(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
第一盤体と、前記第一盤体に対して軸線方向に所定間隔をあけて対向配置され、前記軸線回りに相対回転可能且つ前記軸線方向に移動可能な第二盤体と、を備え、前記第一盤体と前記第二盤体との間に被加工球体を挟持した状態で、前記第一盤体の前記軸線方向の加速度を検出し、検出した前記加速度に基づいて、前記第一盤体および前記第二盤体を前記軸線回りに相対回転させるとともに前記第二盤体を前記軸線方向に移動させて前記被加工球体を研磨加工する球体研磨方法であって、
前記検出した加速度を入力して加速度振幅を求める工程と、
予め求めた前記加速度振幅と前記被加工球体の真球度との相関関係を真球度データとして記憶する工程と、
記憶した前記真球度データを読み出し、求めた前記加速度振幅が設定値に達したとき、
前記被加工球体の研磨加工を停止する工程と、を備える、球体研磨方法。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上述の特許文献1に記載の球体研磨装置では、作業者が加工途中の被加工球体を取り出して球径測定装置にセットする必要があるため、手間が掛かるものとなっている。一方、特許文献2に記載の球体研磨装置では、被加工球体の直径が所定値になるまで自動的に加工することが可能であるが、具体的な手段や方法が記載されておらず、実現は困難である。さらに、特許文献2には、被加工球体の真球度については記載されていない。
【0006】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、被加工球体を真球度が所定値になるまで自動的に加工することができ、また被加工球体の直径が所定値になるまで自動的に加工することができる球体研磨装置および球体研磨方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
(球体研磨装置)
(請求項1)本発明の球体研磨装置は、第一盤体と、前記第一盤体に対して軸線方向に所定間隔をあけて対向配置され、前記軸線回りに相対回転可能且つ前記軸線方向
に移動可能な第二盤体と、前記第一盤体および前記第二盤体を相対回転させる回転手段と、前記第一盤体
に対して前記第二盤体を加圧によ
り移動させる移動手段と、前記第一盤
体の前記軸線方向
の加速度を検出する加速度検出手段と、前記第一盤体と前記第二盤体との間に被加工球体を挟持した状態で、検出した前
記加速度に基づいて、前記回転手段および前記移動手段の動作を制御し、前記第一盤体および前記第二盤体を前記軸線回りに相対回転させるとともに
前記第二盤体を前記軸線方向
に移動させて前記被加工球体を研磨加工する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記検出し
た加速度を入力して加速度振幅を求める加速度振幅演算手段と、予め求めた前記加速度振幅と前記被加工球体の真球度との相関関係を真球度データとして記憶する記憶手段と、前記記憶手段から前記真球度データを読み出し、前記加速度振幅演算手段で求めた前記加速度振幅が設定値に達したとき、前記被加工球体の研磨加工を停止する加工停止手段と、を備える。
【0008】
被加工球体の真球度にばらつきがある場合、第一盤体と第二盤体との間に挟持した被加工球体は回転して向きが変わるので、第一盤体と第二盤体とに働く力が変動して振動が発生する。この振動から求まる加速度振幅は、被加工球体の真球度が向上するにつれて小さくなる。そこで、加速度振幅が設定値に達したことを真球度データを参照することにより把握し、被加工球体の研磨加工を停止することにより、所定の真球度の被加工球体を得ることができる。
【0009】
(請求項2)前記球体研磨装置は
、前記第二盤体
の移動に伴う変位を検出する変位検出手段を備え、前記制御装置は、検出した前記変位を入力して所定位置からの変位を求め
る変位演算手段を備え、前記記憶手段は、予め求めた前記所定位置からの変位と前記被加工球体の研磨量との相関関係
