクリレート（商品名「ライトアクリレート１３０Ａ」、共栄社化学社製、エチレンオキサイドモル数ｎ＝９、以下１３０Ａともいう）２ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．４重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１２）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７５００、酸価は５５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0096】

［製造例１３］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、Ａ−ＬＥＮ−１０を３８．５ｇ、メトキシポリエチレングリコール（５５０）アクリレート（商品名「ＣＤ５５０」、巴工業社製、エチレンオキサイドモル数ｎ＝１２〜１３、以下ＣＤ５５０ともいう）２ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．０重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１３）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１８０００、酸価は５３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0097】

［製造例１４］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、ＯＰＰＥ２０.５ｇ、ジシクロペンタニルアクリレート（ＤＣＰＡ）２０ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．１重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１４）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７８００、酸価は５６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0098】

［製造例１５］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、Ａ−ＬＥＮ−１０を４０.５ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．４重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１５）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７４００、酸価は５４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0099】

［製造例１６］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、フェノキシジエチレングリコールアクリレート（商品名「ライトアクリレートＰ２ＨＡ」、共栄社化学社製、以下Ｐ２ＨＡともいう）４０.５ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３８．８重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１６）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１８１００、酸価は５６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0100】

［製造例１７］
反応槽として冷却管を付けたセパラブルフラスコを準備した。他方、モノマー滴下槽中に、モノマー組成物として、ＢｚＭＩ１５ｇ、ＡＡ４４．５ｇ、ＤＣＰＡ４０.５ｇ、ＰＢＯ２ｇ、ＰＧＭＥＡ４２ｇおよびＰＧＭＥ１８ｇを投入し、撹拌混合した。また、連鎖移動剤滴下槽中に、連鎖移動剤溶液として、ｎＤＭ２ｇ、ＰＧＭＥＡ１８ｇおよびＰＧＭＥ８ｇを投入し、撹拌混合した。
反応槽にＰＧＭＥＡ９８ｇとＰＧＭＥ４２ｇを仕込み、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を９０℃まで昇温した。反応槽の温度が９０℃に安定してから、モノマー組成物および連鎖移動剤溶液を滴下した。モノマー組成物および連鎖移動剤溶液は、それぞれ温度を９０℃に保ちながら、１８０分間かけて滴下した。滴下が終了してから３０分後にＰＢＯ０．５ｇを加えた。さらに３０分後、反応槽を１１５℃に昇温した。１．５時間、１１５℃を維持した後、セパラブルフラスコにガス導入管を付け、酸素／窒素＝５／９５（ｖ／ｖ）混合ガスのバブリングを開始した。次いで、反応槽に、ＧＭＡ６９ｇ、重合禁止剤として６−ｔｅｒｔ−ブチル−２，４−キシレノール（商品名「トパノール」、東京化成工業社製）０．３ｇ、触媒としてＤＭＢＡ０．５ｇ、ＰＧＭＥＡ１６ｇ、ＰＧＭＥ６ｇを仕込み、１１０℃で１時間、１１５℃で８時間反応させた。その後、室温まで冷却し、アクリル系樹脂３９．６重量％を含む共重合体溶液（Ａ−１７）を得た。アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は１８５００、酸価は５５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0101】

［実施例１］
上記共重合体溶液（Ａ−１）８９ｇ（すなわち、アクリル系樹脂３５ｇ）、多官能モノマーとしてトリペンタエリスリトールオクタアクリレート（商品名「ビスコート＃８０２」、大坂有機化学社製）６５ｇ、および波長２９０ｎｍ〜３８０ｎｍに極大吸収波長を有する光重合開始剤（第１の光重合開始剤）として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルホリノ−プロパン−１−オン（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７」、ＢＡＳＦジャパン社製）１．７５ｇ、波長２３０ｎｍ〜２９０ｎｍに極大吸収波長を有する光重合開始剤（第２の光重合開始剤）として２−ヒドロキシ−１−{４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル}−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１２７」、ＢＡＳＦジャパン社製、）０．２５ｇ、ＵＶ吸収剤として２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（商品名「ＳＥＥＳＯＲＢ７０７」、シプロ化成社製、以下ＳＢ７０７という）０．５ｇの混合物に、固形分濃度が３５重量％となるようにＰＧＭＥＡを加え、孔径０．５μｍのフィルタでろ過し、フォトスペーサー用感光性樹脂組成物を調製した。
１０ｃｍ角のガラス基板上に、上記感光性樹脂組成物をスピンコーターにより塗布し、オーブンで８０℃で３分間乾燥した。乾燥後、塗膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置して２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを装着したＵＶアライナ（商品名「ＴＭＥ−１５０ＲＮＳ」、ＴＯＰＣＯＮ社製）によって５０ｍＪ／ｃｍ^２の強度（３６５ｎｍ照度換算）で紫外線を照射した。紫外線照射後、塗膜に０．０５％の水酸化カリウム水溶液をスピン現像機にて４０秒間散布し、未露光部を溶解、除去し、残った露光部を純水で１０秒間水洗することにより現像して、円柱状のフォトスペーサーを形成した。現像残渣の有無を確認し（評価（４））、得られたフォトスペーサーを上記評価（５）〜（１０）に供した。結果を表２に示す。

【0102】

［実施例２〜２７］
感光性樹脂組成物の組成を表２に示す組成とした以外は、実施例１と同様にしてフォトスペーサーを形成し、実施例１と同様の評価に供した。結果を表２に示す。
なお、表２中、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学社製）を「ＤＰＨＡ」と、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（共栄社化学社製）を「ＰＥＴＡ」と表記する。
ＵＶ吸収剤については、表２において、ＢＡＳＦジャパン社製の商品名「チヌビン４７９」を「Ｔ４７９」と表記する。
第２の光重合開始剤については表２において、ＢＡＳＦジャパン社製の商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）２９５９」を「Ｉ２９５９」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４」を「Ｉ１８４」と表記する。

【0103】

［比較例１〜５］
感光性樹脂組成物の組成を表３に示す組成とした以外は、実施例１と同様にしてフォトスペーサーを形成し、実施例１と同様の評価に供した。結果を表３に示す。
光重合開始剤については表３において、ＢＡＳＦジャパン社製の商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１」を「Ｉ６５１」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９」を「Ｉ８５１」と表記する。なお、「Ｉ６５１」および「Ｉ８１９」は、波長２３０ｎｍ〜２９０ｎｍに極大吸収波長を有さない。

【0104】

【表2】

【0105】

【表3】

【0106】

表２および３から明らかなように、本発明のフォトスペーサーは、径と機械的特性のバランスに優れ、圧縮率、弾性回復率および破壊強度に優れる。

【産業上の利用可能性】

【0107】

本発明のフォトスペーサーは、液晶セルのスペーサーとして好適に利用することができる。

【符号の説明】

【0108】

１０、２０ フォトスペーサー

【図1】

【図2】