を研磨量データとして記憶し、前記加工停止手段は、前記記憶手段から前
記研磨量データを読み出し、前
記変位演算手段で求めた前記所定位置からの変位が設定値に達したとき、前記被加工球体の研磨加工を停止するとよい。
【0010】
研磨加工前の被加工球体の直径から研磨量を減算することにより、研磨加工後の被加工球体の直径を得ることができる。そこで、所定位置からの変位が設定値に達したことを第一研磨量データを参照することにより把握し、被加工球体の研磨加工を停止することにより、所定の研磨量の被加工球体を得ることができる。
【0013】
(球体研磨方法)
(請求項
3)本発明の球体研磨方法は、第一盤体と、前記第一盤体に対して軸線方向に所定間隔をあけて対向配置され、前記軸線回りに相対回転可能且つ前記軸線方向に移動可能な第二盤体と、を備え、前記第一盤体と前記第二盤体との間に被加工球体を挟持した状態で、前記第一盤体の前記軸線方向の加速度を検出し、検出した前記加速度に基づいて、前記第一盤体および前記第二盤体を前記軸線回りに相対回転させるとともに前記第二盤体を前記軸線方向に移動させて前記被加工球体を研磨加工する球体研磨方法であって、前記検出した加速度を入力して加速度振幅を求める工程と、予め求めた前記加速度振幅と前記被加工球体の真球度との相関関係を真球度データとして記憶する工程と、記憶した前記真球度データを読み出し、求めた前記加速度振幅が設定値に達したとき、前記被加工球体の研磨加工を停止する工程と、を備える。これにより、上述した請求項1の球体研磨装置における効果と同様の効果を奏する。
【0014】
(請求項
4)前記球体研磨方法は、前記第二盤体の移動に伴う所定位置からの変位を求める工程と、予め求めた前記所定位置からの変位と前記被加工球体の研磨量との相関関係を研磨量データとして記憶する工程と、記憶した前記研磨量データを読み出し、求めた前記所定位置からの変位が設定値に達したとき、前記被加工球体の研磨加工を停止する工程と、を備えるとよい。これにより、上述した請求項2の球体研磨装置における効果と同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【
図1】第一実施形態に係る球体研磨装置の全体構成を示す一部断面図である。
【
図2】
図1の球体研磨装置の制御装置のブロック構成図である。
【
図3】
図1の球体研磨装置の動作を説明するためのフローチャートである。
【
図4】
図1の球体研磨装置の固定盤体に生じる加速度を説明するための図である。
【
図5】固定盤体の加速度振幅と被加工球体の真球度との相関関係を示す図である。
【
図6】第二実施形態に係る球体研磨装置の全体構成を示す一部断面図である。
【
図7】
図6の球体研磨装置の制御装置のブロック構成図である。
【
図8】
図6の球体研磨装置の動作を説明するためのフローチャートである。
【
図9】
図6の球体研磨装置の移動盤体に生じる変位を説明するための図である。
【
図10】移動盤体の変位と被加工球体の研磨量との相関関係を示す図である。
【
図11】第一実施形態の別形態の制御装置のブロック構成図である。
【
図12A】固定盤体に生じる加速度の経時変化を示す図である。
【
図13】第二実施形態の別形態の制御装置のブロック構成図である。
【
図14A】移動盤体に生じる変位の経時変化を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
<第一実施形態>
(球体研磨装置の機械構成)
第一の実施形態の球体研磨装置1の機械構成について
図1を参照して説明する。この球体研磨装置1は、例えば、鋼球、セラミックス球等の複数の被加工球体Wの表面を研磨する装置であり、被加工球体Wの真球度が所定値に達したら自動的に研磨加工を停止できる装置である。
図1に示すように、この球体研磨装置1は、固定盤体2(本発明の「第一盤体」に相当)と、移動盤体3(本発明の「第二盤体」に相当)と、回転装置4と、移動装置5と、加速度検出センサ6と、制御装置7等とから概略構成される。
【0017】
固定盤体2は、円盤状に形成された台座21と、台座21と略同一径の円盤状に形成され、台座21の端面に貼着された砥石22等とを備える。固定盤体2は、回転軸線L回りの回転および回転軸線L方向の移動が不可なように、台座21が固定台10に固定配置されている。砥石22は、例えば、白色アルミナ系砥粒をレジンボンドで固めて形成され、砥石表面には複数の同心の円環溝部23が形成されている。円環溝部23の径方向断面形状は、被加工球体Wの径方向断面形状である円形状のうち半円分より若干小さい部分が収まる円弧凹形状に形成されている。円環溝部23には、複数の被加工球体Wが並べて配置される。
【0018】
移動盤体3は、固定盤体2の台座21と略同一形の円盤状に形成された台座31と、台座31と略同一径の円盤状に形成され、台座31の端面に貼着された砥石32等とを備える。移動盤体3は、回転軸線L回りの回転および回転軸線L方向の移動が可能なように、台座31が移動装置5に連結された回転装置4に取り付けられている。砥石32は、固定盤体2の砥石22と同一材料で同一形状に形成されている。そして、移動盤体3の砥石32は、固定盤体2の砥石22に対して回転軸線L方向に所定間隔をあけて対向配置されている。移動盤体3は、円環溝部33で固定盤体2の円環溝部23に並べて配置される複数の被加工球体Wを挟持する。
【0019】
回転装置4は、電気モータ41と、モータケース42等とを備える。電気モータ41のモータ軸41aは、移動盤体3の台座31の砥石貼着面とは反対側の端面に、モータ軸41aの軸線と移動盤体3の回転軸線Lとが一致するように取り付けられている。モータケース42は、ケース外部にモータ軸41aが突出するようにケース内部に電気モータ41が収納固定され、固定台10に固定配置されている。電気モータ41のモータ軸41aの回転により、移動盤体3は固定盤体2に対して回転軸線L回りに回転可能となっている。
【0020】
移動装置5は、油圧シリンダ51と、油圧供給装置52等とを備える。油圧シリンダ51のロッド51aは、モータ軸41aが突出しているモータケース42の壁面と対向する壁面に、ロッド51aの軸線と移動盤体3の回転軸線Lとが一致するように取り付けられている。油圧供給装置52は、油圧シリンダ51に接続されて油圧をシリンダ内に供給する。油圧シリンダ51のロッド51aの伸縮により、移動盤体3は固定盤体2に対して回転軸線L方向に移動可能となっている。
【0021】
加速度検出センサ6は、例えば、ピエゾ抵抗等を利用した一般的なセンサであり、固定盤体2の台座21の砥石貼着面とは反対側の端面に取り付けられている。この加速度検出センサ6は、被加工球体Wを研磨加工しているときの固定盤体2の加速度を検出する。なお、加速度検出センサ6は、回転する移動盤体3ではなく固定配置されている固定盤体2に取り付ける方が簡易であるため本実施形態では採用しているが、スリップリングを介することにより、回転する移動盤体3に対しても取り付けることができる。
【0022】
制御装置7は、固定盤体2の円環溝部23と移動盤体3の円環溝部33との間に挟持された状態の被加工球体Wを、回転装置4および移動装置5の動作を制御し、移動盤体3を固定盤体2に対して回転軸線L回りに回転および回転軸線L方向に移動させることにより研磨加工を行う。
【0023】
(制御装置の構成)
図2に示すように、制御装置7は、加速度入力部71と、加速度振幅演算部72と、記憶部73と、加工停止部74と、回転制御部75と、油圧制御部76等とを備えて構成される。ここで、各部71〜76は、それぞれ個別のハードウエアにより構成することもできるし、ソフトウエアによりそれぞれ実現する構成とすることもできる。
【0024】
加速度入力部71は、加速度検出センサ6と接続され、加速度検出センサ6からの固定盤体2の加速度検出信号を入力する。
加速度振幅演算部72は、加速度入力部71からの固定盤体2の加速度に基づいて、固定盤体2の加速度振幅を演算する。
【0025】
記憶部73には、予め求めた固定盤体2の加速度振幅と被加工球体Wの真球度との相関関係が真球度データとして記憶されている。固定盤体2と移動盤体3とに挟持されている被加工球体Wは、研磨加工前は真球度が低く、
図4に示すように、例えば楕円体の形状となっている。このような楕円体の被加工球体Wは、研磨加工中は図中実線から一点鎖線で示すように回転して方向が変化、すなわち長軸が移動盤体3の移動方向を向いたり当該移動方向と直角な方向を向いたりする。これにより、固定盤体2と移動盤体3とに働く力Fは変動するので振動が発生する。
【0026】
すなわち、複数の被加工球体Wの真球度のばらつきが大きい場合、固定盤体2の回転軸線L方向の変位の振幅が大きくなるため、固定盤体2の加速度振幅も大きくなる。一方、複数の被加工球体Wの真球度のばらつきが小さい場合、固定盤体2の回転軸線L方向の変位の振幅が小さくなるため、固定盤体2の加速度振幅も小さくなる。そこで、固定盤体2の加速度振幅と被加工球体Wの真球度との相関関係を、
図5に示すような真球度データとして予め求めておくことにより、被加工球体Wの真球度を所定値にすることができる。
【0027】
加工停止部74は、記憶部73から真球度データを読み出し、加速度振幅演算部72で求めた固定盤体2の加速度振幅が設定値、すなわち狙いとする被加工球体Wの真球度に対応する加速度振幅に達したとき、被加工球体Wの研磨加工を停止する。
回転制御部75は、回転装置4の電気モータ41の回転を開始し、移動盤体3を固定盤体2に対して回転軸線L回りに一定速度で回転させ、また、加工停止部74からの研磨加工中止指令を入力したら、電気モータ41の回転を停止する。
【0028】
油圧制御部76は、移動装置5の油圧供給装置52の油圧供給を開始し、移動盤体3を固定盤体2に対して接近する回転軸線L方向に一定圧力で移動させ、また、加工停止部74からの研磨加工中止指令を入力したら、油圧供給装置52の油圧供給を停止する。
なお、回転装置4および回転制御部75等が、本発明の「回転手段」に相当し、移動装置5および油圧制御部76等が、本発明の「移動手段」に相当し、加速度検出センサ6および加速度入力部71等が、本発明の「加速度検出手段」に相当する。
【0029】
(研磨加工の動作)
次に、制御装置7による被加工球体Wの研磨加工の動作を
図3のフローチャートを参照して説明する。ここで、複数の被加工球体Wは、
図1に示すように、予め作業者により固定盤体2の円環溝部23内に並べて配置された後、固定盤体2の円環溝部23と移動盤体3の円環溝部33とに挟持されているものとする。
【0030】
先ず、
図3に示すように、回転装置4および移動装置5を起動する(ステップS1)。すなわち、回転制御部75は、回転装置4の電気モータ41の回転を開始し、移動盤体3を固定盤体2に対して回転軸線L回りに一定速度で回転させる。さらに、油圧制御部76は、移動装置5の油圧供給装置52の油圧供給を開始し、移動盤体3を固定盤体2に対して接近する回転軸線L方向に一定圧力で移動させる。これにより、固定盤体2の円環溝部23と移動盤体3の円環溝部33とに挟持されている複数の被加工球体Wの研磨加工が開始される。
【0031】
次に、固定盤体2の加速度を検出し(ステップS2)、固定盤体2の加速度振幅を演算する(ステップS3)。すなわち、加速度入力部71は、加速度検出センサ6からの固定盤体2の加速度検出信号を入力する。加速度振幅演算部72は、加速度入力部71からの固定盤体2の加速度に基づいて、固定盤体2の加速度振幅を演算する。
そして、固定盤体2の加速度振幅が所定値に達したか否かを判断する(ステップS4)。すなわち、加工停止部74は、記憶部73から真球度データを読み出し、加速度振幅演算部72で求めた固定盤体2の加速度振幅が設定値、すなわち狙いとする被加工球体Wの真球度に対応する加速度振幅に達したか否かを判断する。
【0032】
そして、固定盤体2の加速度振幅が所定値に達していないときは、ステップS2に戻って上述の処理を繰り返す。一方、固定盤体2の加速度振幅が所定値に達したときは、回転装置4および移動装置5の動作を停止し(ステップS5)、全ての処理を終了する。すなわち、加工停止部74は、記憶部73から真球度データを読み出し、加速度振幅演算部72で求めた固定盤体2の加速度振幅が設定値に達したとき、被加工球体Wの研磨加工を停止する指令を回転制御部75および油圧制御部76に出力する。回転制御部75は、加工停止部74からの研磨加工中止指令を入力したら、電気モータ41の回転を停止し、油圧制御部76は、加工停止部74からの研磨加工中止指令を入力したら、油圧供給装置52の油圧供給を停止する。
【0033】
(研磨加工による効果)
被加工球体Wの真球度にばらつきがある場合、固定盤体2と移動盤体3との間に挟持した被加工球体Wは回転して向きが変わるので、固定盤体2と移動盤体3とに働く力が変動して振動が発生する。この振動から求まる加速度振幅は、被加工球体Wの真球度が向上するにつれて小さくなる。第一実施形態の球体研磨装置1によれば、加速度振幅が設定値に達したことを真球度データを参照することにより把握し、被加工球体の研磨加工を停止するようにしているので、所定の真球度の被加工球体Wを得ることができる。
【0034】
<第二実施形態>
(球体研磨装置の機械構成および制御装置の構成)
第二の実施形態の球体研磨装置11の機械構成および制御装置8の構成について
図1および
図2に対応させて示す
図6および
図7を参照して説明する。なお、
図6および
図7において、
図1および
図2の第一の実施形態の球体研磨装置1および制御装置7と同一の構成は同一番号を付してその詳細な説明を省略する。
【0035】
この球体研磨装置11は、例えば、鋼球、セラミックス球等の被加工球体Wの表面を研磨する装置であり、被加工球体Wの研磨量が所定値に達したら自動的に研磨加工を停止できる装置である。
図6に示すように、この球体研磨装置11は、
図1の球体研磨装置1に備えられていた加速度検出センサ6の代わりに、変位検出センサ16を備えた構成となっている。また、
図7に示すように、この制御装置8は、
図1の制御装置7に備えられていた加速度入力部71および加速度振幅演算部72の代わりに、変位入力部81および変位演算部82(本発明の
「変位演算手段」に相当)を備えた構成となっている。
【0036】
変位検出センサ16は、例えば、コイルの誘起電圧等を利用した一般的なセンサであり、移動盤体3の台座31の砥石貼着面とは反対側の端面に取り付けられている。この変位検出センサ16は、被加工球体Wを研磨加工しているときの移動盤体3の変位を検出する。
【0037】
変位入力部81は、変位検出センサ16と接続され、変位検出センサ16からの移動盤体2の変位検出信号を入力する。
変位演算部82は、油圧供給装置52からの油圧信号が所定値になったときを加圧開始位置(本発明の「所定位置」に相当)とし、変位入力部81からの移動盤体2の変位に基づいて、移動盤体2の加圧開始位置からの変位を演算する。
【0038】
記憶部73には、予め求めた移動盤体2の変位と被加工球体Wの研磨量との相関関係が研磨量データ(本発明の
「研磨量データ」に相当)として記憶されている。固定盤体2と移動盤体3とに挟持されている被加工球体Wは、
図9に示すように、研磨加工前は直径Dが大きく、研磨加工が進むに従って直径dは小さくなる。すなわち、被加工球体Wの研磨加工前の直径Dを研磨加工後に狙いとする直径dにするには、(D−d)の研磨量を研磨加工すればよい。そこで、移動盤体2の変位と被加工球体Wの研磨量との相関関係を、
図10に示すような研磨量データとして予め求めておくことにより、被加工球体Wの研磨量を所定値、すなわち被加工球体Wの直径を所定値にすることができる。なお、変位検出センサ16および変位入力部81等が、本発明の「変位検出手段」に相当する。
【0039】
(研磨加工の動作)
次に、制御装置8による被加工球体Wの研磨加工の動作を
図3に対応させて示す
図8を参照して説明する。なお、
図8において、
図3の第一の実施形態の球体研磨装置1の研磨加工動作と同一のステップは同一番号を付してその詳細な説明を省略する。
【0040】
先ず、
図8に示すように、回転装置4および移動装置5を起動する(ステップS1)。次に、移動盤体3の変位を検出し(ステップS12)、移動盤体3の加圧開始位置からの変位を演算する(ステップS13)。すなわち、変位入力部81は、変位検出センサ16からの移動盤体3の変位検出信号を入力する。変位演算部82は、油圧供給装置52からの油圧信号が所定値になったときを加圧開始位置とし、変位入力部81からの移動盤体2の変位に基づいて、移動盤体2の加圧開始位置からの変位を演算する。
【0041】
そして、移動盤体3の加圧開始位置からの変位が所定値、すなわち狙いとする被加工球体Wの研磨量に対応する変位に達したか否かを判断する(ステップ14)。すなわち、加工停止部74は、記憶部73から研磨量データを読み出し、変位演算部82で求めた移動盤体3の加圧開始位置からの変位が設定値に達したか否かを判断する。そして、移動盤体3の加圧開始位置からの変位が所定値に達していないときは、ステップ2に戻って上述の処理を繰り返す。一方、移動盤体3の加圧開始位置からの変位が所定値に達したときは、回転装置4および移動装置5の動作を停止し(ステップS5)、全ての処理を終了する。
【0042】
(研磨加工による効果)
研磨加工前の被加工球体Wの直径から研磨量を減算することにより、研磨加工後の被加工球体Wの直径を得ることができる。第二実施形態の球体研磨装置11によれば、所定位置からの変位が設定値に達したことを第一研磨量データを参照することにより把握し、被加工球体の研磨加工を停止するようにしているので、所定の研磨量の被加工球体Wを得ることができる。
【0043】
(第一実施形態の制御装置の別形態)
第一実施形態では、固定盤体2に取り付けられた加速度検出センサ6からの固定盤体2の加速度振幅により被加工球体Wの真球度を判断する制御装置7としたが、加速度検出センサ6をスリップリングを介して移動盤体3に取り付け、この加速度検出センサ6からの移動盤体3の加速度に基づいて移動盤体3の変位を求め、第二実施形態の制御装置8のように、求めた移動盤体3の変位により被加工球体Wの研磨量を判断する制御装置9としてもよい。なお、記憶部73には、予め求めた移動盤体2の変位と被加工球体Wの研磨量との相関関係を研磨量データ(本発明の「第二研磨量データ」に相当)として記憶しておく。
【0044】
すなわち、
図11に示すように、制御装置9は、
図2に示す制御装置7の構成に、さらに変位演算部91(本発明の「第二変位演算手段」に相当)を加えた構成とする。この変位演算部91は、加速度入力部71から移動盤体3の加速度を入力し(
図12A参照)、入力した加速度を時間積分することにより移動盤体3の速度を演算し(
図12B参照)、演算した速度をさらに時間積分することにより移動盤体3の変位を演算する(
図12C参照)。これにより、第一および第二実施形態の制御装置7,8と同様の動作を行うことができ、同様の効果を得ることができる。
【0045】
(第二実施形態の制御装置の別形態)
第二実施形態では、移動盤体3に取り付けられた変位検出センサ16からの移動盤体3の加圧開始位置からの変位により被加工球体Wの研磨量を判断する制御装置8としたが、変位検出センサ16からの移動盤体3の加圧開始位置からの変位に基づいて移動盤体3の加速度を求め、第一実施形態の制御装置7のように、求めた移動盤体3の加速度により被加工球体Wの真球度を判断する制御装置10としてもよい。
【0046】
すなわち、
図13に示すように、制御装置10は、
図7に示す制御装置8の構成に、さらに加速度振幅演算部11を加えた構成とする。この加速度振幅演算部11は、変位入力部81から移動盤体3の変位を入力し(
図14A参照)、入力した変位を時間微分することにより移動盤体3の速度を演算し(
図14B参照)、演算した速度をさらに時間微分することにより移動盤体3の加速度を演算する(
図14C参照)。これにより、第一および第二実施形態の制御装置7,8と同様の動作を行うことができ、同様の効果を得ることができる。
【0047】
(その他)
上述の実施形態では、加速度検出センサ6を備えた球体研磨装置1と、変位検出センサ16を備えた球体研磨装置11とを説明したが、加速度検出センサおよび変位検出センサを備えた球体研磨装置としてもよい。